新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > ASML新EUV光刻機成本:趕上頂級戰(zhàn)機

ASML新EUV光刻機成本:趕上頂級戰(zhàn)機

作者:淼淼小鬼 時間:2022-11-28 來源:中關(guān)村在線 收藏

日前, CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時透露,他們正在全力研制劃時代的新光刻機high-NA EUV設(shè)備,而高NA 系統(tǒng)的單臺造價將在25億元(單臺造價在3億到3.5億歐元之間,約合人民幣21.95到25.61億元)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202211/440987.htm

資料顯示重型航母(排水量60000噸以上)航母造價是35億美金左右,而上述光刻機成本等同于f35戰(zhàn)斗機造價(1.5-2.5億美元)。盡管如此昂貴,但Intel此前表示自己是全球第一個下單的客戶,臺積電也跟進了。高NA 將在2024年進廠投入使用,預(yù)計年產(chǎn)能20臺左右。

按照的說法,高NA 將在2024年進廠投入使用,預(yù)計年產(chǎn)能20臺左右。該公司還預(yù)計其營收將在2025年翻一番。



關(guān)鍵詞: EUV光刻機 ASML

評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