Cymer發(fā)布EUV光源技術(shù)路線圖

　　光源對于光刻機(jī)的重要性不言而喻，沒有光源的匹配，一切圖形成像都無從談起。從1986年開始，Cymer正式進(jìn)入半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，目前已有超過3500套光源安裝在世界各地的光刻設(shè)備上。Cymer所占的市場份額已近70%，儼然已成為世界光源制造領(lǐng)域的領(lǐng)頭羊。

　　“平板電腦和智能手機(jī)等新應(yīng)用激發(fā)起了市場的熱情，兩者的年增長率分別有望超過50%和28%。這股市場熱潮極有可能延續(xù)至2014年，同樣也將驅(qū)使半導(dǎo)體新片制造繼續(xù)快速增長。”Cymer市場及光刻應(yīng)用副總裁Nigel Farrar表示，“Logic和Foundry將會(huì)繼續(xù)為32/28nm擴(kuò)大產(chǎn)能，65/45nm產(chǎn)品依然會(huì)保持現(xiàn)有的需求。但是我們也看到，由于新技術(shù)的成本高，第一梯隊(duì)與第二梯隊(duì)之間的距離正在進(jìn)一步拉大。”

　　DUV依然是目前絕大多數(shù)新片制造商所采用的光刻設(shè)備，Cymer除已有的優(yōu)勢外，還為雙重掩膜應(yīng)用開發(fā)了60-90W可調(diào)節(jié)的power管理產(chǎn)品XLR 600i，以及可根據(jù)曝光要求而調(diào)節(jié)的30-50W光源 7010。

　　“對于新片制造商來說，提高生產(chǎn)力、降低成本是永恒的追求。在光源系統(tǒng)中，激光的產(chǎn)生是依靠氣體激發(fā)進(jìn)行的。而氣體做為耗材，在整個(gè)生產(chǎn)過程中需要不斷補(bǔ)充，由此產(chǎn)生的停機(jī)維護(hù)時(shí)間是不小的浪費(fèi)。針對這一問題，Cymer研發(fā)了iGLX產(chǎn)品，它可進(jìn)行自動(dòng)的氣體供給優(yōu)化，不再需要人工進(jìn)行氣體補(bǔ)充，從而提高了設(shè)備的生產(chǎn)能力。”Nigel Farrar說。

　　每當(dāng)人們談及EUV的挑戰(zhàn)時(shí)，光源功率總是逃不開的話題。根據(jù)Cymer的技術(shù)發(fā)展路線圖，在2011年量產(chǎn)的第一階段，Cymer提供的EUV光源功率將>100W;第二階段為2011-2013，功率將>250W;到了第三階段，即2013-2016年，功率將大于350W。最近，Cymer已向ASML出貨了第三套3100EUV光源。與此同時(shí)，2010年Q4第一套EUV3100光源已安裝于一家存儲(chǔ)器制造商的生產(chǎn)線上。EUV的發(fā)展一路上伴隨著的是爭議和高研發(fā)成本，Nigel Farrar對EUV的未來應(yīng)用表示非常樂觀，并會(huì)繼續(xù)EUV的研發(fā)投入，在2011年會(huì)實(shí)現(xiàn)LPP EUV光源的商品化。

　　HVMⅠ HVMⅡ HVMⅢ

　　Driver Laser Power (kW) 25 35 37

　　In-band CE(%) 3 3.5 4

　　Collection Efficiency (sr) 5 5.5 5.5

　　Collector Reflectivity (%) 50 50 50

　　Clean EUV Power (W) >100 >250 >350

　　Cymer EUV Source Power Roadmap

　　早在2005年，Cymer即開始投入FPD和LED領(lǐng)域。有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)的大規(guī)模量產(chǎn)在很大程度上是因?yàn)槿狈Φ统杀镜牡蜏囟嗑Ч柚瞥潭兴渝矗珻ymer的TCZ細(xì)光束結(jié)晶激光回火工具填補(bǔ)了這項(xiàng)空隙。“Cymer公司的光源一直用于產(chǎn)生更小的集成電路圖形，但是利用 Cymer公司在市場上領(lǐng)先的準(zhǔn)分子光源技術(shù)，可制造出適用于低溫多晶硅(LTPS)的細(xì)光束結(jié)晶激光設(shè)備。不僅提升了OLED制造的產(chǎn)量與質(zhì)量、節(jié)省了費(fèi)用，同事也拓展了Cymer的技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域。”據(jù)悉， Cymer的第二套TCZ Gen 4設(shè)備已安裝在一位亞洲客戶生產(chǎn)線。