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我國(guó)集成電路技術(shù)發(fā)展制約因素分析

作者:李芳,程媛,周濤,余文科(中國(guó)電子學(xué)會(huì),北京100036) 時(shí)間:2022-06-13 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

摘要:本文通過(guò)分析領(lǐng)域現(xiàn)狀及發(fā)展需求,基于德?tīng)柗普{(diào)查結(jié)果,對(duì)領(lǐng)域代表性技術(shù)的主要幾項(xiàng)制約因素進(jìn)行了研究,分別對(duì)實(shí)驗(yàn)室技術(shù)實(shí)現(xiàn)、技術(shù)應(yīng)用推廣和普及的制約因素進(jìn)行探討,并簡(jiǎn)要進(jìn)行了理論解釋;最后對(duì)幾項(xiàng)突出共性的制約因素,就其制約原因及可能的解決方法進(jìn)行了分析和探討。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202206/435111.htm

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當(dāng)前我國(guó)集成電路技術(shù)總體發(fā)展態(tài)勢(shì)良好,據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)發(fā)布的產(chǎn)業(yè)運(yùn)行報(bào)告,2021 中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)總銷售額為 10458.3 億元,同比增長(zhǎng)為 18.2%[1]。科創(chuàng)板集成電路公司實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn) 238.51 億元,同比增長(zhǎng) 191%,超八成公司凈利潤(rùn)增長(zhǎng)。芯片市場(chǎng)供不應(yīng)求帶動(dòng)了半導(dǎo)體晶圓代工和封測(cè)企業(yè)加速擴(kuò)產(chǎn),刺激了半導(dǎo)體設(shè)備和材料需求大幅增長(zhǎng)。但縱觀領(lǐng)域整體技術(shù)水平,呈現(xiàn)“大而不強(qiáng)”“快而不優(yōu)”的特點(diǎn),水平參差不齊,技術(shù)短板依然存在。多類集成電路細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)水平還有待進(jìn)一步提高和重點(diǎn)發(fā)展,如:高端光刻技術(shù)、以EDA為代表的設(shè)計(jì)模擬軟件技術(shù)、三維集成封裝技術(shù)為代表的先進(jìn)封裝技術(shù)、刻蝕及沉積等集成電路設(shè)備等。集成電路技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀和國(guó)際領(lǐng)先水平還有差距,集成電路作為信息領(lǐng)域核心支柱技術(shù),許多關(guān)鍵技術(shù)仍然掣肘。從細(xì)分領(lǐng)域看,技術(shù)發(fā)展痛點(diǎn)、難點(diǎn)仍有很多,制約著相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展,乃至整個(gè)信息領(lǐng)域發(fā)展。對(duì)于制約技術(shù)發(fā)展的因素,本文從集成電路領(lǐng)域德?tīng)柗普{(diào)查結(jié)果出發(fā),對(duì)得到的幾項(xiàng)領(lǐng)域主要制約因素展開(kāi)分析、進(jìn)行制約原因分析并對(duì)于可能的解決方法進(jìn)行了探析,以期為掃清領(lǐng)域技術(shù)發(fā)展障礙提供思路。

1 技術(shù)發(fā)展需求分析

近年來(lái),我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)在政府高度重視、政策大力支持和業(yè)內(nèi)企業(yè)提高研發(fā)資金投入等多方面努力之下,取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步。許多過(guò)去“卡脖子”的技術(shù)有了補(bǔ)齊替代方案,全產(chǎn)業(yè)鏈均實(shí)現(xiàn)不同程度的增長(zhǎng)。對(duì)于設(shè)計(jì)領(lǐng)域,當(dāng)前高端芯片的設(shè)計(jì)水平提升明顯, CPU 及 SoC 等產(chǎn)品水平均有較大改進(jìn);對(duì)于制造環(huán)節(jié), 14 nm 及以上制造工藝已經(jīng)較為成熟,均已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn), 7 nm 工藝制程已取得進(jìn)展,7 nm 以下先進(jìn)工藝也在有序研發(fā)中;在封裝集成環(huán)節(jié),技術(shù)水平逐步向高端演進(jìn),九成以上技術(shù)接近或達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平;對(duì)于裝備及材料環(huán)節(jié),28 nm 以上制程能力逐步成熟,7~14 nm 逐步研發(fā)出來(lái)。

