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新紀錄:日本學(xué)者研制出4Tbit/平方英寸存儲密度的鐵電存儲體

作者: 時間:2010-08-19 來源:physorg 收藏

  據(jù)美國物理研究所出版的《應(yīng)用物理》雜志報道,日本東北大學(xué)的科學(xué)家們在試驗室中使用鐵電存儲技術(shù)將存儲芯片的存儲密度提升到了每平方英寸4Tbit,達成了的新世界紀錄,如此等級的存儲密度要比現(xiàn)有最高級的磁記錄型硬盤的存儲密度要高上7倍左右。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/111871.htm

  這種數(shù)據(jù)存儲設(shè)備使用一個尖頂懸臂對鐵電體存儲材料進行讀寫操作。進行數(shù)據(jù)寫入時,向尖頂發(fā)送電脈沖,這種電脈沖可以改變對應(yīng)位置的電子極性和電子所在區(qū)域周圍一小片圓型區(qū)域內(nèi)硅基體的介電常數(shù)。進行數(shù)據(jù)讀取時,則使用尖頂來偵測附近區(qū)域介電常數(shù)的變化值來讀取數(shù)據(jù)。

  負責(zé)該項目研究的Yasuo Cho博士稱:“我們希望這種鐵電體存儲系統(tǒng),至少在需要極大數(shù)據(jù)存儲密度和對存儲器體積要求很小的應(yīng)用場合下,能扮演取代磁硬盤和的角色。“

  在這項技術(shù)的早期研究過程中,研發(fā)者們曾經(jīng)遇到過這樣的問題:當需要在這種鐵電體存儲材料上連片寫入位置連續(xù)的數(shù)據(jù)時,寫入時產(chǎn)生的極化區(qū)會彼此融合在一起,導(dǎo)致極化區(qū)的面積超過了預(yù)定的尺寸,影響到了周邊的存儲區(qū)域。為此研究者們開發(fā)出了另外一項補救技術(shù),這種技術(shù)能夠預(yù)測這種連片寫入數(shù)據(jù)的行為,并在寫入此類數(shù)據(jù)時將發(fā)送給尖頂?shù)碾娒}沖信號自動減小10%左右,這樣才解決了這個問題。

  盡管鐵電體存儲技術(shù)具有無需磁技術(shù)或熱技術(shù)介入,僅需利用電學(xué)技術(shù)的優(yōu)勢,但是要將這種存儲技術(shù)投入實用還需要作很大的努力,比如目前鐵電體技術(shù)的數(shù)據(jù)讀取速度和精度方面,以及鐵電體基體部分的成本方面便還沒有達到商用化的水平。不僅如此,傳統(tǒng)的存儲技術(shù)也一直在發(fā)展進步,其存儲密度甚至有可能會超過鐵電體,比如希捷公司便曾宣稱他們預(yù)計傳統(tǒng)存儲技術(shù)的數(shù)據(jù)存儲密度有望達到50Tbit/平方英寸。



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