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ASML出貨超過100臺EUV光刻機 新制程時代來臨

作者:芯研所 時間:2021-09-18 來源:ZOL 收藏

芯研所消息,全球半導體的缺貨,進一步激發(fā)了上游半導體設(shè)備廠商的產(chǎn)能,據(jù)外媒報道截至第二季度, EUV設(shè)備出貨總量達到102臺,隨著需求量的提高和客戶群的擴大,預計2年內(nèi)累計供應量將增加2倍以上,標志著EUV時代正式拉開帷幕。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202109/428342.htm

據(jù)統(tǒng)計,過去四個季度(2020年第三季度-2021年第二季度), EUV設(shè)備出貨總計40臺,較之前四個季度(2019年第三季度-2020年第二季度)增長了66%。今年的出貨目標是40臺左右,下半年將供應25臺左右。

ASML出貨超過100臺EUV光刻機 新制程時代來臨

ASML擴大EUV設(shè)備供應響應了半導體制造業(yè)實現(xiàn)超微電路層的需求。盡管每臺設(shè)備的價格達到1.71億美元,但由于其卓越的工藝成本和省時效果,可以抵消設(shè)備采購的成本。業(yè)內(nèi)人士指出,通過EUV可以降低設(shè)備成本和工藝成本,因此,在微加工領(lǐng)域引進EUV設(shè)備的企業(yè)越來越多。

根據(jù)ASML的說法,5-7nm邏輯半導體(以每月45,000顆晶圓為基準)每個EUV層需要一臺EUV設(shè)備,16nm及以下節(jié)點DRAM(以每月100,000顆晶圓為基準)每個EUV層則需要1.5-2臺設(shè)備。三星電子計劃,到今年下半年為止,將14nm DDR5 DRAM的EUV應用層數(shù)從1層增加到5層,SK海力士也計劃增加EUV應用層數(shù),因此,預計EUV設(shè)備的需求將進一步增加。

除了EUV層的增加,EUV設(shè)備的客戶群也在逐漸擴大。繼2018年三星電子首次引進7nm制程的EUV設(shè)備后,臺積電和SK海力士也加入了EUV競爭。美國的美光和英特爾也在推進EUV設(shè)備的引進,預計市場規(guī)模將進一步擴大。



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