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學會這7個手藝你就可以自己做芯片了

—— 芯片常見的七大工藝難在哪?
作者: 時間:2018-09-28 來源:網(wǎng)絡 收藏

  也叫集成電路,是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝,把一個電路中所需的晶體管、電阻、電容和電感等元件及布線互連一起,制作在一小塊或幾小塊半導體晶片或介質(zhì)基片上,然后封裝在一個管殼內(nèi),成為具有所需電路功能的微型結(jié)構(gòu);其中所有元件在結(jié)構(gòu)上已組成一個整體,使電子元件向著微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面邁進了一大步。 

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201809/392425.htm
芯片常見的七大工藝難在哪?

  它在電路中用字母“IC”表示。集成電路發(fā)明者為杰克·基爾比(基于鍺(Ge)的集成電路)和羅伯特·諾伊思(基于硅(Si)的集成電路)。當今半導體工業(yè)大多數(shù)應用的是基于硅的集成電路。

  制作完整過程包括 設計、晶片制作、封裝制作、成本測試等幾個環(huán)節(jié),其中晶片片制作過程尤為的復雜。首先是芯片設計,根據(jù)設計的需求,生成的“圖樣”。

  1、 芯片的原料晶圓

  晶圓的成分是硅,硅是由石英沙所精練出來的,晶圓便是硅元素加以純化(99.999%),接著是將些純硅制成硅晶棒,成為制造集成電路的石英半導體的材料,將其切片就是芯片制作具體需要的晶圓。晶圓越薄,成產(chǎn)的成本越低,但對工藝就要求的越高。

  2、晶圓涂膜

  晶圓涂膜能抵抗氧化以及耐溫能力,其材料為光阻的一種。

  3、晶圓光刻顯影、蝕刻

  該過程使用了對紫外光敏感的化學物質(zhì),即遇紫外光則變軟。通過控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致抗蝕劑,使得其遇紫外光就會溶解。這是可以用上第一份遮光物,使得紫外光直射的部分被溶解,這溶解部分接著可用溶劑將其沖走。這樣剩下的部分就與遮光物的形狀一樣了,而這效果正是我們所要的。這樣就得到我們所需要的二氧化硅層。

  4、攙加雜質(zhì)

  將晶圓中植入離子,生成相應的P、N類半導體。具體工藝是是從硅片上暴露的區(qū)域開始,放入化學離子混合液中。這一工藝將改變攙雜區(qū)的導電方式,使每個晶體管可以通、斷、或攜帶數(shù)據(jù)。簡單的芯片可以只用一層,但復雜的芯片通常有很多層,這時候?qū)⑦@一流程不斷的重復,不同層可通過開啟窗口聯(lián)接起來。這一點類似所層PCB板的制作制作原理。 更為復雜的芯片可能需要多個二氧化硅層,這時候通過重復光刻以及上面流程來實現(xiàn),形成一個立體的結(jié)構(gòu)。

  5、晶圓測試

  經(jīng)過上面的幾道工藝之后,晶圓上就形成了一個個格狀的晶粒。通過針測的方式對每個晶粒進行電氣特性檢測。 一般每個芯片的擁有的晶粒數(shù)量是龐大的,組織一次針測試模式是非常復雜的過程,這要求了在生產(chǎn)的時候盡量是同等芯片規(guī)格構(gòu)造的型號的大批量的生產(chǎn)。數(shù)量越大相對成本就會越低,這也是為什么主流芯片器件造價低的一個因素。

  6、封裝

  將制造完成晶圓固定,綁定引腳,按照需求去制作成各種不同的封裝形式,這就是同種芯片內(nèi)核可以有不同的封裝形式的原因。比如:DIP、QFP、PLCC、QFN 等等。這里主要是由用戶的應用習慣、應用環(huán)境、市場形式等外圍因素來決定的。

  7、測試、包裝

  經(jīng)過上述工藝流程以后,芯片制作就已經(jīng)全部完成了,這一步驟是將芯片進行測試、剔除不良品,以及包裝。



關鍵詞: 芯片

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