新聞中心

EEPW首頁(yè) > 模擬技術(shù) > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管(JFET)的基礎(chǔ)知識(shí)

結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管(JFET)的基礎(chǔ)知識(shí)

—— CMOS集成電路電阻的應(yīng)用分析
作者: 時(shí)間:2017-01-03 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

  結(jié)構(gòu)與符號(hào):

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201701/342381.htm

   

 

  在N區(qū)兩側(cè)擴(kuò)散兩個(gè)P+區(qū),形成兩個(gè)PN結(jié)。兩個(gè)P+區(qū)相連,引出柵極g。N體的上下兩端分別引出漏極d和源極s。

  導(dǎo)電原理:

   

 

  (1)VGS=0時(shí),N型棒體導(dǎo)電溝道最寬(N型區(qū))。有了VDS后,溝道中的電流最大。

  (2)VGS<0時(shí),耗盡層加寬(主要向溝道一測(cè)加寬),并向溝道中間延伸,溝道變窄。

  當(dāng)VGS

   

 

  加上負(fù)VGS電壓和VDS電壓以后,VGD的負(fù)壓比VGS大,所以,二個(gè)反偏PN結(jié)的空間電荷區(qū)變得上寬下窄,使溝道形成楔形。

   

 

  通過(guò)VGS改變半導(dǎo)體內(nèi)耗盡層厚度(溝道的截面積)控制iD,稱(chēng)為體內(nèi)場(chǎng)效應(yīng)器件;MOSFET主要通過(guò)改變襯底表層溝道的厚度來(lái)控制iD,稱(chēng)為表面場(chǎng)效應(yīng)器件。

  的伏安特性(以N溝道為例):伏安特性曲線(xiàn)和電流方程與耗盡型MOSFET相似。但VGS必定要反向偏置。

   

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 



關(guān)鍵詞: JFET

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專(zhuān)區(qū)

關(guān)閉