我國集成電路技術(shù)發(fā)展制約因素分析
摘要:本文通過分析集成電路領(lǐng)域技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀及發(fā)展需求,基于德爾菲調(diào)查結(jié)果,對集成電路領(lǐng)域代表性技術(shù)的主要幾項制約因素進(jìn)行了研究,分別對實驗室技術(shù)實現(xiàn)、技術(shù)應(yīng)用推廣和普及的制約因素進(jìn)行探討,并簡要進(jìn)行了理論解釋;最后對幾項突出共性的制約因素,就其制約原因及可能的解決方法進(jìn)行了分析和探討。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202206/435111.htm關(guān)鍵詞:制約因素分析;技術(shù)發(fā)展;集成電路
當(dāng)前我國集成電路技術(shù)總體發(fā)展態(tài)勢良好,據(jù)中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會發(fā)布的產(chǎn)業(yè)運行報告,2021 中國集成電路產(chǎn)業(yè)總銷售額為 10458.3 億元,同比增長為 18.2%[1]??苿?chuàng)板集成電路公司實現(xiàn)歸母凈利潤 238.51 億元,同比增長 191%,超八成公司凈利潤增長。芯片市場供不應(yīng)求帶動了半導(dǎo)體晶圓代工和封測企業(yè)加速擴(kuò)產(chǎn),刺激了半導(dǎo)體設(shè)備和材料需求大幅增長。但縱觀領(lǐng)域整體技術(shù)水平,呈現(xiàn)“大而不強(qiáng)”“快而不優(yōu)”的特點,技術(shù)發(fā)展水平參差不齊,技術(shù)短板依然存在。多類集成電路細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)水平還有待進(jìn)一步提高和重點發(fā)展,如:高端光刻技術(shù)、以EDA為代表的設(shè)計模擬軟件技術(shù)、三維集成封裝技術(shù)為代表的先進(jìn)封裝技術(shù)、刻蝕及沉積等集成電路設(shè)備等。集成電路技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀和國際領(lǐng)先水平還有差距,集成電路作為信息領(lǐng)域核心支柱技術(shù),許多關(guān)鍵技術(shù)仍然掣肘。從細(xì)分領(lǐng)域看,技術(shù)發(fā)展痛點、難點仍有很多,制約著相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展,乃至整個信息領(lǐng)域發(fā)展。對于制約技術(shù)發(fā)展的因素,本文從集成電路領(lǐng)域德爾菲調(diào)查結(jié)果出發(fā),對得到的幾項領(lǐng)域主要制約因素展開分析、進(jìn)行制約原因分析并對于可能的解決方法進(jìn)行了探析,以期為掃清領(lǐng)域技術(shù)發(fā)展障礙提供思路。
1 技術(shù)發(fā)展需求分析
近年來,我國集成電路產(chǎn)業(yè)在政府高度重視、政策大力支持和業(yè)內(nèi)企業(yè)提高研發(fā)資金投入等多方面努力之下,取得了長足的進(jìn)步。許多過去“卡脖子”的技術(shù)有了補(bǔ)齊替代方案,全產(chǎn)業(yè)鏈均實現(xiàn)不同程度的增長。對于設(shè)計領(lǐng)域,當(dāng)前高端芯片的設(shè)計水平提升明顯, CPU 及 SoC 等產(chǎn)品水平均有較大改進(jìn);對于制造環(huán)節(jié), 14 nm 及以上制造工藝已經(jīng)較為成熟,均已實現(xiàn)量產(chǎn), 7 nm 工藝制程已取得進(jìn)展,7 nm 以下先進(jìn)工藝也在有序研發(fā)中;在封裝集成環(huán)節(jié),技術(shù)水平逐步向高端演進(jìn),九成以上技術(shù)接近或達(dá)到國際領(lǐng)先水平;對于裝備及材料環(huán)節(jié),28 nm 以上制程能力逐步成熟,7~14 nm 逐步研發(fā)出來。