1.1 萬(wàn)物互聯(lián)對(duì)技術(shù)發(fā)展提出創(chuàng)新需求

隨著萬(wàn)物互聯(lián)世界的到來(lái),集成電路面臨支撐日益發(fā)展的消費(fèi)領(lǐng)域和工業(yè)領(lǐng)域智慧化要求,以及支撐智慧物聯(lián)應(yīng)用多個(gè)領(lǐng)域的重大挑戰(zhàn)。這就要求集成電路更低成本、更智能化,更高效化,更綠色。傳統(tǒng)行業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí),工業(yè)領(lǐng)域?qū)χ悄苤圃燹D(zhuǎn)型實(shí)現(xiàn)以及生產(chǎn)設(shè)備智能升級(jí)都對(duì)芯片水平提出了越來(lái)越高的要求;智慧城市、智慧交通車路協(xié)同、智能航運(yùn)、智能安防等眾多智慧領(lǐng)域應(yīng)用深化拓展,也在對(duì)芯片領(lǐng)域擴(kuò)寬提出更高要求。

1.2 智能產(chǎn)業(yè)發(fā)展對(duì)融合發(fā)展提出更高要求

目前 5G、6G、智能汽車等應(yīng)用市場(chǎng)已逐漸成為半導(dǎo)體增長(zhǎng)的下一輪重要驅(qū)動(dòng)力。智能應(yīng)用對(duì)芯片的速度、可靠性、穩(wěn)定性等都提出了新的需求,將帶動(dòng)半導(dǎo)體整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的改變,包括半導(dǎo)體器件、制造工藝以及測(cè)試領(lǐng)域。新型智能汽車作為當(dāng)前發(fā)展熱點(diǎn),融合了自動(dòng)駕駛、車聯(lián)網(wǎng)、新能源等多種技術(shù),綜合數(shù)據(jù)傳感、芯片算法、通信技術(shù)、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、大數(shù)據(jù)等技術(shù)對(duì)芯片功能融合有更高的要求。智能網(wǎng)聯(lián)汽車對(duì)信息安全、互聯(lián)互通、智慧節(jié)能的更高要求使得汽車制造領(lǐng)域技術(shù)重點(diǎn)從以機(jī)械制造逐步向電子信息融合技術(shù)轉(zhuǎn)變,成為拉動(dòng)集成電路及半導(dǎo)體發(fā)展的一大動(dòng)力。智慧領(lǐng)域的拓展應(yīng)用,對(duì)集成電路智能化提出更高要求。物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、大數(shù)據(jù)等技術(shù)推動(dòng)芯片向更加智能化方向發(fā)展,融合物聯(lián)網(wǎng)、邊緣計(jì)算技術(shù)和人工智能算法的集成電路的融合發(fā)展需求將更為明顯。

1.3 面臨保障信息安全和產(chǎn)業(yè)安全的重大挑戰(zhàn)

隨著新一代信息技術(shù)逐步發(fā)展和智慧應(yīng)用的逐步深入,產(chǎn)業(yè)對(duì)信息安全的要求更加迫切,信息安全保障也成為芯片發(fā)展的重點(diǎn)和難點(diǎn)。許多集成電路設(shè)備、材料和技術(shù)專利長(zhǎng)期以來(lái)依賴國(guó)外,自主化程度較低,面對(duì)當(dāng)前瞬息萬(wàn)變的局勢(shì),產(chǎn)業(yè)運(yùn)行安全也難以保障。長(zhǎng)期以來(lái),對(duì)技術(shù)和設(shè)備的智能監(jiān)管不足,信息安全隱患突出。集成電路技術(shù)是信息安全的保障基石,只有不斷提升技術(shù)水平,才能應(yīng)對(duì)越來(lái)越突出的信息安全需求,不斷加快實(shí)現(xiàn)芯片國(guó)產(chǎn)化是減少信息安全漏洞的根本方法。

