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EML與DML:有什么區(qū)別?該如何選擇?

發(fā)布人:chaser1 時(shí)間:2023-06-30 來源:工程師 發(fā)布文章

近期,易飛揚(yáng)發(fā)布基于了DML激光器的200G QSFP56 DR4和FR4光模塊,為200G數(shù)據(jù)中心提供新方案(回顧:易飛揚(yáng)再定義200G數(shù)據(jù)中心,新推出PAM4 DML的200G QSFP56 DR4/FR4光模塊)。一直以來,200G光模塊多采用EML激光器,那么,兩種不同類型的激光技術(shù):DML和EML有什么區(qū)別?該如何選擇?本文將回答這些問題。

什么是DML和EML?

DML

DML是Directly Modulated Laser的簡(jiǎn)稱,即直調(diào)激光器。DML采用具有簡(jiǎn)單電路的單芯片,非常適合占用空間小和低功耗的電路設(shè)計(jì)。它通過調(diào)制驅(qū)動(dòng)器IC生成的開/關(guān)電輸入來將信息放置在光束上,這又直接應(yīng)用于激光二極管,產(chǎn)生調(diào)制光信號(hào)輸出。

DML的優(yōu)勢(shì)

  • DML往往比FP DBR等激光器穩(wěn)定得多,因?yàn)楣鈻藕头瓷洳粌H位于激光器腔的兩端,而且?guī)缀跹刂贿B續(xù);

  • DML采用單芯片并提供簡(jiǎn)單的電路設(shè)計(jì),使其更加緊湊并適合更小型的配置;

  • 由于光信號(hào)是通過DML中的電流變化來調(diào)制的,因此DML的成本通常相對(duì)較低且功耗較低;

  • 與法布里-珀羅激光器相比,DML具有更窄的譜線寬度,這意味著更高的調(diào)制速度和更長(zhǎng)的傳輸距離。

DML的限制

  • DML中存在高色散,因?yàn)橹苯诱{(diào)制會(huì)直接改變激光特性;

  • DML具有相對(duì)較低的頻率響應(yīng)和消光比,因?yàn)樗鼈兌际艿匠谠ヮl率的限制;

  • 相關(guān)的頻移以及光纖中的色散會(huì)導(dǎo)致DML的性能在較長(zhǎng)距離(>10km)內(nèi)降低。

 

EML

EML:External Modulated Laser,即外調(diào)激光器。該設(shè)計(jì)將激光二極管(結(jié)構(gòu)類似于DML二極管)與電吸收調(diào)制器 (EAM) 集成在單個(gè)芯片中。激光二極管在連續(xù)波(CW)條件下工作,輸入開/關(guān)信號(hào)應(yīng)用于EAM部分以生成光學(xué)輸出。該設(shè)計(jì)具有較低的色散,因此更適合長(zhǎng)距離、更高的數(shù)據(jù)速率傳輸。

EML的優(yōu)勢(shì)

  • EML具有低色散的特點(diǎn),因?yàn)檎{(diào)制過程不會(huì)一直改變激光特性;

  • 與DML相比,EML可以以更高的調(diào)制速度運(yùn)行,并且具有更低的線性調(diào)頻脈沖;

  • 由于光纖色散較低,EML是高速和長(zhǎng)距離傳輸?shù)睦硐脒x擇。

EML的局限性

  • EML的功耗更高,因?yàn)樾酒瑑?nèi)集成了電吸收調(diào)制器(EAM);

  • EML需要更復(fù)雜的電氣配置和二極管布局;

  • EML通常成本更高,因?yàn)樗鼈兪褂秒娢諄碚{(diào)制信號(hào)。

 

DML和EML該如何選擇?

一般來說,DML用于較低數(shù)據(jù)速率的應(yīng)用和較短的距離,而EML用于以較高數(shù)據(jù)速率處理較長(zhǎng)的距離。

如圖所示,您無需為大多數(shù)應(yīng)用做出選擇。DML的技術(shù)限制將其限制在10km及以下,而EML相對(duì)較高的成本使其在1G和10G數(shù)據(jù)速率以及10km以下的距離上使用成本過高。從成本、功耗、傳輸距離方面比較,總結(jié)出:EML適合用于電信級(jí)應(yīng)用,而DML適合用于數(shù)據(jù)中心應(yīng)用。

此前,由于技術(shù)限制,200G以上的高速率,普遍都需要采用EML激光器才可達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。如果能使用DML激光器即可達(dá)到200G速率的標(biāo)準(zhǔn),將降低200G數(shù)據(jù)中心的成本?,F(xiàn)如今,易飛揚(yáng)推出了基于DML激光器的200G DR4和FR4光模塊,產(chǎn)品性能優(yōu)異,所有性能均達(dá)到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。相比EML版本,降低了200G中短距離光模塊的運(yùn)營(yíng)成本和功耗,進(jìn)一步確認(rèn)和清晰200G在部分?jǐn)?shù)據(jù)中心領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)。

EML和DML各有優(yōu)缺點(diǎn),如果使用在正確的應(yīng)用場(chǎng)景中,它們能夠發(fā)揮出最佳的性能。也就是說,在倉促做出決定之前,您仍然需要考慮許多因素,例如網(wǎng)絡(luò)基礎(chǔ)設(shè)施和業(yè)務(wù)預(yù)算。


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