1.1 萬物互聯(lián)對技術(shù)發(fā)展提出創(chuàng)新需求
隨著萬物互聯(lián)世界的到來,集成電路面臨支撐日益發(fā)展的消費領(lǐng)域和工業(yè)領(lǐng)域智慧化要求,以及支撐智慧物聯(lián)應(yīng)用多個領(lǐng)域的重大挑戰(zhàn)。這就要求集成電路更低成本、更智能化,更高效化,更綠色。傳統(tǒng)行業(yè)轉(zhuǎn)型升級,工業(yè)領(lǐng)域?qū)χ悄苤圃燹D(zhuǎn)型實現(xiàn)以及生產(chǎn)設(shè)備智能升級都對芯片水平提出了越來越高的要求;智慧城市、智慧交通車路協(xié)同、智能航運、智能安防等眾多智慧領(lǐng)域應(yīng)用深化拓展,也在對芯片領(lǐng)域擴(kuò)寬提出更高要求。
1.2 智能產(chǎn)業(yè)發(fā)展對融合發(fā)展提出更高要求
目前 5G、6G、智能汽車等應(yīng)用市場已逐漸成為半導(dǎo)體增長的下一輪重要驅(qū)動力。智能應(yīng)用對芯片的速度、可靠性、穩(wěn)定性等都提出了新的需求,將帶動半導(dǎo)體整個產(chǎn)業(yè)鏈的改變,包括半導(dǎo)體器件、制造工藝以及測試領(lǐng)域。新型智能汽車作為當(dāng)前發(fā)展熱點,融合了自動駕駛、車聯(lián)網(wǎng)、新能源等多種技術(shù),綜合數(shù)據(jù)傳感、芯片算法、通信技術(shù)、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、大數(shù)據(jù)等技術(shù)對芯片功能融合有更高的要求。智能網(wǎng)聯(lián)汽車對信息安全、互聯(lián)互通、智慧節(jié)能的更高要求使得汽車制造領(lǐng)域技術(shù)重點從以機(jī)械制造逐步向電子信息融合技術(shù)轉(zhuǎn)變,成為拉動集成電路及半導(dǎo)體發(fā)展的一大動力。智慧領(lǐng)域的拓展應(yīng)用,對集成電路智能化提出更高要求。物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、大數(shù)據(jù)等技術(shù)推動芯片向更加智能化方向發(fā)展,融合物聯(lián)網(wǎng)、邊緣計算技術(shù)和人工智能算法的集成電路的融合發(fā)展需求將更為明顯。
1.3 面臨保障信息安全和產(chǎn)業(yè)安全的重大挑戰(zhàn)
隨著新一代信息技術(shù)逐步發(fā)展和智慧應(yīng)用的逐步深入,產(chǎn)業(yè)對信息安全的要求更加迫切,信息安全保障也成為芯片發(fā)展的重點和難點。許多集成電路設(shè)備、材料和技術(shù)專利長期以來依賴國外,自主化程度較低,面對當(dāng)前瞬息萬變的局勢,產(chǎn)業(yè)運行安全也難以保障。長期以來,對技術(shù)和設(shè)備的智能監(jiān)管不足,信息安全隱患突出。集成電路技術(shù)是信息安全的保障基石,只有不斷提升技術(shù)水平,才能應(yīng)對越來越突出的信息安全需求,不斷加快實現(xiàn)芯片國產(chǎn)化是減少信息安全漏洞的根本方法。
2 技術(shù)發(fā)展制約因素的德爾菲分析
我們就集成電路領(lǐng)域有關(guān)技術(shù) 9 個分領(lǐng)域 44 個核心技術(shù)群,前期通過專家問卷調(diào)查開展了德爾菲調(diào)研,對集成電路領(lǐng)域制約因素,分為“實驗室技術(shù)實現(xiàn)”和“技術(shù)應(yīng)用推廣及普及”兩方面進(jìn)行調(diào)查,問卷每類預(yù)設(shè) 9 項因素,針對每項技術(shù),請專家選擇影響最大的因素,由此得到了制約因素影響狀況。