2 技術(shù)發(fā)展制約因素的德?tīng)柗品治?/strong>

我們就集成電路領(lǐng)域有關(guān)技術(shù) 9 個(gè)分領(lǐng)域 44 個(gè)核心技術(shù)群,前期通過(guò)專家問(wèn)卷調(diào)查開(kāi)展了德?tīng)柗普{(diào)研,對(duì)集成電路領(lǐng)域制約因素,分為“實(shí)驗(yàn)室技術(shù)實(shí)現(xiàn)”和“技術(shù)應(yīng)用推廣及普及”兩方面進(jìn)行調(diào)查,問(wèn)卷每類預(yù)設(shè) 9 項(xiàng)因素,針對(duì)每項(xiàng)技術(shù),請(qǐng)專家選擇影響最大的因素,由此得到了制約因素影響狀況。

2.1 實(shí)驗(yàn)室技術(shù)實(shí)現(xiàn)制約分析

對(duì)于調(diào)查得出的 10 項(xiàng)最重要技術(shù),綜合看來(lái)調(diào)查結(jié)果(如圖 1)認(rèn)為,在 9 項(xiàng)制約因素中,對(duì)該領(lǐng)域?qū)嶒?yàn)室技術(shù)實(shí)現(xiàn)制約程度最大的三個(gè)因素是高層次人才及團(tuán)隊(duì)(平均影響占比為 22.64%,即對(duì)于領(lǐng)域最重要 10 項(xiàng)技術(shù)平均每項(xiàng)有 22.64% 的專家認(rèn)為此項(xiàng)因素為影響最大的因素)、科學(xué)原理突破(平均影響占比為 21.43%)和研發(fā)資金(平均影響占比為 18.09%)。

集成電路屬于知識(shí)密集型領(lǐng)域,技術(shù)研發(fā)需要大量高層次人才,工信部曾多次發(fā)文指出,人才短缺特別是高端人才團(tuán)隊(duì)的短缺是制約我國(guó)半導(dǎo)體和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要原因??茖W(xué)原理突破也是主要制約因素之一,制約主要表現(xiàn)在摩爾定律已經(jīng)走向極限,懸在集成電路行業(yè)發(fā)展之上,亟需打破摩爾定律。研發(fā)資金一直是制約集成電路技術(shù)發(fā)展的另一項(xiàng)重要因素,設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)高檔 IP 核的許可費(fèi)用很高,產(chǎn)線建設(shè)及高端集成電路設(shè)備都需要較大投入。

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圖1 實(shí)驗(yàn)室技術(shù)實(shí)現(xiàn)的制約程度

2.2 技術(shù)應(yīng)用推廣和普及制約分析

調(diào)查結(jié)果認(rèn)為(如圖 2),在 9 項(xiàng)制約因素中,對(duì)技術(shù)應(yīng)用推廣方面影響最大的三個(gè)因素是產(chǎn)業(yè)鏈配套能力(平均影響占比為 25.66%,即對(duì)于領(lǐng)域最重要 10 項(xiàng)技術(shù)平均每項(xiàng)有 25.66% 的專家認(rèn)為此項(xiàng)因素為影響最大的因素)、社會(huì)或風(fēng)險(xiǎn)資金(平均影響占比為 21.29%)和成果轉(zhuǎn)化中試基地(平均影響占比為 17.71%)。

