新聞中心

EEPW首頁 > 嵌入式系統(tǒng) > 業(yè)界動態(tài) > 復(fù)旦微電子學(xué)院研制出高密度存算一體化非易失性鐵電單晶疇壁存儲器和晶體管

復(fù)旦微電子學(xué)院研制出高密度存算一體化非易失性鐵電單晶疇壁存儲器和晶體管

作者: 時間:2020-06-18 來源:復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院 收藏

自戈登·摩爾提出至今,摩爾定律已持續(xù)發(fā)展半個多世紀(jì),芯片集成度不斷提高,性能不斷提升。然而如今器件特征尺寸不斷縮小,特別是接近納米尺度的量級時,出現(xiàn)量子尺寸效應(yīng)、界面效應(yīng)、短溝道效應(yīng)等問題,影響了器件性能。根據(jù)國際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖預(yù)測,對于5nm以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)工藝,現(xiàn)有存儲技術(shù)將不能滿足芯片高性能、低功耗的要求。因此,高密度、低功耗的新型存儲器亟待開發(fā)。當(dāng)前計(jì)算機(jī)架構(gòu)基于“馮?諾依曼”體系,計(jì)算與存儲相互分離,二者間的數(shù)據(jù)反復(fù)交換和速度差異占據(jù)了大量冗余時間,被稱為“存儲墻”,直接導(dǎo)致整個芯片系統(tǒng)運(yùn)算速度下降和功耗增加。眾所周知,計(jì)算機(jī)存儲架構(gòu)涉及到多種揮發(fā)性和非揮發(fā)性存儲器,其中揮發(fā)性存儲器讀寫速度快(0.2-20ns),但是存儲密度低(幾十Mbit至幾個Gbit)。相較而言,非揮發(fā)性存儲器(3D NAND)存儲密度大(512Gbit-1Tbit),功耗較低,但是單元擦寫速度慢(ms-s),壽命短(~10萬次),制約了計(jì)算機(jī)和移動通訊設(shè)備等整體性能的提升。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202006/414373.htm

近期,復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院江安全課題組柴曉杰和江均等聯(lián)合韓國首爾大學(xué)、英國圣安德魯斯大學(xué)、中北大學(xué)、中科院物理所、浙江大學(xué)和華東師范大學(xué)以及濟(jì)南晶正公司等研發(fā)出的新型鐵電疇壁存儲器,采用鈮酸鋰單晶薄膜材料與硅基電路低溫鍵合,存儲介質(zhì)無缺陷、晶界和空洞等,突破了新型多晶薄膜存儲器的單元一致性和高可靠性集成技術(shù)的瓶頸。日前,相關(guān)研究成果以《與硅底集成和自帶選擇管功能的LiNbO3鐵電單晶疇壁存儲器》(“Ferroelectric domain wall memory with embedded selector realized in LiNbO3 single crystals integrated on Si wafers”)為題發(fā)表于《自然-材料》(Nature Materials),以《非易失性全鐵電場效應(yīng)管》(“Nonvolatile ferroelectric field-effect transistors”)為題發(fā)表于《自然-通訊》(Nature Communications)。 

研究團(tuán)隊(duì)采用納米加工技術(shù)在薄膜表面制備出15-400nm大小不等的鐵電存儲單元,通過施加面內(nèi)電場產(chǎn)生平行和反平行的鐵電疇結(jié)構(gòu),電疇間形成可擦寫的高電導(dǎo)疇壁,可非揮發(fā)地存儲邏輯“0”和“1”的信息,1V下讀出電流最高可達(dá)1.7 μA,且具有單向?qū)ㄌ匦裕_關(guān)比大于105。同時證明了存儲單元的表面層具備天然選擇管的功能,可應(yīng)用于大規(guī)模交叉棒集成陣列,突破傳統(tǒng)鐵電存儲器高密度發(fā)展的技術(shù)瓶頸。存儲器讀寫速度可達(dá)納秒甚至皮秒量級,讀寫次數(shù)基本不限,保持時間大于10年,可實(shí)現(xiàn)三維堆垛。

1592451739641265.png

此外,團(tuán)隊(duì)在以上存儲器的研究基礎(chǔ)上集成了非易失性的全鐵電場效應(yīng)晶體管,這種無結(jié)的場效應(yīng)管具有極低的漏電流、超快的操作速度、導(dǎo)通電流可達(dá)~110 μA μm-1、亞閾值擺幅接近于零。在源、漏和柵等電脈沖作用下可實(shí)現(xiàn)單刀雙擲開關(guān)功能,與鐵電存儲器同質(zhì)集成能夠?qū)崿F(xiàn)簡單的邏輯運(yùn)算,實(shí)現(xiàn)存算一體化,有望突破“存儲墻”限制,預(yù)計(jì)可規(guī)?;a(chǎn)。

鈮酸鋰晶體是一種集電光、聲光、壓電、光彈、非線性、光折變等效應(yīng)于一身的人工合成晶體,原材料來源豐富、價(jià)格低廉、易生長成大晶體,國內(nèi)外生產(chǎn)廠商眾多,常應(yīng)用于聲表面波、電光調(diào)制、激光調(diào)Q、光陀螺、光參量振蕩/放大、光全息存儲等。目前研制成功的6英寸大面積摻雜鈮酸鋰單晶薄膜表面具有原子層平整度,能夠與硅基電路實(shí)現(xiàn)低溫鍵合(LOI),存儲性能穩(wěn)定,可靠性高。8-12英寸鈮酸鋰單晶薄膜材料還在研發(fā)過程中,預(yù)計(jì)不久能夠推向市場。

以上存儲技術(shù)均為該團(tuán)隊(duì)原創(chuàng),復(fù)旦大學(xué)擁有全部自主知識產(chǎn)權(quán),并獲發(fā)明專利10項(xiàng)。承擔(dān)該項(xiàng)工作的博士生柴曉杰和項(xiàng)目研究員江鈞為共同第一作者。該項(xiàng)工作得到了洪家旺、張慶華、王杰、黃榮、James F. Scott和Cheol Seong Hwang等國內(nèi)外知名專家的頂力支持和幫助。該項(xiàng)目得到上海市科技創(chuàng)新行動計(jì)劃基礎(chǔ)研究項(xiàng)目、國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、北京市自然科學(xué)基金和國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目等的專項(xiàng)資助。



評論


技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