華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī)：邁向14nm

　　中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來一臺EUV極紫外光刻機(jī)，未來可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機(jī)，同樣來自ASML，不過是193nm沉浸式，用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，7200萬美元一臺。

　　據(jù)集微網(wǎng)報道， 5月21日上午，在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū)，華虹集團(tuán)旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營運(yùn)的12英寸先進(jìn)生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目(“華虹六廠”)實(shí)現(xiàn)首臺工藝設(shè)備光刻機(jī)搬入。

　　這臺光刻機(jī)的型號是NXT 1980Di，依然是荷蘭ASML提供，后者官方顯示，這是一臺193nm雙級沉浸式光刻機(jī)，用于10nm級(14～20nm)晶圓生產(chǎn)，它也是大陸裝備的最先進(jìn)的沉浸式光刻設(shè)備。

　　華力微電子官網(wǎng)資料顯示，華虹六廠是該司的第二個12英寸晶圓生產(chǎn)線，設(shè)計月產(chǎn)能4萬片，工藝技術(shù)從28nm起步，最終將具備14nm三圍工藝的高性能芯片生產(chǎn)能力。

　　另外，根據(jù)賽迪顧問的統(tǒng)計，按照銷售額，上海華虹位列2017年國內(nèi)十大集成電路制造企業(yè)第五位。