新聞中心

EEPW首頁(yè) > 模擬技術(shù) > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 基于Si襯底的功率型GaN基LED制造技術(shù)

基于Si襯底的功率型GaN基LED制造技術(shù)

作者: 時(shí)間:2010-06-10 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

(6)裝配保護(hù)二極管,使產(chǎn)品ESD靜電防護(hù)提高到8 000 V。

3 產(chǎn)品測(cè)試結(jié)果

3.1 Si芯片

通過(guò)優(yōu)化Si表面的處理和緩沖層結(jié)構(gòu),成功生長(zhǎng)出可用于大功率芯片的外延材料。采用Pt電極作為反射鏡,成功實(shí)現(xiàn)大功率芯片的薄膜轉(zhuǎn)移。采用銀作為反射鏡,大大提高了反射效率,通過(guò)改進(jìn)反射鏡的設(shè)計(jì)并引入粗化技術(shù),提高了光輸出功率。改進(jìn)了Ag反射鏡蒸鍍前p型表面的清洗工藝和晶片焊接工藝,改善了銀反射鏡的歐姆接觸,量子阱前引入緩沖結(jié)構(gòu),提高了芯片發(fā)光效率,優(yōu)化量子阱/壘界面生長(zhǎng)工藝,發(fā)光效率進(jìn)一步提高,通過(guò)改進(jìn)焊接技術(shù),減少了轉(zhuǎn)移過(guò)程中芯片裂紋問(wèn)題,芯片制備的良率大幅度提高,且可靠性獲得改善。通過(guò)上述多項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用和改進(jìn),成功制備出尺寸1 mm×1 mm,350 mA下光輸出功率大于380 mW的藍(lán)色發(fā)光芯片,發(fā)光波長(zhǎng)451 nm,工作電壓3.2 V,完成課題規(guī)定的指標(biāo)。表1為芯片光電性能參數(shù)測(cè)試結(jié)果。


注:測(cè)試條件為350 mA直流,Ta=25℃恒溫。

3.2 Si襯底封裝

根據(jù)的光學(xué)結(jié)構(gòu)及芯片、封裝材料的性能,建立了光學(xué)設(shè)計(jì)模型和軟件仿真手段,優(yōu)化了封裝的光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。通過(guò)封裝工藝技術(shù)改進(jìn),減少了光的全反射,提高了產(chǎn)品的取光效率。改進(jìn)導(dǎo)電膠的點(diǎn)膠工藝方式,并對(duì)裝片設(shè)備工裝結(jié)構(gòu)與精度進(jìn)行了改進(jìn),采用電熱隔離封裝結(jié)構(gòu)和優(yōu)化的熱沉設(shè)計(jì),降低了器件熱阻,提高了產(chǎn)品散熱性能。采用等離子清洗工藝,改善了LED封裝界面結(jié)合及可靠性。針對(duì)照明應(yīng)用對(duì)光源的光色特性的不同要求,研究暖白、日光白、冷白光LED顏色的影響因素:芯片參數(shù)、熒光粉性能、配方、用量,并通過(guò)改進(jìn)熒光膠涂覆工藝,提高了功率LED光色參數(shù)的控制能力,生產(chǎn)出與照明色域規(guī)范對(duì)檔的產(chǎn)品。藍(lán)光和白光LED封裝測(cè)試結(jié)果見(jiàn)表2。表中:φ為光通量;K為光效;P為光功率;R為熱阻;μ為光衰;I為飽和電流。



4 結(jié)語(yǔ)

Si襯底的基LED制造技術(shù)是國(guó)際上第三條LED制造技術(shù)路線(xiàn),是LED三大原創(chuàng)技術(shù)之一,與前兩條技術(shù)路線(xiàn)相比,具有四大優(yōu)勢(shì):第一,具有原創(chuàng)技術(shù)產(chǎn)權(quán),產(chǎn)品可銷(xiāo)往國(guó)際市場(chǎng),不受?chē)?guó)際專(zhuān)利限制。第二,具有優(yōu)良的性能,產(chǎn)品抗靜電性能好,壽命長(zhǎng),可承受的電流密度高。第三,器件封裝工藝簡(jiǎn)單,芯片為上下電極,單引線(xiàn)垂直結(jié)構(gòu),在器件封裝時(shí)只需單電極引線(xiàn),簡(jiǎn)化了封裝工藝,節(jié)約了封裝成本。第四,由于Si襯底比前兩種技術(shù)路線(xiàn)使用的藍(lán)寶石和SiC價(jià)格便宜得多,而且將來(lái)生產(chǎn)效率更高,因此成本低廉。經(jīng)過(guò)三年的科技攻關(guān),課題申請(qǐng)發(fā)明專(zhuān)利12項(xiàng)、實(shí)用新型專(zhuān)利7項(xiàng),該技術(shù)成功突破了美國(guó)、日本多年在半導(dǎo)體發(fā)光芯片(LED)方面的專(zhuān)利技術(shù)壁壘,打破了目前日本日亞公司壟斷藍(lán)寶石襯底和美國(guó)CREE公司壟斷SiC襯底半導(dǎo)體照明技術(shù)的局面,形成了藍(lán)寶石、SiC、Si襯底半導(dǎo)體照明技術(shù)方案三足鼎立的局面。因此采用Si襯底的LED產(chǎn)品的推出,對(duì)于促進(jìn)我國(guó)擁有知識(shí)產(chǎn)權(quán)的半導(dǎo)體LED照明產(chǎn)業(yè)的發(fā)展有著重大意義。

上一頁(yè) 1 2 3 下一頁(yè)

關(guān)鍵詞: GaN LED 襯底 功率型

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專(zhuān)區(qū)

關(guān)閉