芯片設(shè)計企業(yè)該如何選擇適合的工藝?
如何向芯片設(shè)計企業(yè)推薦最合適的工藝,芯片設(shè)計企業(yè)應(yīng)該怎么權(quán)衡?不久前,在珠海舉行的“2018中國集成電路設(shè)計業(yè)年會(ICCAD)”期間,芯原微電子、Cadence南京子公司南京凱鼎電子科技有限公司、UMC(和艦)公司分別介紹了他們的看法。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201901/397176.htm先進(jìn)工藝選擇的考量
芯原微電子創(chuàng)始人、董事長兼總裁戴偉民博士稱,28nm以前一切是很好的、沒有爭議的:芯片特征尺寸降低后,功耗低、成本低、速度高;但28nm以后就開始不一樣,很多企業(yè)在20nm做了一代以后就沒怎么往下做了。再看最前沿的企業(yè),臺積電的7nm工藝已出爐。但也有些企業(yè)為了做7nm趕在前面,肯定10nm沒有做全。實(shí)際上,7nm客戶目前不太多,就是蘋果等幾家公司。
關(guān)鍵是7nm的EUV機(jī)器沒法先做出來,沒有EUV機(jī)器,會多一二十層mask(掩模),因此馬上就有了7nmPlusEUV工藝。但直到5nm才真正把EUV用上去。需要強(qiáng)調(diào)的是,F(xiàn)inFET很好,但必須要有EUV機(jī)器出來。
但前面的工藝,例如55nm,做十多年都沒問題。但FinFET每代可能就五六年時間就沒有了,下一代比這一代還好,就不用原來的工藝了。例如用了10/12nm,14/16nm就不要了。7nm做好了,可能10/12nm就不用了……。所以做10、7nm的客戶今天還在期盼著5nm,不會期盼7nmPlusEUV,所以這條路很有挑戰(zhàn)性,目前看只有臺積電做得起,三星做DRAM很有經(jīng)驗(yàn),資金很多,但7nm這個節(jié)點(diǎn)還要看。等最后可能是5、3nm時,誰還能做得起?
所以28nm肯定沒有問題。55nm也很好。到后來是7、5nm的芯片有可能出來,因?yàn)橛袣v史的原因——7nm客戶不上了,就等5nm了。但是從28nm到5nm之間不能是空白、沒有節(jié)點(diǎn)了,所以FD-SOI的4個節(jié)點(diǎn)有意義,例如三星的28、18nm,格芯的22、12nm等。所以客戶也許會采取兩條腿走路的方式。
但值得一提的是,我們不是不會做FinFET才去做FD-SOI,當(dāng)你整個規(guī)模很大,100%資源還不夠,那就用FinFET。如果IoT很多,20%資源還不夠用,需要特別高的工藝,特別是RF集成,適合用RF-SOI工藝。
明確自己的定位
Cadence南京子公司南京凱鼎電子科技有限公司總裁王琦博士稱,從Cadence所擅長的EDA和IP角度看,設(shè)計和制造的投資都很大,因此要進(jìn)行一個平衡:你要做第一名、第一梯隊的成員,就要用最先進(jìn)的技術(shù)?,F(xiàn)在,摩爾定律已經(jīng)明確地出現(xiàn)放緩跡象,持續(xù)推動技術(shù)進(jìn)步并實(shí)現(xiàn)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)工藝是發(fā)展的關(guān)鍵。Cadence已經(jīng)大舉投資了7nm和5nm工藝研發(fā)并取得巨大成功;我們將繼續(xù)投資3納米工藝技術(shù)以及未來更先進(jìn)的制程工藝。
另外,Cadence選擇在會在南京拓展IP戰(zhàn)略,源于Cadence在IP端一直致力于先進(jìn)進(jìn)程,可是國內(nèi)在成熟節(jié)點(diǎn)上依然有很大市場。所以南京凱鼎的主要任務(wù)就是把同樣的IP技術(shù)移植到中國來,例如Cadence在7nm已經(jīng)驗(yàn)證的IP反向移植到22nm、28nm等平臺中。
王琦博士表示,市場在哪里,投資就會在哪里,而現(xiàn)在的市場就在中國?!叭澜绨雽?dǎo)體除了中國之外,增長率相對較非常低,作為EDA工具和IP服務(wù)商,一定要貼近客戶,尤其是中國有這么多具有活力和創(chuàng)新力的中小型公司,他們都有自己的定位和想法,還有這么豐富的應(yīng)用場景,這就是中國市場最吸引人的地方?!?/p>
特色工藝的超級節(jié)點(diǎn)是55nm和28nm
UMC主打特色工藝。UMC副總經(jīng)理林偉圣指出,如果現(xiàn)在看整個工藝的發(fā)展,如果從90、55、40、28nm來看,現(xiàn)在先進(jìn)工藝不談,只談特色工藝。特色工藝?yán)锏?5nm是一個超級節(jié)點(diǎn),因此其現(xiàn)在涵蓋的產(chǎn)品,從RF到超低功耗、嵌入式非易失、高壓、VCD等,對于這些產(chǎn)品,55nm是一個超級節(jié)點(diǎn)。
下一個超級節(jié)點(diǎn)是多少?應(yīng)該是28nm節(jié)點(diǎn)。如果把28nm節(jié)點(diǎn)與40nm工藝比較,28nm節(jié)點(diǎn)速度快,但是漏電比40nm好一點(diǎn)。另外28nm還有非常廣的應(yīng)用,其中之一是在RF方面。因?yàn)槲覀儸F(xiàn)在看到像4G的RF,2.4GHz用在28nm工藝上沒有問題,而且現(xiàn)在熱議的5G、sub-GHz也是在28這個節(jié)點(diǎn),甚至我們講到newradio也是在28nm這個節(jié)點(diǎn)。
如果去看整個28nm節(jié)點(diǎn)的RF特性,只要芯片的主頻是小于100G,基本上在22nm這個節(jié)點(diǎn)是可以做的。這代表什么意思?有一個mini-watt基站芯片,22nm這個節(jié)點(diǎn)就足夠了。在RF工藝上,有些客戶要做高頻RF特性,用22nm這個節(jié)點(diǎn)就可以。
還有一個驅(qū)動器的例子。市面上看到的屏是所謂的TDDI,現(xiàn)在主流是80nm的高壓驅(qū)動器,不帶SRAM;但是國內(nèi)現(xiàn)在有像京東方、國顯、華星光電等已經(jīng)開了一系列的AMOLED的廠出來,這些廠出來的產(chǎn)品良率不是很好,所以必須做一些修復(fù),因此驅(qū)動器本身要帶較多的SRAM。為此,目前來看,40nm高壓是一個非常好的節(jié)點(diǎn)。也有人認(rèn)為可以從55nm開始做,畢竟55nm的開發(fā)費(fèi)用比40nm低一些。所以AMOLED如果要帶SRAM修復(fù),基本會從55nm切入,接下來是40nm。
那么,對于顯示驅(qū)動器,28nm的機(jī)會在哪里呢?三星提出一些VR應(yīng)用的芯片,由于刷新度要求非???,每秒要120幀,因?yàn)橐乐箷炑?,分辨率要達(dá)到4K,因此就需要非常大的計算能力,所以28nm的高壓工藝會在28nm節(jié)點(diǎn)切入進(jìn)來。
簡而言之,55nm節(jié)點(diǎn)由于其特殊性,應(yīng)該還會維持未來的需求當(dāng)量。未來如果還要再往高性能走的話,可能下一個超級節(jié)點(diǎn)就在28nm。
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