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用于醫(yī)療和光譜應用的改進型深紫外光光纖

  • 　　1 深UV應用光纖的曝曬風險 　　用于梯度折射率光纖的純硅芯材料易于受到UV引發(fā)衰減的影響。UV輻射引起玻璃結構中局部缺陷中心的增加，使得衰減增加，這個情況稱為曝曬 (solarization)。大多數(shù)衰減發(fā)生在小于275 nm的波長范圍，以及214nm和265 nm的吸收頻帶。損壞程度隨光纖類型而有很大的變化，例如，在常見的梯度折射率光纖中，用作內(nèi)核材料的合成石英玻璃是極純的材料，卻存在著數(shù)種濃度不同的內(nèi)在雜質(zhì)缺陷，而且入射的UV輻射會引起某些硅氧結構的缺陷。每種缺陷的濃度取決于數(shù)個因素，包括預制
  • 關鍵字： 光纖  UVM  FDP  UV輻射  曝曬  

Molex子公司Polymicro改進用于深紫外線應用的FDP光纖產(chǎn)品

  • 全球領先的全套互連產(chǎn)品供應商Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣布提升其FDP光纖產(chǎn)品，最新的性能提升改進了光纖產(chǎn)品在深紫外線應用(190nm - 325nm)中的曝曬。
  • 關鍵字： Molex  FDP  光纖  
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