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應(yīng)用材料公司談450mm晶圓規(guī)格轉(zhuǎn)換

  •   應(yīng)用材料公司的CEO Mike Splinter在公司的二季度財(cái)報(bào)會(huì)議上表示,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)內(nèi)向450mm晶圓規(guī)格的轉(zhuǎn)換過(guò)程將在2015-2017年間啟動(dòng),他并提醒半導(dǎo)體制造商們要注意避免在從300mm規(guī)格轉(zhuǎn)向450mm規(guī)格時(shí)可能會(huì)出現(xiàn)的一些問(wèn)題。在這次財(cái)報(bào)會(huì)議上,他表示應(yīng)用材料公司明年將開(kāi)始加速發(fā)展450mm規(guī)格有關(guān)的制造用設(shè)備研發(fā)工作。
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聯(lián)電公布技術(shù)發(fā)展圖 質(zhì)疑450mm晶圓可行性

  •   在設(shè)計(jì)自動(dòng)化會(huì)議(DesignAutomationConference,DAC)上,臺(tái)灣代工廠商聯(lián)電(UMC)公布了公司的工藝發(fā)展路線圖,并宣布與EDA領(lǐng)域形成聯(lián)盟關(guān)系。     與代工龍頭廠商臺(tái)積電(TSMC)不同,全球第二大代工廠商聯(lián)電(UMC)表示,不開(kāi)發(fā)下一代450mm晶圓技術(shù)。   聯(lián)電的65nm技術(shù)已啟動(dòng)了一段時(shí)間,公司將立即進(jìn)入45nm和40nm節(jié)點(diǎn)。其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電也正在將高k金屬柵方案用于32nm節(jié)點(diǎn)。   聯(lián)電的45/40nm工藝采用多層金屬、銅互連和超低k介質(zhì)等
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450mm晶圓介紹

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