TSMC37納米及以下工藝案終結(jié)
—— TSMC與請求USITC與STC.UNM均已向法院提出終止調(diào)查申請
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TSMC今(16)宣布，就美國國際貿(mào)易委員會(USITC)針對TSMC被指控28納米工藝技術(shù)有侵權(quán)之虞的調(diào)查案，得以有利于TSMC的方式終結(jié)。TSMC與請求USITC調(diào)查此案的美國新墨西哥大學(xué)專利授權(quán)機(jī)構(gòu)STC.UNM均已向法院提出終止調(diào)查申請，內(nèi)容請參閱USITC網(wǎng)站--案件編號：337-TA-729、標(biāo)題：In the Matter of Certain Semiconductor Products Made by Advanced Lithography Techniques and Products Containing Same。
本文引用地址：http://m.butianyuan.cn/article/114595.htm這項調(diào)查內(nèi)容指稱TSMC37納米及以下的半導(dǎo)體工藝侵害編號第6,042,998號 (“998”專利)的美國專利，但TSMC否認(rèn)這項侵權(quán)指控。
TSMC資深副總經(jīng)理暨法務(wù)長杜東佑博士表示：「雖然TSMC對于此次STC.UNM這種基于無效專利而提出的案件感到遺憾，但仍欣見本案終能解決」。
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