南大光電：多款ArF光刻膠獲驗證，覆蓋28nm~90nm！

來源：內(nèi)容來自南大光電、浙商證券，謝謝。

南大光電：公司開發(fā)了多款ArF光刻膠在下游客戶處驗證，制程覆蓋28nm~90nm

南大光電6月2日在互動平臺上稱，公司開發(fā)了多款ArF光刻膠在下游客戶處驗證，制程覆蓋28nm~90nm，各款產(chǎn)品的驗證進度不一。

光刻膠是半導體光刻工藝的核心原材料，其產(chǎn)品水平直接影響芯片制造水平，按曝光波長由大到小可分為G/I線膠、KrF膠、ArF膠和EUV膠，隨著芯片集成度的提高，適用于8寸、12寸半導體硅片的配KrF、ArF是當下及未來短期內(nèi)各光刻膠公司的重點發(fā)力市場。目前國內(nèi)半導體光刻膠需求90%依賴從日本、美國進口，國內(nèi)廠商徐州博康、北京科華、蘇州瑞紅、南大光電、上海新陽等在半導體高端光刻膠研發(fā)和量產(chǎn)上實現(xiàn)突破，光刻膠國產(chǎn)化是大勢所趨，隨著關鍵原材料國產(chǎn)化進程提速，國內(nèi)廠商有望實現(xiàn)份額提升。

光刻膠是半導體產(chǎn)業(yè)關鍵原材料之一。

光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一，成本約為整個晶圓制造工藝的1/3，耗費時間約占整個硅片工藝的40～60%。光刻材料是指光刻工藝中用到的光刻膠、抗反射涂層、旋涂碳、旋涂玻璃等，其中最為重要的就是光刻膠。光刻膠是一類光敏感聚合物，在一定波長的光照下光子激發(fā)材料中的光化學反應，進而改變光刻膠在顯影液中的溶解度，從而實現(xiàn)圖形化的目的。根據(jù)曝光后光刻膠薄膜化學性質(zhì)變化不同所導致的去留情況，光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠，正性光刻膠曝光區(qū)域光刻膠中的高分子鏈發(fā)生化學反應并在基板上獲得與掩膜版相同的圖案；反之，負性光刻膠的高分子鏈在曝光區(qū)域光刻膠中因發(fā)生交聯(lián)而不溶從而獲得與掩膜版圖形相反的圖案。半導體光刻膠根據(jù)波長可進一步分為G線光刻膠（436nm）、I線光刻膠（365nm）、KrF光刻膠（248nm）、ArF光刻膠（193nm）、EUV光刻膠（13.5nm）等分辨率逐步提升。

2022年全球市場預計突破26億美元，晶圓廠擴產(chǎn)+技術迭代提供擴張驅(qū)動力。

下游數(shù)據(jù)中心服務器及新能源汽車等行業(yè)的快速擴張驅(qū)動全球晶圓代工廠積極擴產(chǎn)，從而為上游半導體光刻膠提供了持久的增長動力。SEMI數(shù)據(jù)顯示，2021年全球半導體光刻膠市場約為24.71億美元，中國大陸市場約4.93億美元，下游晶圓廠擴產(chǎn)有望推動國內(nèi)KrF和ArF膠市場擴容；工藝節(jié)點進步和存儲技術升級，光刻層數(shù)提升，推動單位面積光刻膠價值量增長，隨著中國大陸12寸晶圓產(chǎn)線陸續(xù)開出，價值含量更高的KrF和ArF（ArFi）光刻膠使用頻率提升、價值量占比提升。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，單位面積光刻膠價值含量由2015年的約0.120美元/平方英寸上漲至2021年的0.174美元/平方英寸。得益于晶圓廠擴產(chǎn)以及市場需求結(jié)構(gòu)性升級，我們測算2022年全球半導體光刻機市場將超過26億美元。

90%以上市場為海外巨頭壟斷，國內(nèi)廠商機遇與挑戰(zhàn)并存。

日本掌握最領先的光刻膠配方和工藝，東京應化、JSR、富士、信越化學、住友化學等日本廠商占據(jù)80%以上市場份額。國內(nèi)廠商主要有北京科華、徐州博康、南大光電、蘇州瑞紅、上海新陽等，具體來看，G線國產(chǎn)化率較高，I線、KrF、ArF國產(chǎn)化率仍較低，目前部分國內(nèi)企業(yè)已實現(xiàn)KrF膠量產(chǎn)，打破國外壟斷，少數(shù)廠商已實現(xiàn)ArF光刻膠自主技術的突破。

我國光刻膠行業(yè)發(fā)展面臨的主要問題有光刻膠關鍵原料單體、樹脂、光敏劑等進口依賴較強，對應的測試驗證設備光刻機資源緊張，海外廠商先發(fā)優(yōu)勢顯著，國內(nèi)企業(yè)盡管在KrF膠上實現(xiàn)部分料號量產(chǎn)但覆蓋面仍較窄。當前半導體產(chǎn)業(yè)鏈逆全球化趨勢正在形成，半導體供應鏈安全至關重要，光刻膠作為半導體產(chǎn)業(yè)核心原材料，技術壁壘高，原料自主可控尤為關鍵。

同時我們認為，國內(nèi)廠商也具備一定發(fā)展優(yōu)勢，首先是國產(chǎn)晶圓廠商逆周期擴產(chǎn)新增大量光刻膠需求，國產(chǎn)替代空間廣闊，客戶替代意愿強。第二，國內(nèi)光刻膠廠商具備本土化優(yōu)勢，與客戶聯(lián)系更緊密、反饋溝通更便捷。面對當前困境，我們認為國內(nèi)晶圓廠應當加強與國產(chǎn)光刻膠廠商聯(lián)系、及時提供測試反饋，加快產(chǎn)品驗證與導入速度，給光刻膠國產(chǎn)化以更好的成長環(huán)境。