工藝與設(shè)計(jì)協(xié)同優(yōu)化的PDK與標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)

EDA中心在PDK設(shè)計(jì)領(lǐng)域開展了十多年的研發(fā)工作，常年服務(wù)于國(guó)內(nèi)外主流Foundry、各大EDA公司和IC設(shè)計(jì)公司。能夠基于多種語(yǔ)言(Skill/Tcl/Python)開發(fā)適用于各種軟件平臺(tái)的PDK/oaPDK/iPDK。到目前為止，已經(jīng)基于國(guó)內(nèi)主流Foundry的28nm/40nm/65nm/0.11um eFlash/130nm/180nm/0.35um/1um/3um和700V BCD/TFT/CNT-FET等先進(jìn)工藝成功開發(fā)了近20套兼容不同數(shù)據(jù)標(biāo)準(zhǔn)的商用PDK(包括大陸首套iPDK)。PDK交付商業(yè)用戶，成功在多個(gè)芯片設(shè)計(jì)中應(yīng)用。

PDK/oaPDK/ePDK/iPDK

EDA中心在標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)設(shè)計(jì)領(lǐng)域也有了十余年的研究積累。建立了完善的高密度/低功耗/高性能/高可靠/可制造性友好等專用標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)技術(shù)方案，具有先進(jìn)的標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)開發(fā)EDA工具和高效的批處理驗(yàn)證腳本平臺(tái)。到目前為止，已經(jīng)基于國(guó)內(nèi)主流的40nm/65nm/90nm/0.5um/ 600V BCD和CNT-FET工藝開發(fā)了6套專用的標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)。所開發(fā)的標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)包含完整準(zhǔn)確的模型文件，支持豐富的標(biāo)準(zhǔn)單元集合(組合邏輯單元/時(shí)序邏輯單元/特殊單元/ECO單元/PMK單元)。其中，40nm超高密度標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)中單元多達(dá)3000個(gè)，標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)模型文件豐富(180多個(gè)模型文件CCS/ECSM/NLDM)。標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)經(jīng)過驗(yàn)證功能完整正確，靈活適應(yīng)行業(yè)主流EDA軟件，并支持大規(guī)模數(shù)字集成電路芯片設(shè)計(jì)流程。標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)交付商業(yè)用戶，成功在多個(gè)芯片設(shè)計(jì)中應(yīng)用。

                                                                        標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)模型示例