博客專欄

EEPW首頁 > 博客 > 揭秘臺積電沖刺“1nm”背后的技術(shù)秘密

揭秘臺積電沖刺“1nm”背后的技術(shù)秘密

發(fā)布人:傳感器技術(shù) 時間:2023-01-01 來源:工程師 發(fā)布文章
摩爾定律是半導(dǎo)體領(lǐng)域的行業(yè)發(fā)展規(guī)律,但近幾年各大頭部企業(yè)加速研發(fā),大有突破摩爾定律之勢。


圖片 
近日,臺積電的一條傳聞引爆行業(yè),摩爾定律是否就此將“失效”了呢? 有報(bào)道稱,目前正在推進(jìn)3nm制程工藝量產(chǎn)的臺積電,同時也在推進(jìn)更先進(jìn)的2nm及1nm制程工藝。其中,2nm制程工藝預(yù)計(jì)在2025年下半年量產(chǎn),而1nm制程工藝已在謀劃工廠的建設(shè)事宜。 臺積電能否突破摩爾定律,提前實(shí)現(xiàn)2nm甚至1nm制程工藝的量產(chǎn),值得期待! 臺積電在美國最新申請的5件專利,其中或許就有減小線寬實(shí)現(xiàn)降低制程的“秘密”! 我們一起來看看5條詳細(xì)技術(shù)專利情況吧~



*博客內(nèi)容為網(wǎng)友個人發(fā)布,僅代表博主個人觀點(diǎn),如有侵權(quán)請聯(lián)系工作人員刪除。



關(guān)鍵詞: 臺積電

相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