國家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域：硅襯底和OLED照明材料登榜！

　　為加大對科技型企業(yè)特別是中小企業(yè)的政策扶持，有力推動大眾創(chuàng)業(yè)、萬眾創(chuàng)新，培育創(chuàng)造新技術(shù)、新業(yè)態(tài)和提供新供給的生力軍，促進(jìn)解決升級發(fā)展，科技部、財政部、國家稅務(wù)總局對《高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理辦法》進(jìn)行了修訂完善。

　　文中指出，本辦法所稱的高新技術(shù)企業(yè)是指：在《國家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域》內(nèi)，持續(xù)進(jìn)行研究開發(fā)與技術(shù)成果轉(zhuǎn)化，形成企業(yè)核心自主知識產(chǎn)權(quán)，并以此為基礎(chǔ)開展經(jīng)營活動，在中國境內(nèi)(不包括港、澳、臺地區(qū))注冊的居民企業(yè)。

　　根據(jù)科技部網(wǎng)站公布的消息，國家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域：

　　一、電子信息

　　二、生物與新醫(yī)藥

　　三、航空航天

　　四、新材料

　　五、高技術(shù)服務(wù)

　　六、新能源與節(jié)能

　　七、資源與環(huán)境

　　八、先進(jìn)制造與自動化

　　其中，“半導(dǎo)體新材料制備與應(yīng)用技術(shù)”位列“新材料”領(lǐng)域。具體為：

　　石墨烯制備及應(yīng)用技術(shù);大尺寸硅單晶生長、晶片拋光片、SOI片及SiGe/Si外延片制備加工技術(shù);大型MOCVD關(guān)鍵配套材料、硅襯底外延和OLED照明新材料制備技術(shù);大尺寸砷化鎵襯底、拋光及外延片、GaAs/Si材料制備技術(shù);紅外鍺單晶和寬帶隙單晶及外延材料制備技術(shù);第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料制備技術(shù);高純金屬鎵、銦、砷、鍺、磷、鎘半導(dǎo)體蒸餾、區(qū)熔提純大型連續(xù)化工藝技術(shù)，高純及超高純有色金屬材料精煉提純技術(shù)及痕量雜質(zhì)測試技術(shù);低污染硅烷法高純度電子級多晶硅提純、后處理、區(qū)熔規(guī)模化生產(chǎn)技術(shù)等。

　　高污染、高能耗、低光電轉(zhuǎn)換效率的太陽能電池用單晶、多晶硅制備加工技術(shù)除外。

　　“高新技術(shù)企業(yè)”證書價值幾何

　　高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定政策是一項(xiàng)引導(dǎo)政策，目的是引導(dǎo)企業(yè)調(diào)整產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)，走自主創(chuàng)新、持續(xù)創(chuàng)新的發(fā)展道路，激發(fā)企業(yè)自主創(chuàng)新的熱情，提高科技創(chuàng)新能力。獲得《高新技術(shù)企業(yè)證書》的公司可獲得諸多好處：

　　1、稅收減免

　　認(rèn)定后的高新技術(shù)企業(yè)的企業(yè)所得稅稅率由原來的25%降為15%，相當(dāng)于在原來基礎(chǔ)上降低了40%。

　　2、科研經(jīng)費(fèi)支持和財政撥款

　　經(jīng)認(rèn)定的高新技術(shù)企業(yè)可憑批準(zhǔn)文件和《高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定證書》辦理享受國家、省、市有關(guān)優(yōu)惠政策，更容易獲得國家、省、市各級的科研經(jīng)費(fèi)支持和財政撥款;高新技術(shù)企業(yè)稱號將會是眾多政策性如資金扶持等的一個基本門檻。

　　3、國家級的資質(zhì)認(rèn)證硬招牌

　　高新技術(shù)企業(yè)是一個難得的國家級的資質(zhì)認(rèn)證，對依靠科技立身的企業(yè)更是不可或缺的硬招牌，其品牌影響力僅次于中國馳名商標(biāo)、國家免檢產(chǎn)品。

　　4、提升企業(yè)品牌形象

　　高新認(rèn)定的企業(yè)，能為企業(yè)在市場競爭中提供有力的資質(zhì)，極大地提升企業(yè)品牌形象，無論是廣告宣傳還是產(chǎn)品招投標(biāo)工程，都將有非常大的幫助。

　　5、促進(jìn)企業(yè)科技轉(zhuǎn)型

　　高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定政策是一項(xiàng)引導(dǎo)政策，目的是引導(dǎo)企業(yè)調(diào)整產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)，走自持續(xù)主創(chuàng)新創(chuàng)新的發(fā)展道路，激發(fā)企業(yè)自主創(chuàng)新的熱情，提高科技創(chuàng)新能力。

　　6、提高企業(yè)市場價值

　　證明企業(yè)在本領(lǐng)域中具有較強(qiáng)的技術(shù)創(chuàng)新能力、高端技術(shù)開發(fā)能力，有利于企業(yè)開拓國內(nèi)外市場，是企業(yè)投標(biāo)時的重要條件。

　　7、提高企業(yè)資本價值

　　高新技術(shù)企業(yè)是吸引地方政府、行業(yè)組織對企業(yè)實(shí)施優(yōu)惠政策和資金扶持的重要條件，也更具有吸引風(fēng)險投資機(jī)構(gòu)和金融機(jī)構(gòu)的實(shí)力，從而推動企業(yè)快速投入到產(chǎn)業(yè)化經(jīng)營中去。

　　高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定

　　當(dāng)然，高新技術(shù)企業(yè)首先要符合高新認(rèn)定的基礎(chǔ)條件，符合條件才可以申報，經(jīng)過評審認(rèn)定后，進(jìn)而在高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理工作網(wǎng)公示，公示期結(jié)束由科技部門、財政部門和稅務(wù)部門頒發(fā)國家高新技術(shù)企業(yè)證書和牌匾。

　　修訂現(xiàn)行的《高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定管理辦法》，更多向中小企業(yè)傾斜：

　　一是適當(dāng)放寬認(rèn)定條件。適應(yīng)研發(fā)外包、眾包等趨勢，對高新技術(shù)企業(yè)取消具有大專以上學(xué)歷科技人員占企業(yè)當(dāng)年職工總數(shù)30%以上的要求，改為從事研發(fā)和相關(guān)技術(shù)創(chuàng)新活動的科技人員占比不低于10%。在保持大中型企業(yè)3%和4%研發(fā)費(fèi)占比要求不變的情況下，將小企業(yè)的研發(fā)費(fèi)比例要求由6%降至5%。取消近3年內(nèi)獲得知識產(chǎn)權(quán)或取得5年以上獨(dú)占許可的條件，鼓勵企業(yè)自主研發(fā)或轉(zhuǎn)讓技術(shù)。

　　二是簡化認(rèn)定流程，縮短公示時間。高新技術(shù)企業(yè)在資格有效期內(nèi)跨管理區(qū)域整體遷移的，其資格繼續(xù)有效。采取隨機(jī)抽查與重點(diǎn)檢查雙結(jié)合等方式，優(yōu)化對高新技術(shù)企業(yè)的管理。

　　三是擴(kuò)充重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域。將制造業(yè)中的增材制造與應(yīng)用等新技術(shù)和服務(wù)業(yè)中的檢驗(yàn)檢測認(rèn)證等技術(shù)，以及文化創(chuàng)意、電子商務(wù)與現(xiàn)代物流等領(lǐng)域的相關(guān)技術(shù)納入支持范圍，同時剔除一批落后技術(shù)，使政策優(yōu)惠發(fā)揮對科技創(chuàng)新的牽引作用。