2.1 實驗室技術(shù)實現(xiàn)制約分析
對于調(diào)查得出的 10 項最重要技術(shù),綜合看來調(diào)查結(jié)果(如圖 1)認(rèn)為,在 9 項制約因素中,對該領(lǐng)域?qū)嶒炇壹夹g(shù)實現(xiàn)制約程度最大的三個因素是高層次人才及團(tuán)隊(平均影響占比為 22.64%,即對于領(lǐng)域最重要 10 項技術(shù)平均每項有 22.64% 的專家認(rèn)為此項因素為影響最大的因素)、科學(xué)原理突破(平均影響占比為 21.43%)和研發(fā)資金(平均影響占比為 18.09%)。
集成電路屬于知識密集型領(lǐng)域,技術(shù)研發(fā)需要大量高層次人才,工信部曾多次發(fā)文指出,人才短缺特別是高端人才團(tuán)隊的短缺是制約我國半導(dǎo)體和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要原因。科學(xué)原理突破也是主要制約因素之一,制約主要表現(xiàn)在摩爾定律已經(jīng)走向極限,懸在集成電路行業(yè)發(fā)展之上,亟需打破摩爾定律。研發(fā)資金一直是制約集成電路技術(shù)發(fā)展的另一項重要因素,設(shè)計環(huán)節(jié)高檔 IP 核的許可費用很高,產(chǎn)線建設(shè)及高端集成電路設(shè)備都需要較大投入。
圖1 實驗室技術(shù)實現(xiàn)的制約程度
2.2 技術(shù)應(yīng)用推廣和普及制約分析
調(diào)查結(jié)果認(rèn)為(如圖 2),在 9 項制約因素中,對技術(shù)應(yīng)用推廣方面影響最大的三個因素是產(chǎn)業(yè)鏈配套能力(平均影響占比為 25.66%,即對于領(lǐng)域最重要 10 項技術(shù)平均每項有 25.66% 的專家認(rèn)為此項因素為影響最大的因素)、社會或風(fēng)險資金(平均影響占比為 21.29%)和成果轉(zhuǎn)化中試基地(平均影響占比為 17.71%)。
產(chǎn)業(yè)鏈配套能力主要指領(lǐng)域內(nèi)整個產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)調(diào)能力。集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的配套能力制約意味著產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)不完善,部分領(lǐng)域受到外部制約,存在產(chǎn)業(yè)鏈短板。隨著近幾年的發(fā)展,集成電路技術(shù)覆蓋面和產(chǎn)業(yè)水平都有明顯提高,但高端芯片技術(shù)能力、性能的穩(wěn)定性和應(yīng)用推廣程度等與國際領(lǐng)先水平還有差距。社會或風(fēng)險資金方面,除了少部分企業(yè)從海外證券市場上市,其他芯片企業(yè)因為缺乏資金而難以提升產(chǎn)能規(guī)模。企業(yè)缺少機(jī)會獲得足夠的資金來滿足自身的發(fā)展需要,國內(nèi)企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新投入少,限制了企業(yè)創(chuàng)新能力。
圖2 技術(shù)應(yīng)用推廣和普及的制約程度
2.3 各影響因素主要制約的技術(shù)
在實驗室技術(shù)實現(xiàn)方面,受 9 個因素制約程度最大的技術(shù)見表 1。全光計算技術(shù)等新集成電路新方向由于支撐技術(shù)發(fā)展還不夠成熟,過去不屬于主流發(fā)展方向,調(diào)查結(jié)果顯示受科學(xué)原理突破影響較大,過程檢測類技術(shù)涉及支撐技術(shù)較多,受學(xué)科交叉程度影響較大。
