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上海IC產(chǎn)業(yè)十年規(guī)模擴(kuò)大10倍

—— 正在逐步形成完整的產(chǎn)業(yè)鏈
作者: 時(shí)間:2011-04-21 來(lái)源:中國(guó)電子報(bào) 收藏

  2001年~2010年的10年是上海集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的黃金10年。在這10年中,上海集成電路產(chǎn)業(yè)由小變大,銷售規(guī)模擴(kuò)大了10.3倍(2010年上海集成電路產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)銷售收入537.9億元),產(chǎn)量增加了8.2倍,出口額增長(zhǎng)了3.2倍,集成電路企業(yè)數(shù)量增加了4倍,集成電路行業(yè)就業(yè)人數(shù)增加了4倍,主流技術(shù)提升了4代,集成電路產(chǎn)業(yè)累計(jì)總投資額達(dá)到了223.04億美元,逐步形成了涵蓋設(shè)計(jì)、制造、封裝測(cè)試、裝備材料及配套服務(wù)等環(huán)節(jié)較為完整的產(chǎn)業(yè)鏈體系;形成了有利于集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的政策環(huán)境和投資環(huán)境;建立了多個(gè)規(guī)模大、功能全的微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)和公共服務(wù)平臺(tái);培養(yǎng)和造就了數(shù)以萬(wàn)計(jì)的中高端技術(shù)、管理人才,產(chǎn)業(yè)的集聚效應(yīng)日趨顯現(xiàn)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/118880.htm

  自主創(chuàng)新率先突破

  在這10年中,上海集成電路產(chǎn)業(yè)始終堅(jiān)持自主創(chuàng)新發(fā)展,不斷推進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈各個(gè)環(huán)節(jié)在國(guó)內(nèi)率先實(shí)現(xiàn)突破:

  集成電路設(shè)計(jì)業(yè)突破40nm大關(guān)。2011年1月19日,展訊通信在人民大會(huì)堂召開40納米芯片發(fā)布會(huì),此芯片是全球首款40nm技術(shù)TD-SCDMA多模通信芯片,同時(shí)也是全球3G領(lǐng)域首款商用40nm芯片,這標(biāo)志著上海集成電路設(shè)計(jì)業(yè)技術(shù)水平正逐步跨入世界領(lǐng)先行列,由跟隨者轉(zhuǎn)變?yōu)椴糠忠I(lǐng)。

  集成電路設(shè)計(jì)業(yè)銷售收入首次突破百億大關(guān)。2010年,上海集成電路設(shè)計(jì)業(yè)銷售收入達(dá)到113.2億元,同比增長(zhǎng)68.9%,占全國(guó)集成電路設(shè)計(jì)業(yè)銷售收入的近30.6%。

  集成電路制造業(yè)突破45nm。在國(guó)家科技重大專項(xiàng)及上海市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化重點(diǎn)支持的基礎(chǔ)上,中芯國(guó)際已經(jīng)完成45nm技術(shù)研發(fā),并具備了產(chǎn)業(yè)化的能力。同時(shí),中芯國(guó)際已經(jīng)開始將45nm技術(shù)向其縮版40nm技術(shù)推移,并計(jì)劃于2011年下半年通過(guò)客戶認(rèn)證。

  集成電路制造業(yè)產(chǎn)能規(guī)模始終位居國(guó)內(nèi)前列。2010年上海集成電路芯片制造的總產(chǎn)能約為50萬(wàn)片/月(8英寸晶圓等量)。隨著“909工程升級(jí)改造-12英寸集成電路生產(chǎn)線項(xiàng)目”啟動(dòng),臺(tái)積電松江公司實(shí)施生產(chǎn)線擴(kuò)產(chǎn),上海集成電路產(chǎn)業(yè)的總產(chǎn)能將提升至約64萬(wàn)片/月(8英寸晶圓等量)。上海無(wú)疑將繼續(xù)成為國(guó)內(nèi)最大的芯片制造基地。

  集成電路設(shè)備材料業(yè)關(guān)鍵產(chǎn)品突破產(chǎn)業(yè)化及商業(yè)化瓶頸。成功研發(fā)國(guó)內(nèi)首臺(tái)12英寸“90nm~65nm等離子體介質(zhì)刻蝕機(jī)”。2010年創(chuàng)造了訂單19臺(tái)、出貨17臺(tái)的佳績(jī),在此基礎(chǔ)上,繼續(xù)成功研發(fā)了“45nm~32nm等離子體介質(zhì)刻蝕機(jī)”,將我國(guó)極大規(guī)模集成電路等離子體介質(zhì)刻蝕設(shè)備提升到國(guó)際領(lǐng)先水平。盛美半導(dǎo)體自主開發(fā)的“12英寸單晶圓片清洗設(shè)備”,不但進(jìn)入無(wú)錫海力士12英寸生產(chǎn)線試用,而且還取得了韓國(guó)海力士公司的書面認(rèn)定,為大規(guī)模進(jìn)入國(guó)際市場(chǎng)鋪平道路。上海微電子裝備自主開發(fā)的“先進(jìn)封裝投影光刻機(jī)”已提供給江陰長(zhǎng)電試用,并獲得第二臺(tái)訂單。

  在半導(dǎo)體關(guān)鍵材料方面,上海新傲自主研發(fā)成功的8英寸SOI晶片已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。上海晶盟硅材料有限公司和新傲的8英寸硅外延片不僅質(zhì)量出眾,而且產(chǎn)量也占國(guó)內(nèi)領(lǐng)先地位。上海新陽(yáng)半導(dǎo)體自主開發(fā)成功“65nm~45nm芯片銅互連超高純電鍍液及添加劑”。

  安集微電子自主開發(fā)成功銅阻擋層拋光液、90nm~65nm集成電路關(guān)鍵拋光材料。上海華誼微電子材料有限公司和上?;瘜W(xué)試劑研究所,開發(fā)成功超凈高純硫酸、硝酸、鹽酸、氨水、氟化銨、醋酸、異丙醇和甲基吡咯烷酮(NMP)等無(wú)機(jī)/有機(jī)化學(xué)試劑,并在國(guó)內(nèi)率先建立了年產(chǎn)千噸級(jí)以上的超凈高純化學(xué)試劑生產(chǎn)體系和專用化學(xué)試劑實(shí)驗(yàn)室。

  2010年1月19日,“909工程升級(jí)改造-12英寸集成電路生產(chǎn)線項(xiàng)目”舉行了啟動(dòng)儀式。本項(xiàng)目將建成第一條國(guó)資控股、主要面向國(guó)內(nèi)市場(chǎng)、月產(chǎn)3.5萬(wàn)片的12英寸(90nm~65nm~45nm)集成電路生產(chǎn)線,這是我國(guó)目前規(guī)模最大、技術(shù)最新的12英寸標(biāo)準(zhǔn)工藝芯片制造生產(chǎn)線。這條生產(chǎn)線的成功建設(shè),可以制造大量國(guó)內(nèi)急需的高端集成電路重要產(chǎn)品,具備承擔(dān)和支持國(guó)家科技重大專項(xiàng)的相應(yīng)能力,對(duì)做大做強(qiáng)上海集成電路產(chǎn)業(yè)具有極其重要的意義。


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