產(chǎn)業(yè)鏈配套能力主要指領(lǐng)域內(nèi)整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)調(diào)能力。集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的配套能力制約意味著產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)不完善,部分領(lǐng)域受到外部制約,存在產(chǎn)業(yè)鏈短板。隨著近幾年的發(fā)展,集成電路技術(shù)覆蓋面和產(chǎn)業(yè)水平都有明顯提高,但高端芯片技術(shù)能力、性能的穩(wěn)定性和應(yīng)用推廣程度等與國(guó)際領(lǐng)先水平還有差距。社會(huì)或風(fēng)險(xiǎn)資金方面,除了少部分企業(yè)從海外證券市場(chǎng)上市,其他芯片企業(yè)因?yàn)槿狈Y金而難以提升產(chǎn)能規(guī)模。企業(yè)缺少機(jī)會(huì)獲得足夠的資金來(lái)滿足自身的發(fā)展需要,國(guó)內(nèi)企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新投入少,限制了企業(yè)創(chuàng)新能力。

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圖2 技術(shù)應(yīng)用推廣和普及的制約程度

2.3 各影響因素主要制約的技術(shù)

在實(shí)驗(yàn)室技術(shù)實(shí)現(xiàn)方面,受 9 個(gè)因素制約程度最大的技術(shù)見(jiàn)表 1。全光計(jì)算技術(shù)等新集成電路新方向由于支撐技術(shù)發(fā)展還不夠成熟,過(guò)去不屬于主流發(fā)展方向,調(diào)查結(jié)果顯示受科學(xué)原理突破影響較大,過(guò)程檢測(cè)類技術(shù)涉及支撐技術(shù)較多,受學(xué)科交叉程度影響較大。

表1 實(shí)驗(yàn)室技術(shù)實(shí)現(xiàn)受各項(xiàng)因素影響最大的技術(shù)

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在技術(shù)應(yīng)用推廣和普及方面,受 9 個(gè)因素制約程度最大的技術(shù)見(jiàn)表 2。新型半導(dǎo)體材料技術(shù)類應(yīng)用推廣受成果轉(zhuǎn)化、產(chǎn)業(yè)鏈配套及示范應(yīng)用推廣等方面制約程度較大,光刻技術(shù)受國(guó)外競(jìng)爭(zhēng)限制制約程度較大。

表2 技術(shù)應(yīng)用推廣和普及受各項(xiàng)因素影響最大的技術(shù)

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3 主要

3.1 核心領(lǐng)域高層次技術(shù)人才短缺

高層次人才和技術(shù)人員不足對(duì)集成電路領(lǐng)域發(fā)展影響很大,當(dāng)前人才短缺問(wèn)題在不同地區(qū)和集成電路不同領(lǐng)域廣泛存在。數(shù)據(jù)顯示,在人才和學(xué)科發(fā)展政策支持下,在領(lǐng)域人才數(shù)量逐步提升的情況下,人才缺口仍然高達(dá) 20 萬(wàn)。除了研發(fā)人員的短缺,技術(shù)工人、技師、高水平生產(chǎn)操作人員短缺情況同樣嚴(yán)峻,操作工人短缺成為包括集成電路行業(yè)在內(nèi)的生產(chǎn)行業(yè)普遍存在的突出問(wèn)題。核心技術(shù)領(lǐng)域高水平對(duì)口專業(yè)人才更加短缺,以光刻技術(shù)為例,國(guó)內(nèi)從事光刻設(shè)備研發(fā)人員數(shù)量只有一千多人,總數(shù)還不到有些國(guó)外代表性光刻技術(shù)企業(yè)的研發(fā)人員的十分之一。不僅領(lǐng)域內(nèi)高端人才總量不足,專業(yè)人才對(duì)口就業(yè)率也不夠高,由于行業(yè)薪資水平限制,存在向其他行業(yè)就業(yè)的現(xiàn)象;人才流失局面沒(méi)有得到解決,集成電路、微電子、物理電子學(xué)等相關(guān)專業(yè)教學(xué)和人才培養(yǎng)模式與產(chǎn)業(yè)發(fā)展方向相結(jié)合的程度還不夠,共同制約著人才供給水平,導(dǎo)致高端人才難以滿足行業(yè)發(fā)展,難以保障技術(shù)高速發(fā)展需求。

