ASML德國工廠起火，產(chǎn)線損失未知

1月3日，路透社消息，芯片光刻機(jī)龍頭ASML周一表示，其在德國柏林的一家工廠發(fā)生火災(zāi)。廠房部分區(qū)域受損，自動清洗設(shè)備噴灑了約200平方公尺。好在暫時無人傷亡， 但是詳細(xì)損失及產(chǎn)能規(guī)模的影響還需要評估。

據(jù)柏林市消防單位稱，廠房的生產(chǎn)設(shè)備目前不可用，火災(zāi)原因和損失程度仍在調(diào)查中。

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起火工廠

前身是ASML的供應(yīng)商Berliner Glas

隨后，ASML也在官網(wǎng)公布了關(guān)于該工廠的火災(zāi)消息，從官網(wǎng)的信息來看，發(fā)生火災(zāi)的工廠主要生產(chǎn)ASML的光刻機(jī)制造零件。

這家德國柏林的ASML工廠前身是Berliner Glas，為ASML的光刻機(jī)系統(tǒng)的零件制造和供應(yīng)工廠。，包括晶圓臺(wafer tables)、光罩盤(reticle chucks)、反射鏡(mirror blocks)等。 

ASML在2020年收購德商Berliner Glas，后者是光學(xué)、機(jī)械及電子系統(tǒng)解決方案的開發(fā)商及OEM(代工生產(chǎn))制造商，當(dāng)時并未公開收購金額。 該公司的銷售額為 2.3 億歐元（2.61 億美元）。

ASML表示，目前就損失或火災(zāi)是否會對今年的產(chǎn)出計劃產(chǎn)生任何影響發(fā)表任何聲明還為時過早，還需要幾天時間來評估損失，會盡快向市場提供最新消息。 

“目前就損害或該事件是否會對今年的產(chǎn)量計劃產(chǎn)生任何影響發(fā)表任何聲明還為時過早，”ASML 表示，并補(bǔ)充說評估損害需要幾天時間，并將盡快地公布。

不過，ASML 的股價，在傳出發(fā)生火災(zāi)之前持續(xù)維持上漲約1% 的態(tài)勢。但是，在傳出發(fā)生火災(zāi)事件之后，則是股價下跌約0.3% 幅度，來到每股704.4 歐元的價位。

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無法替代的ASML

目前全球半導(dǎo)體短缺，ASML 作為幾乎所有主要計算機(jī)芯片制造商的關(guān)鍵設(shè)備供應(yīng)商，替全球芯片制造商生產(chǎn)關(guān)鍵設(shè)備，擁有獨(dú)家極紫外光（EUV）微影設(shè)備，與臺積電、三星及英特爾都有密切合作關(guān)系，中國臺灣也設(shè)有相關(guān)部門，在臺員工人數(shù)初估達(dá)2000人。目前正在滿負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)，任何發(fā)貨延遲都會影響試圖擴(kuò)大產(chǎn)能的客戶。 

早前ASML CEO曾指出，疫情持續(xù)加速數(shù)字化轉(zhuǎn)型，為解決芯片缺貨問題，IDM廠、晶圓代工廠、存儲器廠均擴(kuò)大投資提高產(chǎn)能，且投資項目聚集在先進(jìn)制程產(chǎn)能，進(jìn)一步推動邏輯IC及DRAM的EUV設(shè)備強(qiáng)勁需求。ASML今年EUV設(shè)備產(chǎn)能約達(dá)45～50臺且供不應(yīng)求，明年預(yù)期將提高至55臺，且都將用于生產(chǎn)效率提升15％的新一代NXE: 3600D曝光機(jī)，新機(jī)臺在客戶晶圓廠每小時曝光產(chǎn)量（throughput）已達(dá)160片。

根據(jù)ASML召開分析師會議中資料，隨著邏輯IC制程明年跨入3納米世代，DRAM制程微縮至14納米以下，單片晶圓EUV曝光光罩層數(shù)正在快速提升，ASML預(yù)估先進(jìn)邏輯制程晶圓2021年EUV曝光層數(shù)平均已逾10層，至2023年將增加到逾20層，EUV光刻機(jī)未來幾年都會供不應(yīng)求，ASML的EUV光刻機(jī)訂單一路滿到2025年。

隨著EUV光刻技術(shù)變得越來越重要，ASML的優(yōu)勢也越發(fā)明顯。

不過，光刻機(jī)供貨商除阿斯麥之外，還有日本廠商尼康(Nikon)和佳能(CAJ.US)，這兩家在深紫外線(DUV，光源波長比EUV長)的光刻技術(shù)上能與ASML競爭，但ASML作為企業(yè)龍頭，在DUV光刻領(lǐng)域，也擁有62%的市場份額。

但是在EUV領(lǐng)域，只有ASML一家能生產(chǎn)。

此外，ASML的第一臺高NA EUV光刻機(jī)預(yù)計將在2023年開放早期訪問，2024年到2025年開放給客戶進(jìn)行研發(fā)并從2025年開始量產(chǎn)。據(jù)悉，相較于當(dāng)前0.33NA的EUV光刻機(jī)，0.55NA有了革命性進(jìn)步，它能允許蝕刻更高分辨率的圖案。分析師Alan Priestley稱，0.55NA光刻機(jī)一臺的價格會高達(dá)3億美元（約合19億元），是當(dāng)前0.33NA的兩倍。

有分析師表示，大火可能會限制ASML產(chǎn)量(至少在短期內(nèi))，從而阻礙計劃中的晶圓代工生產(chǎn)。