新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 中芯國(guó)際:力爭(zhēng)在2010年實(shí)現(xiàn)45納米小批量試產(chǎn)

中芯國(guó)際:力爭(zhēng)在2010年實(shí)現(xiàn)45納米小批量試產(chǎn)

作者:中芯國(guó)際資深研發(fā)副總 季明華 時(shí)間:2010-03-05 來(lái)源:中芯國(guó)際 收藏

  編者點(diǎn)評(píng)(莫大康 SEMI China顧問(wèn)):中芯國(guó)際在高端技術(shù)中又有新的進(jìn)步,值得慶賀,中芯國(guó)際在有限的條件下?tīng)?zhēng)取進(jìn)步是夠困難的,但是有時(shí)形勢(shì)逼迫我們,非進(jìn)不可。中芯國(guó)際面臨的問(wèn)題表面上看是個(gè)盈利問(wèn)題,實(shí)際上反映的是人材,技術(shù),市場(chǎng)和資金等具有綜合性。所以在高端代工中如果沒(méi)有特色,缺乏足夠的IP, 及配套的服務(wù)能力及長(zhǎng)遠(yuǎn)的發(fā)展規(guī)劃 要想爭(zhēng)搶大fabless的訂單是很難的, 而且形勢(shì)在逼迫我們, 要盡快的成功。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/106562.htm

  2010年,中芯國(guó)際將加強(qiáng)65納米的嵌入式工藝平臺(tái)和32納米關(guān)鍵模塊的研發(fā);同時(shí)力爭(zhēng)實(shí)現(xiàn)45納米和40納米技術(shù)的小批量試產(chǎn)。

  2010年半導(dǎo)體業(yè)將持續(xù)復(fù)蘇的勢(shì)頭,在通信和消費(fèi)類電子市場(chǎng)的帶動(dòng)下,相應(yīng)的半導(dǎo)體產(chǎn)品市場(chǎng)出現(xiàn)了回升;低碳經(jīng)濟(jì)、綠色能源這些新興市場(chǎng)的興起,也將給相應(yīng)的半導(dǎo)體市場(chǎng)帶來(lái)發(fā)展契機(jī)。盡管受到了的國(guó)際金融危機(jī)的沖擊,但是中芯國(guó)際一直沒(méi)有減緩技術(shù)研發(fā)的進(jìn)度,相反在國(guó)際金融危機(jī)期間,公司的資源更多地分配給了研發(fā)部門。

  在第四屆(2009年度)中國(guó)半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)評(píng)選中,中芯國(guó)際有兩項(xiàng)技術(shù)獲獎(jiǎng),其一是“65納米邏輯集成電路制造工藝技術(shù)”,其二是“0.11微米CMOS圖像傳感器工藝技術(shù)”。

  目前,中芯國(guó)際已經(jīng)完成了65納米CMOS技術(shù)的認(rèn)證,并于2009年第三季度開(kāi)始在北京廠小批量試產(chǎn)。中芯國(guó)際65納米技術(shù)前段采用的是應(yīng)力工程和鎳硅合金工藝,后段采用的是低介電常數(shù)銅互連工藝。中芯國(guó)際還將繼續(xù)在65納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)上拓展更多的技術(shù)種類。

  在65納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)上,CMOS器件的電學(xué)參數(shù)更難以控制,為此,中芯國(guó)際引入了DFM(可制造性設(shè)計(jì)),這樣不但提高了設(shè)計(jì)服務(wù)的能力,而且拓寬了IP庫(kù)。中芯國(guó)際和國(guó)內(nèi)的設(shè)計(jì)公司協(xié)作,不僅研發(fā)出了通用的IP,而且為中國(guó)市場(chǎng)開(kāi)發(fā)出定制的IP。

  0.11微米圖像傳感器技術(shù)是中芯國(guó)際和相關(guān)設(shè)計(jì)公司合作開(kāi)發(fā)的、具有國(guó)際先進(jìn)水平的集成電路制造技術(shù)。該技術(shù)結(jié)合并優(yōu)化了動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)器及邏輯工藝,優(yōu)化了像素設(shè)計(jì),形成了一個(gè)通用的工藝平臺(tái),可以服務(wù)于從30萬(wàn)到300萬(wàn)像素的產(chǎn)品。中芯國(guó)際的0.11微米CMOS圖像傳感器技術(shù)不僅提供更高像素的圖像,而且其數(shù)字信號(hào)處理的能力更強(qiáng),該技術(shù)可以滿足手機(jī)和圖像傳感器應(yīng)用的所有需要。中芯國(guó)際的此項(xiàng)工藝完全自主研發(fā),所用的工藝步驟優(yōu)于國(guó)外同行,有著明顯的成本優(yōu)勢(shì),其結(jié)構(gòu)、技術(shù)水平和光學(xué)性能都達(dá)到了國(guó)際先進(jìn)水平。

  2010年對(duì)于中芯國(guó)際來(lái)講是非常重要的一年,因?yàn)槲覀円瓿梢幌盗械睦锍瘫降娜蝿?wù):45/40納米的邏輯工藝平臺(tái)要為試生產(chǎn)做好準(zhǔn)備,要增強(qiáng)65和40納米節(jié)點(diǎn)上的IP等等。所有這些技術(shù)創(chuàng)新都會(huì)增強(qiáng)中芯國(guó)際的芯片制造能力、IP能力、設(shè)計(jì)服務(wù)能力,最終一定會(huì)增強(qiáng)公司的贏利能力。



關(guān)鍵詞: 三星 LED

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