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晶圓代工是什么?圖解晶圓代工流程!

作者: 時間:2023-05-15 來源:響拇指電子 收藏

晶片是用來干嘛的?為什么日常生活中會用到晶片呢?晶片這么重要嗎?晶圓又是什么呢?

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202305/446556.htm



在過去,需要將電晶體、二極體、電阻、電容等電子元件焊接成電路,并將這個能執(zhí)行簡單邏輯運(yùn)算的電路裝置在電子產(chǎn)品上,才能夠讓電子產(chǎn)品順利運(yùn)作,然而手工焊接不僅成本高且耗時,效果也不理想。后來德州儀器的工程師–杰克·基爾比,便想到如果能夠事先設(shè)計好電路圖,然后照電路圖將所有電子元件整合在矽晶元上,便能解決手工焊接的難題,而這就是全世界第一個“集成電路”也就是我們常聽到的IC(IntegratedCircuit)的由來。



集成電路發(fā)明后,技術(shù)也開始高速發(fā)展,一個晶片從原本僅能塞不到五個電晶體,到后來可以塞下數(shù)億個電晶體。而電晶體縮得越小,除了更低的能耗、延遲以及更高的效能外,也讓晶片隨之縮小,電子產(chǎn)品也能越來越小。如今這些優(yōu)點正反應(yīng)在電子產(chǎn)品上,讓生活越來越方便。



是什么?



(Foundry)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的一種商業(yè)模式,指接受其他無廠半導(dǎo)體公司(Fabless)委托、專門從事晶圓成品的加工而制造集成電路,并不自行從事產(chǎn)品設(shè)計與后端銷售。下面帶你認(rèn)識的流程。



晶圓代工流程一:矽晶圓生產(chǎn)



晶片最偉大的貢獻(xiàn),莫過于將原本僅能執(zhí)行0和1的邏輯運(yùn)算(注)的電晶體,集合在一起形成具有強(qiáng)大處理能力的運(yùn)算中樞,而連結(jié)這些電晶體的基板就是“矽”這個元素。



之所以會選擇“矽”作為IC的主要原料,是因為矽在自然界中屬于“半導(dǎo)體”,也就是導(dǎo)電性介于導(dǎo)體與絕緣體的存在,可以借由加入雜質(zhì),來調(diào)整半導(dǎo)體的導(dǎo)電性,進(jìn)而控制電流是否流通,達(dá)到訊號切換的功能,換句話說就是讓晶片能夠順利執(zhí)行0和1的運(yùn)算,而能操控電子產(chǎn)品。



矽晶圓的制造流程簡化來說就是將“矽”加工至可用來放置電子元件的“矽晶圓”:



純化:矽的前身是石英砂,里面含有許多雜質(zhì),因此需要將其純化,主要方式為將石英砂加入碳并加熱還原成冶金級矽,隨后將其丟入反應(yīng)爐中與氯化氫以及氫氣反應(yīng)形成多晶矽。



拉晶:將多晶矽置入單晶爐中,透過加熱處理、接入晶種(注1)后,就可以從中拉出半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所需的“單晶矽柱”(矽晶柱),上面會有可擺放電晶體的“矽晶格”,也因此矽晶柱的品質(zhì)掌控對于晶圓廠來說至關(guān)重要,拉晶的速度、溫度的控制等等因子都有可能大大影響到最后的生產(chǎn)品質(zhì),而矽晶柱直徑越大,拉晶也就越難。(注2)



注1:這邊的晶種指的是一小塊單晶矽,透過將晶種與熔融物接觸并冷卻凝固,借此形成大晶體,目的是讓晶圓的原子排列能與晶種相同。

注2:單晶矽與多晶矽的區(qū)別:當(dāng)矽原子以金剛石晶格排列成許多晶核時,如果各個晶核的晶面取向相同,則稱為單晶矽,如果晶面取向不同,則稱為多晶矽,在電學(xué)性質(zhì)表現(xiàn)上,單晶矽優(yōu)于多晶矽,因此在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中多采用單晶矽作為主要原料。



到這邊為止,安置電子元件的基板–矽晶圓便完成了,而我們常在新聞中看到的8吋晶圓廠、12吋晶圓廠,指的其實就是矽晶圓的直徑,不過,為什么要特地分成8吋、12吋或是X吋呢?



