2028年自研7nm光刻機(jī)！俄羅斯真有這個(gè)能耐？

2028年實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)自研，可支持7nm芯片制造！俄羅斯真有這個(gè)能耐？

在芯片規(guī)則不斷的升級(jí)之下，各個(gè)國(guó)家不再相信基于美技術(shù)體系的國(guó)際產(chǎn)業(yè)鏈，而中、俄是產(chǎn)業(yè)被限制最嚴(yán)重的國(guó)家，因此在技術(shù)的自研上反應(yīng)也是最強(qiáng)烈的，在中企相繼傳出好消息之后，俄科學(xué)院也官宣了好消息。

根據(jù)海外傳來(lái)的消息，俄科學(xué)院IPF RAS已經(jīng)全力參與光刻設(shè)備的研發(fā)，后續(xù)將會(huì)有整套的半導(dǎo)體設(shè)備誕生，并且其還高調(diào)宣稱：“自研的光刻機(jī)將在2028年商用，并且可用于7nm左右的芯片量產(chǎn)！”

這就讓人納悶了，目前俄國(guó)依靠自主化的產(chǎn)業(yè)鏈，就連90nm工藝都無(wú)法完成，此前更是宣稱實(shí)現(xiàn)28nm工藝，也要等到2023年，如今卻宣稱2028年就能實(shí)現(xiàn)7nm工藝了，這真的有可能嗎？

俄半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀

在當(dāng)前的特殊形勢(shì)之下，俄半導(dǎo)體的現(xiàn)狀要比中國(guó)更加嚴(yán)峻，在芯片規(guī)則的不斷升級(jí)之下，蘋(píng)果、高通、AMD、英特爾、臺(tái)積電、三星等等企業(yè)相繼斷供，可以說(shuō)整個(gè)國(guó)家的芯片供應(yīng)渠道都被切斷了，俄科學(xué)院只能緊急啟動(dòng)了自研計(jì)劃。

在早前俄羅斯曾公布了一項(xiàng)計(jì)劃，預(yù)計(jì)會(huì)在2022年底完成90nm芯片的自主化，在2023年實(shí)現(xiàn)28nm芯片自研自產(chǎn)，但顯然這樣的預(yù)估過(guò)于保守了，從技術(shù)角度上來(lái)講，利用8年時(shí)間實(shí)現(xiàn)這個(gè)目標(biāo)難度不大。

俄羅斯科學(xué)院也并非浪得虛名，在很多的頂尖技術(shù)上都曾和老美掰過(guò)手腕，就拿航天航空技術(shù)來(lái)講，國(guó)際很多國(guó)家的衛(wèi)星發(fā)射都要依賴于俄羅斯，但可惜進(jìn)入到21實(shí)際之后，國(guó)家整體經(jīng)濟(jì)蕭條，沒(méi)有那么多的資金用于科研項(xiàng)目，才導(dǎo)致如今的困局出現(xiàn)。

如果沒(méi)有外來(lái)的芯片進(jìn)入，俄羅斯?jié)M打滿算僅能制造出65nm的芯片，并且這還要依賴于海外的半導(dǎo)體設(shè)備才能實(shí)現(xiàn)的，因此可以說(shuō)目前的形勢(shì)相當(dāng)嚴(yán)峻，而光刻機(jī)是核心的芯片制造設(shè)備，自然是首要攻克的目標(biāo)。

根據(jù)俄科學(xué)院IPF RAS的介紹，他們將會(huì)利用6年的時(shí)間制造出工業(yè)原型，首臺(tái)alpha 機(jī)器將會(huì)在2024年誕生，其也透露初期階段的工作，主要是完善系統(tǒng)的全面性，重心并不在于設(shè)備上的突破。

到了2026年新研發(fā)的Beta將實(shí)現(xiàn)對(duì)于alpha的替代，到達(dá)這個(gè)階段所有的系統(tǒng)都差不多整備完畢了，基本上許多的操作流程都能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化了，屆時(shí)在分辨率和生產(chǎn)力上也將得到很大的提升，這個(gè)階段就可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的融合調(diào)試，將集成運(yùn)用到實(shí)際技術(shù)操作流程中。

最后就到了最為關(guān)鍵的光源融入階段，這也是光刻機(jī)最為核心的技術(shù)，好在俄羅斯在X射線光源技術(shù)上，有著完全自主可控的技術(shù)，此前也證實(shí)了相應(yīng)的可行性，在進(jìn)行改良升級(jí)之后，一整套的光刻機(jī)就能夠正常投入使用了！

俄科學(xué)院能成功嗎？

在面臨全面制裁之后，俄國(guó)內(nèi)的芯片極度短缺，所有的芯片圓晶廠都停止了供應(yīng)，雖然本土對(duì)制程工藝要求不高，但面對(duì)僅能實(shí)現(xiàn)的65nm制程工藝，針對(duì)現(xiàn)階段的工藝水平確實(shí)不夠看，俄科學(xué)院也加大的對(duì)人才的培養(yǎng)，試圖擺脫這樣的困境。

俄羅斯科學(xué)院院士也表態(tài)：“ASML近20年來(lái)追求的是生產(chǎn)效率，EUV曝光機(jī)很好的幫助全球半導(dǎo)體廠商實(shí)現(xiàn)了技術(shù)精進(jìn)，但目前的俄羅斯并不需要太先進(jìn)的工藝，根據(jù)自己實(shí)際需求跟進(jìn)就好！”

但在這樣的消息傳出之后，海外媒體沒(méi)有一家看好俄羅斯，都認(rèn)為這樣的計(jì)劃不可能實(shí)現(xiàn)，畢竟此前沒(méi)有任何的技術(shù)基礎(chǔ)，6年時(shí)間完成7nm芯片光刻機(jī)的突破，顯然是有點(diǎn)不切實(shí)際了，就連ASML都用了將近20余年的時(shí)間。

而中國(guó)參與光刻機(jī)的研發(fā)，也已經(jīng)有很長(zhǎng)一段時(shí)間了，至今還未能達(dá)到28nm的水平，因此基本上是不可能的，況且光有光刻機(jī)還不夠，還需要需要配套設(shè)備，以目前俄羅斯的狀態(tài)，想要從國(guó)際供應(yīng)鏈獲取根本不可能。

而且除了有設(shè)備之外，還需要晶圓廠的配合，目前俄羅斯本土并沒(méi)有這樣的企業(yè)，因此按照此前2030年實(shí)現(xiàn)28nm芯片自主化，相對(duì)而言還是比較符合實(shí)際現(xiàn)狀的。

俄科學(xué)院下諾夫哥羅德代表團(tuán)所演示的光刻設(shè)備，目前還只是設(shè)備的原型，可以說(shuō)還處于“PPT”階段，后續(xù)還要進(jìn)行開(kāi)發(fā)、制造以及安裝，并沒(méi)有想象中的那么簡(jiǎn)單，對(duì)此你們是怎么看的呢？