如何選擇（集成）指紋模塊

一、首先我們來(lái)看常用指紋模組的分類：

1、電容指紋模塊

2、光學(xué)指紋模塊

二、光學(xué)指紋和電容指紋模組的核心要點(diǎn)比較：

三、選擇參數(shù)的說(shuō)明：

1、識(shí)別速度：對(duì)于光學(xué)指紋來(lái)說(shuō)，識(shí)別的時(shí)間包含采圖時(shí)間和1:N比對(duì)時(shí)間相加，一般兩者相加為68-100毫秒。對(duì)于電容指紋模塊來(lái)說(shuō)，識(shí)別時(shí)間包含特征采集時(shí)間和1：N比對(duì)時(shí)間相加，一般來(lái)說(shuō)兩者相加約為110-650毫秒。如果產(chǎn)品是用在一些追求速度的場(chǎng)景，例如幾十人排隊(duì)識(shí)別的場(chǎng)景，建議選擇光學(xué)，如果是少人使用的場(chǎng)景（例如保險(xiǎn)柜、家庭指紋鎖、文件柜等）則不可以考慮電容指紋模塊。

2、關(guān)于功耗：由于光學(xué)和電容的功耗主要是采圖和特征采集時(shí)間高，比對(duì)時(shí)間功耗非常低可以忽略，光學(xué)指紋模塊采圖時(shí)的功耗大致為150mA左右，電容指紋模塊特征采集時(shí)功耗大概為35mA左右。功耗主要是影響的是電池供電場(chǎng)景的電池續(xù)航時(shí)間，是電池供電場(chǎng)景非常重要的一個(gè)考慮參數(shù)。

3、環(huán)境適應(yīng)性：環(huán)境適應(yīng)性主要考慮的是在極端環(huán)境下，例如東為地區(qū)的冬天低溫場(chǎng)景，一個(gè)是產(chǎn)品的低溫適應(yīng)性，低溫工作是多少度，更重要的是考慮抗靜電性，在這種場(chǎng)景電容的指紋模塊會(huì)占優(yōu)勢(shì)。

4、整體來(lái)看就是在速度要求快，使用頻率高的場(chǎng)景選擇光學(xué)比較合適，例如考勤打卡。