國產(chǎn)ArF光刻膠取得重大突破：可用于7nm工藝

作為半導(dǎo)體卡脖子的技術(shù)之一，很多人只知道光刻機(jī)，卻不知道光刻膠的重要性，這個市場也是被日本及美國公司壟斷，TOP5廠商占了全球85％的份額。

國產(chǎn)光刻膠此前只能用于低端工藝生產(chǎn)線中，能做到G 線（436nm）、I 線 （365nm）水平，目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進(jìn)口，EUV光刻膠目前還沒有公司能生產(chǎn)，基本上都控制在日本公司手中。

不過EUV光刻膠也不是急需的，因為國內(nèi)目前還沒有EUV工藝量產(chǎn)，193nm的ArF光刻膠更加重要，目前國內(nèi)有多家公司正在攻關(guān)中，這種光刻膠可以用于28nm到7nm工藝的先進(jìn)工藝。

近日，南大光電在互動平臺表示，公司的ArF光刻膠正在按計劃進(jìn)行客戶測試，這意味著國內(nèi)的ArF光刻膠技術(shù)取得了重要突破，從研發(fā)開始走向生產(chǎn)。

根據(jù)南大光電公司之前的 消息，公司于2017年開始研發(fā)“193nm 光刻膠項目”，已獲得國家“02 專項”的相關(guān)項目立項，公司計劃通過3年的建設(shè)、投產(chǎn)及實現(xiàn)銷售，達(dá)到年產(chǎn)25噸 193nm（ArF干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模，產(chǎn)品將滿足集成電路行業(yè)需求標(biāo)準(zhǔn)。