ASML市值超車LVMH,成為歐洲第二大上市公司
全球芯片制造設備龍頭阿斯麥(ASML)周三(5 日)歐洲股價漲逾 8%,市值達到 3770 億歐元(約 4100 億美元),超車法國奢侈品業(yè)巨擘酩悅軒尼詩-路易威登集團(LVMH)約 6.41 億歐元,成為歐洲第二大上市公司,僅次于丹麥制藥公司諾和諾德(Novo Nordisk)。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202406/460098.htm截稿前,ASML 美股 ADR 周三盤中上飆漲 9.35%,每股暫報 1,039.68 美元。
有外媒周三稍早報道,ASML 最大客戶臺積電將在今年底前接收高數(shù)值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV),推動前者股價上漲。這款最新的芯片制造設備是 ASML 迄今為止最強大的機器,每臺造價高達 3.5 億歐元。
對于 ASML 的投資人來說,這讓他們對未來的營收感到放心,因為臺積電先前曾對這臺機器的定價表示擔憂。自 4 月以來,ASML 股價一直在回落,此前該公司第一季業(yè)績顯示,頂尖芯片制造商推遲購買高端設備。
Jefferies 分析師 Janardan Menon 預估未來幾季將有大量訂單,將 ASML 股票評為「買入」(Buy)。他補充說,臺積電將在 2025 年下半年提高下一代 2nm 芯片的產量,但到目前為止,ASML 還沒有收到大單。
與此同時,由于擔心奢侈品銷售正在放緩,LVMH 的股價在過去一個月有所下跌。香奈兒(Chanel)最近警告,該奢侈品業(yè)將面臨艱難時期,開云集團(Kering SA)正在努力重振 Gucci 的命運。
ASML 將向臺積電、三星交付 High-NA EUV
媒體周三(5 日)報道,芯片制造設備商阿斯麥(ASML)今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數(shù)值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。
根據(jù)阿斯麥發(fā)言人透露,該公司財務長 Roger Dassen 在最近一次的電話會議上向分析師說,公司最大的三個客戶──臺積電、英特爾、三星──都將在今年年底前拿到 High-NA EUV。
報道指出,英特爾已經訂購最新的 High-NA EUV,已于去年 12 月把這臺機器運送到美國俄勒岡州的工廠。不過目前還不清楚臺積電何時會收到這臺阿斯麥的最新設備,臺積電一位代表僅表示雙方密切合作,拒絕進一步置評。
阿斯麥的這臺最新機器可以用只有 8nm 厚的線來印壓半導體──較上一代機器還要小 1.7 倍──將用來生產替人工智能(AI)應用和先進消費電子產品的芯片。
High-NA EUV 造價不斐,一臺價格為 3.5 億歐元(約 3.8 億美元)而且重量相當兩臺空中巴士的 A320 飛機。對于如此昂貴價格的機器,臺積電業(yè)務開發(fā)資深副總裁張曉強(Kevin Zhang)上月曾在阿姆斯特丹的一次活動上表示太貴,而且將于 2026 年底前推出的 A16 節(jié)點技術不需使用到 High-NA EUV,可以依賴現(xiàn)有的極紫外光曝光機(extreme ultraviolet)。
盡管如此,臺積電一直是阿斯麥 High-NA EUV 計劃的積極參與者。包括 Janardan Menon 在內的 Jefferies 分析師表示,他們預估臺積電將在 2028 年在 A14 節(jié)點上使用 High-NA EUV。分析師在與 Dassen 的電話會議后表示,阿斯麥仍認為 2025 年營收可能處于指導區(qū)間的上半部。
Jefferies 分析師表示,在今年剩下的三個季度里,阿斯麥的平均訂單可能在 57 億歐元左右,這將使 2025 年的銷售額達到 400 億歐元。
英特爾將購買 10 臺 High-NA EUV 中的 6 臺
根據(jù) TrendForce 集邦咨詢的一份報告,英特爾成為 2023 年第一家從 ASML 獲得 0.55 數(shù)值孔徑 EUV 光刻機的公司,并且還將在 2024 年獲得該公司的大部分該類設備。
據(jù)悉,2024 年,ASML 將生產 10 臺 High-NA EUV(Twinscan EXE:5200 掃描儀,英特爾將獲得其中的 6 臺,將在 2025 年及以后用于使用 18A 或其它制程工藝的芯片生產。
Twinscan EXE 的使用可能會對公司的生產周期產生積極影響,盡管很難說這是否會對英特爾的成本產生積極影響,因為這些機器將比 Twinscan NXE:3600D 或 NXE:3800E 貴得多(有人說在 3 億~4 億美元之間),后者已經超過 2 億美元。此外,由于高數(shù)值孔徑光刻設備的光罩尺寸小兩倍,因此它們的使用方式將與我們在典型 EUV 機器上看到的不同。
在高數(shù)值孔徑學習方面,英特爾將領先于其競爭對手,這將為其帶來多項優(yōu)勢。具體來說,由于英特爾很可能是第一家使用高數(shù)值孔徑工具啟動大批量生產的公司,因此晶圓廠工具生態(tài)系統(tǒng)將不可避免地遵循其要求。上述要求可能會轉化為行業(yè)標準,這可能會使英特爾比臺積電和三星更具優(yōu)勢。
但英特爾的競爭對手也在尋求獲得高數(shù)值孔徑 EUV。三星電子副董事長兼設備解決方案部門負責人 Kyung Kye-hyun 表示,該公司與 ASML 就采購高數(shù)值孔徑 EUV 達成協(xié)議。
「三星已經確保了高數(shù)值孔徑設備技術的優(yōu)先權,」Kyung Kye-hyun 說:「我相信,從長遠來看,我們創(chuàng)造了一個機會,可以優(yōu)化高數(shù)值孔徑技術在 DRAM 存儲芯片和邏輯芯片生產中的使用?!?/p>
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