表1 實驗室技術(shù)實現(xiàn)受各項因素影響最大的技術(shù)
在技術(shù)應(yīng)用推廣和普及方面,受 9 個因素制約程度最大的技術(shù)見表 2。新型半導(dǎo)體材料技術(shù)類應(yīng)用推廣受成果轉(zhuǎn)化、產(chǎn)業(yè)鏈配套及示范應(yīng)用推廣等方面制約程度較大,光刻技術(shù)受國外競爭限制制約程度較大。
表2 技術(shù)應(yīng)用推廣和普及受各項因素影響最大的技術(shù)
3 主要制約因素分析
3.1 核心領(lǐng)域高層次技術(shù)人才短缺
高層次人才和技術(shù)人員不足對集成電路領(lǐng)域發(fā)展影響很大,當(dāng)前人才短缺問題在不同地區(qū)和集成電路不同領(lǐng)域廣泛存在。數(shù)據(jù)顯示,在人才和學(xué)科發(fā)展政策支持下,在領(lǐng)域人才數(shù)量逐步提升的情況下,人才缺口仍然高達(dá) 20 萬。除了研發(fā)人員的短缺,技術(shù)工人、技師、高水平生產(chǎn)操作人員短缺情況同樣嚴(yán)峻,操作工人短缺成為包括集成電路行業(yè)在內(nèi)的生產(chǎn)行業(yè)普遍存在的突出問題。核心技術(shù)領(lǐng)域高水平對口專業(yè)人才更加短缺,以光刻技術(shù)為例,國內(nèi)從事光刻設(shè)備研發(fā)人員數(shù)量只有一千多人,總數(shù)還不到有些國外代表性光刻技術(shù)企業(yè)的研發(fā)人員的十分之一。不僅領(lǐng)域內(nèi)高端人才總量不足,專業(yè)人才對口就業(yè)率也不夠高,由于行業(yè)薪資水平限制,存在向其他行業(yè)就業(yè)的現(xiàn)象;人才流失局面沒有得到解決,集成電路、微電子、物理電子學(xué)等相關(guān)專業(yè)教學(xué)和人才培養(yǎng)模式與產(chǎn)業(yè)發(fā)展方向相結(jié)合的程度還不夠,共同制約著人才供給水平,導(dǎo)致高端人才難以滿足行業(yè)發(fā)展,難以保障技術(shù)高速發(fā)展需求。
3.2 研發(fā)資金投入轉(zhuǎn)化程度低
當(dāng)前,集成電路領(lǐng)域受到國家高度重視,集成電路產(chǎn)業(yè)確定為戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)之一,行業(yè)資金投入總量不小,但對行業(yè)推動作用和轉(zhuǎn)化程度較低,“熱錢難用到實處”。國家和地方政府紛紛出臺大量支持政策,為行業(yè)各環(huán)節(jié)都提供了相應(yīng)財政、稅收等支持政策。集成電路領(lǐng)域一度迎來投資熱潮,多地紛紛設(shè)立重點項目,然而項目建設(shè)領(lǐng)域重復(fù)、集中,存在扎堆建設(shè),如大硅片領(lǐng)域、化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域。除了領(lǐng)域扎堆,新建項目還存在基礎(chǔ)薄弱,產(chǎn)業(yè)能力差,與地方發(fā)展難以結(jié)合,出現(xiàn)“水土不服”現(xiàn)象,投資后項目難以出現(xiàn)實效。此外,領(lǐng)域研發(fā)投入嚴(yán)重不足。研發(fā)投入占比嚴(yán)重落后于國外企業(yè),集成電路企業(yè)資金實力不足,英特爾研發(fā)支出達(dá)到 134 億美元,光刻機(jī)巨頭 ASML 近十年研發(fā)費用支出超過 90 億歐元,與此相比,國內(nèi)企業(yè)研發(fā)投入嚴(yán)重不足,2019 年半導(dǎo)體行業(yè)研發(fā)投入前十的企業(yè),中國只有華為一家。
3.3 產(chǎn)業(yè)鏈短板限制整體行業(yè)發(fā)展
