cmp 文章 進入cmp技術社區(qū)
CMP設備控制軟件的模塊規(guī)劃及可視化技術
- 1 引言 隨著硅片直徑的不斷增大和圖形線寬的急劇縮小,IC加工工藝對硅片的平整度要求越來越高?;瘜W機械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)是目前滿足硅片圖形加工性能和速度要求的最有效加工方法。國內在大直徑硅片加工設備方面的研究幾乎仍是空白,對于大直徑(≥300 mm)硅片的超精密加工技術與設備的研究甚少。結合目前對于高拋光生產率的要求,進行多工位拋光機的開發(fā)勢在必行。圖1所示為自行研制的三工位CMP機床的平面示意圖。該三工位直線軌道式拋光機具有如下特點:
- 關鍵字: CMP
羅門哈斯開設亞洲技術中心,為尖端CMP應用提供支持
- 面向全球半導體行業(yè)的化學機械研磨(CMP)技術領導和創(chuàng)新者羅門哈斯電子材料公司(Rohm and Haas Electronic Materials)(NYSE:ROH)研磨技術(CMP Technologies)事業(yè)部今天宣布在臺灣新竹開設新的亞洲技術中心(Asia Technical Center,簡稱ATC)。該中心將有助于研磨技術事業(yè)部(CMP Technologies)更加密切地與亞洲地區(qū)的客戶合作,幫助其優(yōu)化先進的化學機械研磨(CMP)工藝和耗材套件,同時還為整個亞太地區(qū)提供工程和技術支
- 關鍵字: 半導體 羅門哈斯 CMP
意法半導體通過CMP為科研機構和設計公司提供45納米互補金屬氧化物半導體制造工藝
- 意法半導體和CMP (Circuits Multi Projects ?) 宣布,通過CMP提供的硅中介服務,大學、科研院所和公司可以使用意法半導體的45納米互補金屬氧化物半導體(CMOS)制造工藝進行原型設計。這項消息在巴黎舉行的CMP用戶年會上發(fā)布,會中集結了采用CMP多項目晶片服務的大學院校、科研機構或私營企業(yè)的代表。通過CMP的服務,他們可以委托芯片廠商小批量制造幾十個到幾千個的先進集成電路。 45納米CMOS工藝的推出,是延續(xù)ST與CMP授權大學使用上一代65納米和90納米CM
- 關鍵字: 意法半導體 CMP CMOS 200802
關于我們 -
廣告服務 -
企業(yè)會員服務 -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473