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26億一臺(tái)！ASML全新光刻機(jī)準(zhǔn)備中：Intel提前鎖定 沖擊2nm工藝

  • 對(duì)于芯片廠商而言，光刻機(jī)顯得至關(guān)重要，而ASML也在積極布局新的技術(shù)。據(jù)外媒報(bào)道稱，截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個(gè)EUV系統(tǒng)，約曝光7000萬個(gè)晶圓已曝光。按照官方的說法，新型號(hào)的EUV光刻機(jī)系統(tǒng) NXE:3600D將能達(dá)到93%的可用性，這將讓其進(jìn)一步接近DUV光刻機(jī)（95%的可用性）。數(shù)據(jù)顯示，NXE:3600D系統(tǒng)每小時(shí)可生產(chǎn)160個(gè)晶圓 (wph)，速度為30mJ/cm，這比 NXE:3400C高18%。二正在開發(fā)的 NXE:3800E系統(tǒng)最初將以30mJ/cm的速度提供大過1
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不擠藥膏了？Intel與臺(tái)積電合作開發(fā)2nm工藝

  • 我們都知道，在2021年Intel在半導(dǎo)體芯片上進(jìn)行了戰(zhàn)略轉(zhuǎn)變，除了自建工廠生產(chǎn)自家處理器之外，還要重新進(jìn)入代工市場(chǎng)，同時(shí)也加強(qiáng)與晶圓代工廠的合作，此前有消息稱他們已經(jīng)拿了臺(tái)積電3nm一半產(chǎn)能，現(xiàn)在又要跟臺(tái)積電合作開發(fā)2nm工藝。爆料這一消息的是Northland分析師Gus Richard，它日前發(fā)布報(bào)告，將Intel目標(biāo)股價(jià)上調(diào)到62美元，并給出優(yōu)于指數(shù)的評(píng)級(jí)，看好Intel未來發(fā)展。根據(jù)他的說法，Intel不僅可能會(huì)將3nm制程工藝交給臺(tái)積電代工，同時(shí)也開始跟臺(tái)積電討論合作開發(fā)2nm工藝。不過這一說
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臺(tái)積電CEO：2nm工藝已有先導(dǎo)規(guī)劃

  • 近日，全球第一大晶圓代工廠臺(tái)積電舉行了公司成立33周年慶典，董事長(zhǎng)、聯(lián)席CEO劉德音談到了臺(tái)積電的先進(jìn)工藝規(guī)劃，最先進(jìn)的2nm工藝也進(jìn)入了先導(dǎo)規(guī)劃中，明年則會(huì)量產(chǎn)5nm工藝。
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2nm工藝介紹

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