首頁　 資訊　 商機 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊 　 Datasheet　 100例 　 活動中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> euv設(shè)備

2010決勝年　ASML 主攻38納米、EUV設(shè)備

  • 　　全球最大半導(dǎo)體微顯影設(shè)備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當多，但主是來自半導(dǎo)體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴充的需求，半導(dǎo)體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導(dǎo)體制程，摩爾定律預(yù)料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進的浸潤式微顯影機種來看，新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨，未來將快速增加出貨，同時深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單，對ASML來說2010年將是極重要的一年。 　　ASML NXT技術(shù)平臺資深經(jīng)理Frank van de Mast指出，XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
  • 關(guān)鍵字： ASML  38納米  EUV設(shè)備  
共1條 1/1 1

euv設(shè)備介紹

您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條euv設(shè)備!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對euv設(shè)備的理解，并與今后在此搜索euv設(shè)備的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關(guān)于我們 - 廣告服務(wù) - 企業(yè)會員服務(wù) - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473