臺(tái)積電采購(gòu)30臺(tái)EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm，ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

臺(tái)積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣，已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺(tái)上的最大采購(gòu)客戶，累計(jì)已經(jīng)購(gòu)買了 30 臺(tái) EUV 設(shè)備。日前，ASML 繼在韓國(guó)成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后，也在臺(tái)積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺(tái)灣臺(tái)南，成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。

一臺(tái)EUV系統(tǒng)需要50個(gè)工程師操作

一臺(tái)造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達(dá) 180 公噸，每次運(yùn)輸要用三架貨機(jī)才能運(yùn)完，里面包含 10 萬個(gè)零件、4 萬個(gè)螺絲、3000 條電線、2 公里長(zhǎng)的軟管。

再者，一臺(tái)高度精密的 EUV 設(shè)備，大概需要 50 個(gè)工程師來進(jìn)行操作。因此，EUV 工程師的技術(shù)培訓(xùn)對(duì) ASML 而言非常重要。

ASML 指出，將一個(gè)新手工程師培育成為技術(shù)熟稔、可獨(dú)自作業(yè)的 EUV 工程師，需要經(jīng)過 18 個(gè)月的訓(xùn)練。

過去，全球的 EUV 工程師，即使只負(fù)責(zé)部分專業(yè)技術(shù)，都必須前往 ASML 荷蘭總部接受長(zhǎng)達(dá)數(shù)月的培訓(xùn)。

ASML 表示，自從新冠疫情之后，全球企業(yè)的差旅活動(dòng)有非常多的限制，因此，臺(tái)南的 EUV 全球技術(shù)培訓(xùn)中心也為新進(jìn)工程師提供 EUV 基礎(chǔ)訓(xùn)練課程，提供半導(dǎo)體客戶一個(gè)相對(duì)安全且經(jīng)濟(jì)的培訓(xùn)方式。

臺(tái)積電十年前投入 EUV 研發(fā)

臺(tái)積電是 ASML 全球重要的策略伙伴，ASML 是在 1988 年交付給臺(tái)積電第一臺(tái)光刻機(jī)，并于 2003 年在新竹成立臺(tái)灣總部辦公室。

2010 年，ASML 提供第一臺(tái) EUV 光刻機(jī)原型機(jī)給臺(tái)積電進(jìn)行研發(fā)工作，這是全球光刻技術(shù)非常重要的一年；2017 年，ASML 更交付第一臺(tái)量產(chǎn)型 EUV 光刻機(jī) TWINSCAN NXE : 3400，寫下商用 EUV 制程技術(shù)的新里程。

臺(tái)積電已經(jīng)采購(gòu) 30 臺(tái) EUV 光刻機(jī)，沖刺 7nm 和 5nm 制程技術(shù)的量產(chǎn); 未來針對(duì) 3nm 技術(shù)的光刻機(jī)也將更先進(jìn)。

目前最新的 EUV 光刻機(jī)NXE:3400C 每小時(shí)可處理吞吐的晶圓 WPH（Wafer Per Hour）已將到 170 片，主要用于 7nm 和 5nm 制程; 相較于 NXE:3400B 每小時(shí)處理晶圓片數(shù) 125 片更為提升。

目前，ASML 在臺(tái)灣的員工約 2,800 人。除了隨著客戶晶圓廠據(jù)點(diǎn)設(shè)立辦公室之外，也有林口廠是負(fù)責(zé)機(jī)臺(tái)翻修、光罩傳輸 (Reticle Handler) 模塊生產(chǎn)與 YieldStar 光學(xué)量測(cè)設(shè)備生產(chǎn); 另外的臺(tái)南廠則專注于電子束 (ebeam ) 和多光束 (multi-beam) 檢測(cè)設(shè)備制造。

ASM 最新設(shè)立于臺(tái)南的 EUV 全球技術(shù)培訓(xùn)中心，座落于臺(tái)南科學(xué)園區(qū)，臨近臺(tái)積電高端制程的 12 寸廠。該培訓(xùn)中心配備實(shí)機(jī)模塊 （live module），提供技術(shù)理論課程和無塵室實(shí)機(jī)操作課程等培訓(xùn)內(nèi)容。該中心目前有 14 位講師，估計(jì)每年可提供數(shù)千小時(shí)的課程，每年培育 360 個(gè) EUV 技術(shù)工程師。