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什么是霍爾效應

作者: 時間:2011-08-15 來源:網(wǎng)絡 收藏

美國物理學家霍爾(Hall,Edwin Herbert,1855-1938)于1879年在實驗中發(fā)現(xiàn),當電流垂直于外磁場通過導體時,在導體的垂直于磁場和電流方向的兩個端面之間會出現(xiàn)電勢差,這一現(xiàn)象便是霍爾效應。這個電勢差也被叫做霍爾電勢差。

霍爾效應是磁電效應的一種,這一現(xiàn)象是霍爾(A.H.Hall,1855—1938)于1879年在研究金屬的導電機構(gòu)時發(fā)現(xiàn)的。后來發(fā)現(xiàn)半導體、導電流體等也有這種效應,而半導體的霍爾效應比金屬強得多,利用這現(xiàn)象制成的各種霍爾元件,廣泛地應用于工業(yè)自動化技術(shù)、檢測技術(shù)及信息處理等方面?;魻栃茄芯堪雽w材料性能的基本方法。通過霍爾效應實驗測定的霍爾系數(shù),能夠判斷半導體材料的導電類型、載流子濃度及載流子遷移率等重要參數(shù)。流體中的霍爾效應是研究“磁流體發(fā)電”的理論基礎(chǔ)。

1. 霍爾效應
將一塊半導體或?qū)w材料,沿Z方向加以磁場B ,沿X方向通以工作電流I,則在Y方向產(chǎn)生出電動勢Vh,如圖1所示,這現(xiàn)象稱為霍爾效應。Vh稱為霍爾電壓。

圖1 霍爾效應原理圖

實驗表明,在磁場不太強時,電位差Vh與電流強度I和磁感應強度B成正比,與板的厚度d成反比,即

式(1)中Rh稱為霍爾系數(shù),式(2)中Kh稱為霍爾元件的靈敏度,單位為mv / (mA·T)。產(chǎn)生霍爾效應的原因是形成電流的作定向運動的帶電粒子即載流子(N型半導體中的載流子是帶負電荷的電子,P型半導體中的載流子是帶正電荷的空穴)在磁場中所受到的洛侖茲力作用而產(chǎn)生的。

如圖1(a)所示,一快長為l、寬為b、厚為d的N型單晶薄片,置于沿Z軸方向的磁場 中,在X軸方向通以電流I,則其中的載流子——電子所受到的洛侖茲力為

式中V為電子的漂移運動速度,其方向沿X軸的負方向。e為電子的電荷量。Fm指向Y軸的負方向。自由電子受力偏轉(zhuǎn)的結(jié)果,向A側(cè)面積聚,同時在B側(cè)面上出現(xiàn)同數(shù)量的正電荷,在兩側(cè)面間形成一個沿Y軸負方向上的橫向電場Eh(即霍爾電場),使運動電子受到一個沿Y軸正方向的電場力Fe,A、B面之間的電位差為Vh(即霍爾電壓),則 (4)

將阻礙電荷的積聚,最后達穩(wěn)定狀態(tài)時有

式中

稱為霍爾元件的靈敏度,一般地說, Kh愈大愈好,以便獲得較大的霍爾電壓Vh 。因 和載流子濃度n成反比,而半導體的載流子濃度遠比金屬的載流子濃度小,所以采用半導體材料作霍爾元件靈敏度較高。又因Kh和樣品厚度d成反比,所以霍爾片都切得很薄,一般d≈0.2mm。

上面討論的是N型半導體樣品產(chǎn)生的霍爾效應,B側(cè)面電位比A側(cè)面高;對于P型半導體樣品,由于形成電流的載流子是帶正電荷的空穴,與N型半導體的情況相反,A側(cè)面積累正電荷,B側(cè)面積累負電荷,如圖1(b)所示,此時,A側(cè)面電位比B側(cè)面高。由此可知,根據(jù)A、B兩端電位的高低,就可以判斷半導體材料的導電類型是P型還是N型。
由(7)式可知,如果霍爾元件的靈敏度Rh已知,測得了控制電流I和產(chǎn)生的霍爾電壓Vh ,則可測定霍爾元件所在處的磁感應強度為

高斯計就是利用霍爾效應來測定磁感應強度B值的儀器。它是選定霍爾元件,即Kh已確定,保持控制電流I不變,則霍爾電壓Vh與被測磁感應強度B成正比。如按照霍爾電壓的大小,預先在儀器面板上標定出高斯刻度,則使用時由指針示值就可直接讀出磁感應強度B值。
由(7)式知

因此將待測的厚度為d的半導體樣品,放在均勻磁場中,通以控制電流I,測出霍爾電壓 ,再用高斯計測出磁感應強度B值,就可測定樣品的霍爾系數(shù) 。又因 (或 ),故可以通過測定霍爾系數(shù)來確定半導體材料的載流子濃度n(或p)(n和p分別為電子濃度和空穴濃度)。

嚴格地說,在半導體中載流子的漂移運動速度并不完全相同,考慮到載流子速度的統(tǒng)計分布,并認為多數(shù)載流子的濃度與遷移率之積遠大于少數(shù)載流子的濃度與遷移率之積,可得半導體霍爾系數(shù)的公式中還應引入一個霍爾因子Rh,即普通物理實驗中常用N型Si、N型Ge、InSb和InAs等半導體材料的霍爾元件在室溫下測量,霍爾因子,所以



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