產(chǎn)業(yè)鏈與供應(yīng)鏈及創(chuàng)新機(jī)制的協(xié)同效應(yīng)還不強(qiáng)??v觀整個產(chǎn)業(yè)鏈,封裝環(huán)節(jié)與國際水平差距不大,但其他領(lǐng)域還有較大差距。一方面,產(chǎn)業(yè)某些環(huán)節(jié)短板較為明顯,對整體行業(yè)發(fā)展較為不利。EDA、光刻技術(shù)等與國外水平差距很大,長期依賴國外產(chǎn)品,受制于人。EDA 產(chǎn)品被 Synopsys、Cadence、Mentor Graphics 幾家巨頭長期占據(jù)市場,國內(nèi)不但產(chǎn)品有限,產(chǎn)品較為孤立、零星,產(chǎn)品推廣難度也很大。另一方面,產(chǎn)業(yè)鏈的某些環(huán)節(jié)存在著重復(fù)建設(shè)缺乏整體規(guī)劃、項目雷同、高端產(chǎn)品 缺乏,造成資源浪費,不利于產(chǎn)業(yè)鏈健康有序發(fā)展。
3.4 成果轉(zhuǎn)化及創(chuàng)新體系效能不夠高
高水平科技成果供給能力不足,成果轉(zhuǎn)化水平仍然不夠高,難以支撐技術(shù)高水平發(fā)展,對產(chǎn)業(yè)供應(yīng)支撐不足。企業(yè)創(chuàng)新研發(fā)能力與創(chuàng)新生態(tài)建設(shè)都有不足,創(chuàng)新體系沒有形成可持續(xù)效應(yīng)。自主創(chuàng)新能力不足,沒有形成攻關(guān)關(guān)鍵領(lǐng)域和核心技術(shù)的攻關(guān)機(jī)制。企業(yè)創(chuàng)新風(fēng)險防控和保障機(jī)制不足,使得企業(yè)不愿承受高額投資帶來的風(fēng)險。科研管理、科技獎勵分配等制度機(jī)制存在欠缺。
4 研究總結(jié)
近幾年來,我國集成電路發(fā)展已初步完成從無到有的過程,但還需精細(xì)化發(fā)展,轉(zhuǎn)型升級,注重高端產(chǎn)品和技術(shù)的培育??傮w看來,當(dāng)前領(lǐng)域資金投入不足及使用不到位和高端人才短缺仍是制約技術(shù)發(fā)展的重要因素。自主技術(shù)體系仍舊不完善,新興替代產(chǎn)品和技術(shù)的應(yīng)用推廣程度不夠,制約著整體行業(yè)發(fā)展。面對當(dāng)前困境,還需多方面發(fā)力。
探索機(jī)制,引導(dǎo)高校和企業(yè)形成合力,注重多學(xué)科交叉融合培育,培育創(chuàng)新型人才。注重培育集成電路產(chǎn)業(yè)核心領(lǐng)域人才和專業(yè)團(tuán)隊。以行業(yè)發(fā)展重大需求和核心技術(shù)發(fā)展重點作為指引,培育重大項目,以此培養(yǎng)高端人才團(tuán)隊。
集中政府和市場化力量引導(dǎo)多種方式的投入和支持,引導(dǎo)土地、設(shè)備、資金共同作為投入,培育新型研發(fā)組織,注重創(chuàng)新生態(tài)的融合,引入多方面資金來源共同投入。優(yōu)化人才反饋機(jī)制,建立合理受益機(jī)制,培育合作共贏的產(chǎn)業(yè)聯(lián)合模式。推動企業(yè)、研究機(jī)構(gòu)、產(chǎn)學(xué)研合作組織共同發(fā)力,提升創(chuàng)新能力。
強(qiáng)化自主研發(fā)能力,提升企業(yè)創(chuàng)新能力,打造行業(yè)和學(xué)術(shù)界聯(lián)合研發(fā)的機(jī)制,探索合作模式鼓勵大型企業(yè)開放共享機(jī)制,促進(jìn)融通發(fā)展。補(bǔ)齊企業(yè)創(chuàng)新風(fēng)險防控和保障機(jī)制。
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(本文轉(zhuǎn)自《電子產(chǎn)品世界》雜志2022年第6期)
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