3.2 研發(fā)資金投入轉(zhuǎn)化程度低

當(dāng)前,集成電路領(lǐng)域受到國(guó)家高度重視,集成電路產(chǎn)業(yè)確定為戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)之一,行業(yè)資金投入總量不小,但對(duì)行業(yè)推動(dòng)作用和轉(zhuǎn)化程度較低,“熱錢難用到實(shí)處”。國(guó)家和地方政府紛紛出臺(tái)大量支持政策,為行業(yè)各環(huán)節(jié)都提供了相應(yīng)財(cái)政、稅收等支持政策。集成電路領(lǐng)域一度迎來(lái)投資熱潮,多地紛紛設(shè)立重點(diǎn)項(xiàng)目,然而項(xiàng)目建設(shè)領(lǐng)域重復(fù)、集中,存在扎堆建設(shè),如大硅片領(lǐng)域、化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域。除了領(lǐng)域扎堆,新建項(xiàng)目還存在基礎(chǔ)薄弱,產(chǎn)業(yè)能力差,與地方發(fā)展難以結(jié)合,出現(xiàn)“水土不服”現(xiàn)象,投資后項(xiàng)目難以出現(xiàn)實(shí)效。此外,領(lǐng)域研發(fā)投入嚴(yán)重不足。研發(fā)投入占比嚴(yán)重落后于國(guó)外企業(yè),集成電路企業(yè)資金實(shí)力不足,英特爾研發(fā)支出達(dá)到 134 億美元,光刻機(jī)巨頭 ASML 近十年研發(fā)費(fèi)用支出超過(guò) 90 億歐元,與此相比,國(guó)內(nèi)企業(yè)研發(fā)投入嚴(yán)重不足,2019 年半導(dǎo)體行業(yè)研發(fā)投入前十的企業(yè),中國(guó)只有華為一家。

3.3 產(chǎn)業(yè)鏈短板限制整體行業(yè)發(fā)展

產(chǎn)業(yè)鏈與供應(yīng)鏈及創(chuàng)新機(jī)制的協(xié)同效應(yīng)還不強(qiáng)。縱觀整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈,封裝環(huán)節(jié)與國(guó)際水平差距不大,但其他領(lǐng)域還有較大差距。一方面,產(chǎn)業(yè)某些環(huán)節(jié)短板較為明顯,對(duì)整體行業(yè)發(fā)展較為不利。EDA、光刻技術(shù)等與國(guó)外水平差距很大,長(zhǎng)期依賴國(guó)外產(chǎn)品,受制于人。EDA 產(chǎn)品被 Synopsys、Cadence、Mentor Graphics 幾家巨頭長(zhǎng)期占據(jù)市場(chǎng),國(guó)內(nèi)不但產(chǎn)品有限,產(chǎn)品較為孤立、零星,產(chǎn)品推廣難度也很大。另一方面,產(chǎn)業(yè)鏈的某些環(huán)節(jié)存在著重復(fù)建設(shè)缺乏整體規(guī)劃、項(xiàng)目雷同、高端產(chǎn)品 缺乏,造成資源浪費(fèi),不利于產(chǎn)業(yè)鏈健康有序發(fā)展。

3.4 成果轉(zhuǎn)化及創(chuàng)新體系效能不夠高

高水平科技成果供給能力不足,成果轉(zhuǎn)化水平仍然不夠高,難以支撐技術(shù)高水平發(fā)展,對(duì)產(chǎn)業(yè)供應(yīng)支撐不足。企業(yè)創(chuàng)新研發(fā)能力與創(chuàng)新生態(tài)建設(shè)都有不足,創(chuàng)新體系沒(méi)有形成可持續(xù)效應(yīng)。自主創(chuàng)新能力不足,沒(méi)有形成攻關(guān)關(guān)鍵領(lǐng)域和核心技術(shù)的攻關(guān)機(jī)制。企業(yè)創(chuàng)新風(fēng)險(xiǎn)防控和保障機(jī)制不足,使得企業(yè)不愿承受高額投資帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)??蒲泄芾怼⒖萍吉?jiǎng)勵(lì)分配等制度機(jī)制存在欠缺。

