三井化學(xué)將量產(chǎn)EUV光罩保護(hù)膜，或?qū)⒉捎锰技{米管材料

6月18日消息，日本化工大廠三井化學(xué)日前宣布，將開(kāi)始量產(chǎn)EUV光罩保護(hù)膜（pellicles），可支持ASML將推出的下一代擁有超過(guò)600W光源功率的EUV光刻機(jī)。為此，三井化學(xué)計(jì)劃在日本山口縣巖國(guó)大竹工廠內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)線，計(jì)劃年產(chǎn)能為5000張，生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于2025年12月完工。

據(jù)了解，光罩保護(hù)膜是一種薄膜，可保護(hù)光罩表面免受空氣中微分子或污染物的影響，這對(duì)于 5nm或以下節(jié)點(diǎn)制程的先進(jìn)制程技術(shù)的良率表現(xiàn)至關(guān)重要。另外，光罩保護(hù)膜也是一種需要定期更換的消耗品，而由于 EUV光刻設(shè)備的光源波長(zhǎng)較短，因此針對(duì)EUV的保護(hù)膜需要較薄的厚度來(lái)增加透光率。目前光罩保護(hù)膜主要供應(yīng)商是荷蘭ASML，日本三井化學(xué)、信越化學(xué)，韓國(guó)S&S Tech、FST等。

三井化學(xué)的光罩保護(hù)膜業(yè)務(wù)來(lái)自于2022年5月27日對(duì)于旭化成的半導(dǎo)體和LCD制造工藝中光掩膜薄膜業(yè)務(wù)的收購(gòu)，收購(gòu)價(jià)格約74億日元（約人民幣3.83億元）。

值得注意的是，2023年12月，三井化學(xué)與比利時(shí)微電子研究中心（imec）共同宣布，為了推動(dòng)針對(duì)EUV光刻的碳納米管（CNT）光罩保護(hù)膜技術(shù)商業(yè)化，雙方正式建立策略伙伴關(guān)系。

△imec展示的CNT薄膜

imec強(qiáng)調(diào)，雙方的戰(zhàn)略伙伴關(guān)系旨在共同開(kāi)發(fā)曝光薄膜及EUV光罩保護(hù)膜，其中將由imec提供技術(shù)咨詢與EUV光刻機(jī)測(cè)試，三井化學(xué)進(jìn)行商用生產(chǎn)。這些光罩護(hù)膜被設(shè)計(jì)用來(lái)保護(hù)光罩在EUV曝光時(shí)免受污染，不僅具備很高的EUV穿透率（≧94%）和極低的EUV反射率，對(duì)曝光的影響也能控制到最小，這些都是要讓先進(jìn)半導(dǎo)體制造達(dá)到高良率和高產(chǎn)量所需的關(guān)鍵性能。這些碳納米管（CNT）光罩保護(hù)膜甚至還能承受超過(guò)1kW等級(jí)的極紫外光（EUV）輸出功率，有助于發(fā)展新一代（高于600W）的極紫外光源技術(shù)。將在量產(chǎn)導(dǎo)入EUV光刻技術(shù)的廠商對(duì)這些性能產(chǎn)生濃厚興趣。因此，此次合作的雙方將攜手開(kāi)發(fā)可供商用的碳納米管（CNT）光罩保護(hù)膜技術(shù)，以滿足市場(chǎng)需求。

imec進(jìn)一步指出，在此光刻技術(shù)發(fā)展藍(lán)圖下，新型光罩保護(hù)膜預(yù)計(jì)于2025~2026年推出，屆時(shí)ASML開(kāi)發(fā)的新一代0.33數(shù)值孔徑（NA）EUV光刻系統(tǒng)也將能支持輸出功率超過(guò)600W的曝光源。

編輯：芯智訊-浪客劍