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鎧俠即將發(fā)布三大創(chuàng)新研究成果
- 自鎧俠官網獲悉,鎧俠(Kioxia)宣布其多項創(chuàng)新研究成果,將于今年12月7日至11日在美國舊金山舉行的IEEE國際電子器件大會(IEDM)上發(fā)表。聲明中稱,鎧俠旨在不斷創(chuàng)新以滿足未來計算和存儲系統(tǒng)的需求。此次發(fā)布包括以下三大創(chuàng)新技術:氧化物半導體通道晶體管DRAM(OCTRAM):該技術由鎧俠聯(lián)合南亞科技共同開發(fā),通過改進制造工藝,開發(fā)出一種垂直晶體管,提高了電路集成度。OCTRAM技術有望大幅降低DRAM的功耗,使其在人工智能、5G通信等領域具有廣闊的應用前景。高容量交叉點MRAM(磁阻隨機存取存儲器
- 關鍵字: 鎧俠 存儲技術 DRAM MRAM 3D堆疊
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