Design Compiler 2010將綜合和布局及布線的生產(chǎn)效

半導體設計、驗證和制造的軟件及知識產(chǎn)權（IP）供應商新思科技有限公司（Nasdaq:SNPS）日前宣布：該公司在其Galaxy™設計實現(xiàn)平臺中推出了最新的創(chuàng)新RTL綜合工具Design Compiler® 2010，它將綜合和物理層實現(xiàn)流程增速了兩倍。為了滿足日益復雜的設計中極具挑戰(zhàn)性的進度要求，工程師們需要一種RTL綜合解決方案，使他們盡量減少重復工作并加速物理實現(xiàn)進程。為了應對這些挑戰(zhàn)，Design Compiler 2010對拓撲技術進行擴展，為Synopsys旗艦布局布線解決方案IC Compiler提供“物理層指引”；將時序和面積的一致性提升至5%的同時，還將IC Complier的布線速度提升了1.5倍。Design Compiler 2010的這一項新功能使RTL工程師們能夠在綜合環(huán)境中進行布局檢測，從而可以更快地達到最佳布局效果。此外，Design Complier采用可調(diào)至多核處理器的全新可擴展基礎架構，在四核平臺上可產(chǎn)生兩倍提升綜合運行時間。

“縮短設計時間和提升設計性能是確保我們市場競爭力的關鍵。”瑞薩科技公司DFM和數(shù)字EDA技術開發(fā)部門部經(jīng)理Hitoshi Sugihara說：“借助拓撲技術在物理層指引中的全新延展，我們看到了Design Compiler設計綜合器和IC Compiler芯片編譯器之間差異在5%以內(nèi)的一致性，使IC Compiler上實現(xiàn)了高達2倍速的更快布局和更好的設計時序。我們正在采用Design Compiler中這項技術創(chuàng)新，將我們的重復工作降到最低，同時在更短的設計周期內(nèi)達到我們的設計目標。”