4 研究總結(jié)

近幾年來(lái),我國(guó)集成電路發(fā)展已初步完成從無(wú)到有的過(guò)程,但還需精細(xì)化發(fā)展,轉(zhuǎn)型升級(jí),注重高端產(chǎn)品和技術(shù)的培育。總體看來(lái),當(dāng)前領(lǐng)域資金投入不足及使用不到位和高端人才短缺仍是制約技術(shù)發(fā)展的重要因素。自主技術(shù)體系仍舊不完善,新興替代產(chǎn)品和技術(shù)的應(yīng)用推廣程度不夠,制約著整體行業(yè)發(fā)展。面對(duì)當(dāng)前困境,還需多方面發(fā)力。

探索機(jī)制,引導(dǎo)高校和企業(yè)形成合力,注重多學(xué)科交叉融合培育,培育創(chuàng)新型人才。注重培育集成電路產(chǎn)業(yè)核心領(lǐng)域人才和專業(yè)團(tuán)隊(duì)。以行業(yè)發(fā)展重大需求和核心技術(shù)發(fā)展重點(diǎn)作為指引,培育重大項(xiàng)目,以此培養(yǎng)高端人才團(tuán)隊(duì)。

集中政府和市場(chǎng)化力量引導(dǎo)多種方式的投入和支持,引導(dǎo)土地、設(shè)備、資金共同作為投入,培育新型研發(fā)組織,注重創(chuàng)新生態(tài)的融合,引入多方面資金來(lái)源共同投入。優(yōu)化人才反饋機(jī)制,建立合理受益機(jī)制,培育合作共贏的產(chǎn)業(yè)聯(lián)合模式。推動(dòng)企業(yè)、研究機(jī)構(gòu)、產(chǎn)學(xué)研合作組織共同發(fā)力,提升創(chuàng)新能力。

強(qiáng)化自主研發(fā)能力,提升企業(yè)創(chuàng)新能力,打造行業(yè)和學(xué)術(shù)界聯(lián)合研發(fā)的機(jī)制,探索合作模式鼓勵(lì)大型企業(yè)開(kāi)放共享機(jī)制,促進(jìn)融通發(fā)展。補(bǔ)齊企業(yè)創(chuàng)新風(fēng)險(xiǎn)防控和保障機(jī)制。

參考文獻(xiàn):

[1] 中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì).2021年中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)運(yùn)行情況[R].2022.

[2] 余文科,李芳,程媛,等.我國(guó)集成電路領(lǐng)域重要技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)和技術(shù)預(yù)見(jiàn)淺析[J].今日科苑,2020(11):11.

[3] 李珂.中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展迎來(lái)新高潮[J].互聯(lián)網(wǎng)經(jīng)濟(jì),2020.(8):12-15.

[4] 中國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院等.中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)人才發(fā)展報(bào)告(2020-2021年版)[R].2021.

[5] 朱晶,趙佳菲,史弘琳,等.2020年中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀回顧和新時(shí)期發(fā)展展望[J].中國(guó)集成電路,2020,29(11):11-16,19.

[6] 付凱晨.我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及實(shí)現(xiàn)跨越式發(fā)展應(yīng)對(duì)之策的思考[J].湖北第二師范學(xué)院學(xué)報(bào),2021,38(5):52-58.

[7] 佚名.企業(yè)研究報(bào)告新時(shí)代的新型研發(fā)機(jī)構(gòu)[J].企業(yè)研究報(bào)告,2019.

(本文轉(zhuǎn)自《電子產(chǎn)品世界》雜志2022年第6期)



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