8吋晶圓 vs 12吋晶圓



其實關(guān)鍵就在于“生產(chǎn)成本”。簡單的數(shù)學(xué)運(yùn)算就可知道,一片12吋晶圓的表面積是一片8吋晶圓的2.25倍,也就是說在相同良率下,12吋晶圓廠的生產(chǎn)效率會是8吋晶圓廠的2.25倍,因此只要兩種晶圓尺寸的生產(chǎn)成本差距在2.25倍以下的話,生產(chǎn)12吋晶圓便會比生產(chǎn)8吋晶圓來的有優(yōu)勢,故生產(chǎn)12吋晶圓其實是較為先進(jìn)的技術(shù)。



12吋晶圓廠較有生產(chǎn)效率,為什么還要保留8吋晶圓廠?



前面提到,12吋晶圓廠的產(chǎn)量平均來說會是8吋晶圓廠的兩倍多,因此在產(chǎn)能滿載的前提下,12吋廠比較符合成本效益,然而對于某些客戶集中在利基市場的廠商來說,不見得有足夠的出貨量去支撐12吋廠帶來的額外產(chǎn)能,因此對這些廠商來說,也就沒必要花更多的資金投資技術(shù)門檻更高的12吋廠。



8吋晶圓供不應(yīng)求?



前面提到,某些產(chǎn)品市場規(guī)模不大,因此透過8吋或6吋晶圓廠來生產(chǎn)較有效率,相對的某些產(chǎn)品市場規(guī)模較大,因此產(chǎn)線通常都會分布在12吋晶圓廠。過去12吋晶圓廠主要拿來生產(chǎn)智能手機(jī)、筆記本電腦等有高階運(yùn)算需求的晶片,另一方面6吋、8吋晶圓廠則是用于生產(chǎn)物聯(lián)網(wǎng)、車用元件等運(yùn)算能力要求度不高的晶片。



由于過去12吋晶圓廠為市場主流,因此部分晶圓設(shè)備廠已經(jīng)停止生產(chǎn)8吋晶圓廠的設(shè)備,而直接蓋新的8吋廠又需要龐大的資金,對于大部分業(yè)者來說難以負(fù)荷。外加隨著5G逐漸普及,物聯(lián)網(wǎng)相關(guān)的晶片需求提升,因此8吋晶圓市場近期才會供不應(yīng)求。



晶圓代工流程二:集成電路制造



回到IC制造的工作流程介紹,前面提及過去制作電路的方法,是將所有的電子元件手工連接起來,而相較之下集成電路的優(yōu)勢,就在于他是直接依照設(shè)計好的電路圖,一口氣將所有電子元件整合在一起。因此有個一致的標(biāo)準(zhǔn),生產(chǎn)起來容易許多。



這兩種電路制作模式的關(guān)鍵差異來自于“光學(xué)原理”。



簡單來說,集成電路制造就是將從IC設(shè)計廠拿到的“電路設(shè)計圖”透過光學(xué)成像的原理轉(zhuǎn)移到“矽晶圓”上,最后依照設(shè)計圖架構(gòu),在矽晶元上集成化所需的電子元件:



▲ 步驟1–鍍上薄膜:于矽晶片表面鍍上氧化層(或金屬)。



▲ 步驟2–涂上光阻:于薄膜表面涂上光阻劑,該光阻劑曝光后化學(xué)結(jié)構(gòu)會改變,變的相當(dāng)易溶。



▲ 步驟3–顯影:透過紫外光與凸透鏡的聚光效果,將光罩上的電路圖縮小并投影在光阻上。



▲ 步驟4–蝕刻:透過特殊化學(xué)溶液將被紫外光照射的光阻沖洗掉,接著再透過另一種化學(xué)溶液將步驟1的薄膜沖洗掉。



▲ 步驟5–光阻去除:接著最后一樣以化學(xué)溶液將光阻去除。



注:實際過程相當(dāng)復(fù)雜,需要堆疊許多不同材質(zhì)的薄膜在特定的位置,因此需要好幾十層的光罩并且不斷重復(fù)上述步驟才能完成光刻制程,其他關(guān)于晶圓清洗、烘烤等步驟限于篇幅的關(guān)系,無法詳細(xì)陳述。



