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阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

作者: 時(shí)間:2020-10-15 來(lái)源:《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》 收藏

14日訊,《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》記者從獲悉,其公布了路線(xiàn)圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米,并計(jì)劃于2021年的中期開(kāi)始發(fā)貨。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202010/419226.htm


關(guān)鍵詞: ASML EUV 光刻機(jī)

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