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消息稱光刻機巨頭 ASML 最快本月底迎出口管制措施,新規(guī)恐將成歐盟效仿對象

作者:渡江 時間:2023-06-25 來源:半導體產(chǎn)業(yè)縱橫 收藏

IT之家 6 月 23 日消息,據(jù)彭博社報道,荷蘭政府計劃最快下周發(fā)布新的措施,將限制 的半導體制造設(shè)備出口。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202306/447934.htm

▲ 圖源:

報道稱,此次名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光(DUV)浸入式光刻設(shè)備。IT之家注意到,這一系列設(shè)備最高可支持 5 nm 工藝,如臺積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒 (ArFi) 光刻實現(xiàn)了 7 nm 量產(chǎn)。此前, 最先進的極紫外光(EUV)光刻機已在列表當中。

彭博社援引知情人士消息稱,這一出口管制新規(guī)最早將在 6 月 30 日或 7 月第一周公布,有可能成為被其他歐盟成員國效仿的對象,荷蘭政府發(fā)言人對此不予置評。

報道指出,這是荷蘭和日本今年 1 月原則上同意加入美國限制對中國大陸出口先進半導體制造設(shè)備的行動以來的最新舉措,荷蘭貿(mào)易部長 Schreinemacher 稱,荷蘭以國家和國際安全考量,有必要盡快限制先進半導體技術(shù)出口。

IT之家昨日曾報道,ASML 執(zhí)行副總裁兼商務(wù)總監(jiān) Christophe Fouquet 聲稱,幾乎不可能建立全自主的芯片產(chǎn)業(yè)鏈,這樣做的代價是極為高昂和困難的,日本光刻機制造商佳能和尼康便是前車之鑒。



關(guān)鍵詞: ASML 出口管制

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