在光刻制程結(jié)束后,緊接著就是注入雜質(zhì)(磷原子與硼原子)到矽晶片(半導(dǎo)體)中控制其導(dǎo)電性,至此,構(gòu)成集成電路所需的電晶體及相關(guān)的元件便已依照設(shè)計好的電路圖在矽晶片上集成完畢,最后將銅倒入溝槽中形成電子接線,將數(shù)億個電晶體串接起來后,近半個世紀(jì)以來不斷推動科技進(jìn)步的基石–集成電路便就此完成。



晶圓代工廠如何突破物理極限提升光刻技術(shù)?



相信有在關(guān)注臺積電的人多少會看過跟上述類似的新聞,不過在探討什么是摩爾定律、EUV等專有名詞前,必須先了解光刻技術(shù)如何演進(jìn)。



R=k1xNA是光學(xué)微影的分辨率公式,要想要有更好的成像品質(zhì),就必須要想辦法提升分辨率,上述公式中,R代表至多可以曝出多小的線寬,越小則代表越精細(xì)、分辨率越高,能夠執(zhí)行越精細(xì)的光刻作業(yè),代表光在真空中的波長,NA代表成像系統(tǒng)的數(shù)值孔徑,k1則是一系數(shù)(受到許多制程相關(guān)因子影響)。



所以根據(jù)上述公式,要想提高分辨率,主要可以透過降低光源波長或是提高成像系統(tǒng)的數(shù)值孔徑(注)來達(dá)成。



注:數(shù)值孔徑(NA)沒有單位。是用以衡量一個光學(xué)系統(tǒng)(鏡頭)能夠收集的光的角度范圍。



EUV是什么?



EUV微影技術(shù)的落實延續(xù)了摩爾定律的壽命,這里的EUV指的其實是一種紫外光源,跟過去光刻技術(shù)所采用的光源比起來,EUV的波長更短,因此有助于大幅提高分辨率。



摩爾定律是什么?



摩爾定律指的是集成電路上可容納的電晶體數(shù)目,約每隔十八個月到兩年增加一倍、性能也提升一倍,所以與其說是“定律”,其實它更像是一個用來描述集成電路產(chǎn)業(yè)演進(jìn)軌跡的指標(biāo),而近幾年許多新聞媒體之所以會認(rèn)為摩爾定律快走到盡頭,主要就是因為過去采用DUV光源的光刻技術(shù)在分辨率的提升上已經(jīng)到達(dá)極限,換句話說就是媒體認(rèn)為晶圓代工廠已經(jīng)沒有辦法提供具有更高效能的晶片,這對晶圓代工廠甚至是對整個科技產(chǎn)業(yè)來說都會是相當(dāng)大的沖擊,也幸虧EUV微影技術(shù)的成功,才讓摩爾定律得以延續(xù)。



晶圓幾奈米是什么意思?



奈米是一公尺的負(fù)9次方,也就是頭發(fā)厚度的10萬分之一。而新聞上看到的“XX奈米”,則是指晶片上電晶體控制電流通過的“閘極長度”,長度越小,電晶體就越小,能塞進(jìn)晶片的電晶體數(shù)量就越多,設(shè)備的效能也會相應(yīng)提升。



而隨著技術(shù)精進(jìn),奈米制程也逐步縮小。就如前所述,網(wǎng)路越來越快,也因此需要更先進(jìn)、更精密的晶片。這,就讓臺積電“純代工”的優(yōu)勢逐漸顯現(xiàn)。






關(guān)鍵詞: EDA 晶圓代工

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