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KLA-TENCOR 推出用于測量等離子室效應的 PLASMAVOLT X2

  • 　　KLA-Tencor 公司日前推出了 PlasmaVolt X2，可用于在半導體晶圓處理系統(tǒng)中測量等離子室的狀況。由于增加了內(nèi)嵌式傳感器數(shù)量，且空間分辨率得到改善，PlasmaVolt X2 對各種參數(shù)的變化極為敏感，例如無線電頻率 (RF) 功率、氣流、磁場及等離子室設計。這種等離子行為測量和特征化系統(tǒng)能改善生產(chǎn)環(huán)境中的等離子室配對、機臺檢驗、系統(tǒng)故障排除及工藝開發(fā)。  　　KLA-Tencor 的 SensArray 分部高級副總裁兼總經(jīng)理 Larry Wagner 表示：&ldquo
  • 關鍵字： KLA-TENCOR  PLASMAVOLT  
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