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應(yīng)材最新缺陷檢測與分類技術(shù)提高10nm設(shè)計(jì)良率

作者: 時間:2013-07-31 來源:semi 收藏

  公司(Applied Materials)為其SEMVision系列推出一套最新缺陷檢測及分類技術(shù),加速達(dá)成10奈米及以下的先進(jìn)晶片生產(chǎn)良率。Applied SEMVision G6 缺陷分析系統(tǒng)結(jié)合前所未有高解析度、多維影像分析功能,及革命性創(chuàng)新的 Purity 自動化缺陷分類(Automatic Defect Classification;ADC)系統(tǒng)高智慧的機(jī)器學(xué)習(xí)演算法,樹立全新的效能標(biāo)竿,同時為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)引進(jìn)首創(chuàng)缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡(DR SEM)技術(shù)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/153154.htm

  公司企業(yè)副總裁暨制程診斷與控制事業(yè)處總經(jīng)理依泰 羅森費(fèi)德(Itai Rosenfeld)表示:「在面對新的10奈米設(shè)計(jì)規(guī)則及 3D 架構(gòu)技術(shù)要求,現(xiàn)有的缺陷檢測及分類技術(shù)能力面臨挑戰(zhàn)。我們新型的 SEMVision G6 與 Purity ADC 以無與倫比影像分析及更快且更準(zhǔn)確的強(qiáng)大分類工具,解決半導(dǎo)體業(yè)缺陷檢測諸多制程控制上最艱鉅的問題。多家業(yè)界領(lǐng)導(dǎo)市場的客戶已裝置 SEMVision G6 與 Purity ADC 系統(tǒng),并且受惠100%更快速的產(chǎn)出、優(yōu)異的影像功能和最先進(jìn)的分類品質(zhì),因而提高良率。」

  SEMVision G6 系統(tǒng)設(shè)備的解析度,相較于前一款提高了30%。這項(xiàng)能力與其獨(dú)特的電子光束傾角,使其優(yōu)異并且經(jīng)過實(shí)地應(yīng)用驗(yàn)證的缺陷檢測掃描電子顯微鏡,能夠辨別、分析及發(fā)現(xiàn) 3D 鰭式電晶體(FinFET)以及10奈米制程高深寬比結(jié)構(gòu)的缺陷。 G6 系統(tǒng)設(shè)備先進(jìn)的偵測組合及精密的制程,能讓微小且不易被發(fā)現(xiàn)的缺陷,以高品質(zhì)層析成像影像(topographical images)呈現(xiàn)。以高動態(tài)范圍偵測、采集的背向散射電子影像與能量濾能可提供高深寬比影像拍攝。高能量影像處理能以「看穿」?jié)B透的方式,找出重要電子層的缺陷。

  Purity ADC 系統(tǒng)以智慧機(jī)器學(xué)習(xí)演算法分析并分辨缺陷,確保精確度、品質(zhì)及一致性,提供穩(wěn)定制程控制、快速而可靠的即時檢測。靈敏的機(jī)器學(xué)習(xí)演算法能夠從數(shù)量龐大的非致命性缺陷或假警訊中區(qū)別真缺陷,這是隨著微縮和設(shè)計(jì)復(fù)雜度的增加,必須克服的挑戰(zhàn)。藉由 Purity ADC 設(shè)立的智慧分析與分類的流程,首次讓客戶信心大增,在生產(chǎn)環(huán)境中仰賴全自動式檢測系統(tǒng),準(zhǔn)確及迅速地識別缺陷的分級,并且加速良率提升。

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關(guān)鍵詞: 應(yīng)用材料 10nm

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