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MEMS: 芯片外的封裝級設(shè)計考慮

作者: 時間:2010-11-28 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

傳統(tǒng)ME圖5 高密度耳蝸植入系統(tǒng)使用一個石英硅帕拉膠封裝工藝,它可以提供良好的生物兼容性、靈活性和長期使用的穩(wěn)固性

MS器件封裝形式
早期MEMS器件封裝形式采用SOC(System-on-Chip:片上系統(tǒng))技術(shù)、以CMOS工藝組裝一個或多個MEMS器件,包括模擬和數(shù)字工藝。MEMS產(chǎn)品也可以采用SIP(System-in-Package:封裝內(nèi)系統(tǒng))技術(shù)在前面討論的封裝中集成兩個或多個芯片。搭接線(wire-bonding)用于連接封裝內(nèi)的芯片,包括MEMS芯片?,F(xiàn)今,這種技術(shù)正被集成電路生產(chǎn)領(lǐng)域中的倒裝芯片封裝技術(shù)所替代(見圖6)。

圖6 在電信光交換器件(底層管芯)和CMOS控制電路(頂層管芯)的堆疊連接


在以前,工程師常常把封裝設(shè)計留在關(guān)鍵傳感器和電路設(shè)計完成后的最后階段。然而,這種設(shè)計流程在產(chǎn)品面市壓力和激烈競爭的沖擊下發(fā)生了變化,迫使工程師改變他們的設(shè)計方法。否則,產(chǎn)品封裝的劣勢將會錯過極佳市場窗口。另外,由于設(shè)計工具匱乏,當(dāng)應(yīng)力或其他影響因素沒有被合理評估時,就使得設(shè)計失敗。

新型開發(fā)工具
當(dāng)前,用于封裝設(shè)計的新技術(shù)已經(jīng)接近了MEMS器件制造的水平。硅通孔(TSV)蝕刻技術(shù)可以實現(xiàn)高達(dá)100多μm的晶圓蝕刻深度。因此,MEMS晶圓廠就可以采用這種和MEMS制造相同級別的技術(shù)來制造封裝了。


硅通孔(TSV)的運用使另外一種技術(shù)得以實現(xiàn),那就是多芯片堆疊技術(shù)。該技術(shù)將多個芯片的管芯堆疊在一個封裝中,并通過硅通孔連接在一起。芯片堆疊使芯片的封裝更小,但會使封裝會變得更加復(fù)雜。熱量必須在堆疊得極其接近的芯片之間傳遞,從而產(chǎn)生散熱問題;另外機械結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性也必須仔細(xì)仿真以確保良好的性能和可靠性。傳統(tǒng)的集成電路封裝工廠目前也開始提供特殊的MEMS器件封裝,而且設(shè)備供應(yīng)商也投入開發(fā)新的封裝和測試設(shè)備。因此,MEMS器件的封裝選擇是很多的。MEMS器件集成多個傳感器,以及與相應(yīng)的軟件配套來提供更高附加值的系統(tǒng)正逐漸向多芯片封裝解決方案方向發(fā)展。芯片堆疊可以通過一次一片的方式生產(chǎn),也可以通過晶圓級封裝方式進(jìn)行。

未來發(fā)展趨勢
封裝技術(shù)中的一個重要新方向是使用柔性襯底把多個剛性器件封裝在一起。多個傳感器可以和電子單元及功率模塊組合在一起。通過折疊,被封裝在一起的系統(tǒng)尺寸可以做得非常小。這種技術(shù)對于可穿戴人體傳感器非常有吸引力。


當(dāng)集成電路領(lǐng)域的封裝供應(yīng)商關(guān)注其他附加值時,封裝的標(biāo)準(zhǔn)化就有可能了,但這需要很長的時間。在什么地點,由誰來起草這個標(biāo)準(zhǔn)也需要大量的時間。這是因為MEMS和半導(dǎo)體晶圓廠與傳統(tǒng)封裝廠之間的競爭將使最新和最高性能的封裝技術(shù)得以開發(fā),也使得更多的傳統(tǒng)半導(dǎo)體晶圓廠開始為MEMS業(yè)界提供服務(wù)。


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