盛美上海發(fā)布半導體前道涂膠顯影設備 平臺化戰(zhàn)略布局再下一城

       近日，盛美上海通過線上會議舉行了科創(chuàng)板上市周年慶暨新品發(fā)布會，以清洗設備起家的盛美上海將通過本次新品正式切入半導體前道涂膠顯影領域。總經(jīng)理王堅表示，公司堅持履行差異化創(chuàng)新戰(zhàn)略，通過不斷推出新品豐富產(chǎn)品線，“公司產(chǎn)品可以覆蓋85億美元市場，隨著今后兩款全新產(chǎn)品計劃的穩(wěn)步推進，有望實現(xiàn)可服務市場翻一番，從而將盛美打造成為全球化發(fā)展的平臺化公司。”

　　去年11月18日，盛美上海在科創(chuàng)板掛牌上市。公司主要從事半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，主要產(chǎn)品包括半導體清洗設備、半導體電鍍設備、立式爐管設備和先進封裝濕法設備等。公司相關人士表示，自設立以來，盛美上海就堅持差異化國際競爭和原始創(chuàng)新的發(fā)展戰(zhàn)略，通過自主研發(fā)，建立了較為完善的知識產(chǎn)權體系、儲備了較為先進的技術、形成了較為豐富的產(chǎn)品線。

　　據(jù)悉，上市一年以來，公司已經(jīng)發(fā)布了包括新型化合物半導體電鍍設備、新型化合物半導體系列濕法設備等在內(nèi)8款產(chǎn)品，涉及電鍍、清洗、薄膜沉積、涂膠顯影等多個環(huán)節(jié)。

　　據(jù)介紹，公司本次發(fā)布的新產(chǎn)品為是前道涂膠顯影Track設備Ultra LITH.該設備采用自主全球?qū)＠暾埍Ｗo的全新系統(tǒng)結構設計，擁有穩(wěn)定的電控架構及強大的軟件系統(tǒng)，且具可擴張性，可以支持300 WPH及未來下一代高產(chǎn)出光刻機400 WPH的更高產(chǎn)出需求；搭載了高速穩(wěn)定的機械手系統(tǒng)，多機械手協(xié)同配合，可實現(xiàn)晶圓傳輸路徑的優(yōu)化，提高傳輸效率。

　　堅持差異化創(chuàng)新的戰(zhàn)略也讓公司業(yè)務也得以迅速開拓，銷售收入持續(xù)增長。今年前三季度，公司實現(xiàn)營收同比增長81.86%，扣非凈利潤同比增長403.62%；其中，第三季度實現(xiàn)營收同比增長90.87%，扣非凈利潤同比增長379.24%。訂單方面，截至9月30日，公司在手訂單總額為46.44億元，同比增長105.32%。

　　隨著新產(chǎn)品順利出貨，公司在發(fā)展半導體清洗及電鍍設備業(yè)務的同時，快速切入其他領域設備市場，首臺UltraFnA熱原子層沉積立式爐設備已運往國內(nèi)一家先進的邏輯制造商，并計劃于2023年底通過驗證；公司的電化學電鍍(ECP)設備于2022年8月22日完成第500腔交付，公司的多元化布局效果初顯。對此，公司表示，公司最終目標是成為一家全球平臺化半導體設備公司，通過差異化、平臺化的技術優(yōu)勢以及產(chǎn)品多元化的戰(zhàn)略布局，不斷提高公司產(chǎn)品的市場份額，增強企業(yè)的核心競爭力。(吳綺玥)