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ARM與臺(tái)積電攜手完成16nm FinFET工藝測(cè)試

—— 年內(nèi)客戶或超20家
作者: 時(shí)間:2014-02-26 來(lái)源:cnbeta 收藏
編者按:ARM和臺(tái)積電宣稱完成16nm FinFET工藝測(cè)試,這是激動(dòng)人心的消息。畢竟3D的設(shè)計(jì)能讓功耗性能比更加強(qiáng)勁,只是此時(shí)的英特爾是不是更加捉急一些了。

  對(duì)于英特爾來(lái)說(shuō),要想在移動(dòng)芯片市場(chǎng)多分得一杯羹,就需要借助其更加先進(jìn)的制造能力的優(yōu)勢(shì)。而今日宣布的新款A(yù)tom SoCs——舉例來(lái)說(shuō)——即基于22nm的3D或“三柵極晶體管”工藝。與傳統(tǒng)的(基于平面晶體管結(jié)構(gòu)的)芯片相比,新架構(gòu)使得芯片可以在較低的電壓水平上,更有效率地運(yùn)作——在降低能耗的同時(shí),更能延長(zhǎng)系統(tǒng)的續(xù)航時(shí)間。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/233834.htm

  至于半導(dǎo)體行業(yè)中的其它公司,已經(jīng)在向3D晶體管工藝(更常用的稱呼為“FinFETs”)遷移的過(guò)程中,落后于英特爾。

  如果沒(méi)有這種新的結(jié)構(gòu),那么向28nm以下制程遷移的過(guò)程就會(huì)變緩。其中一部分原因?yàn)?,隨著平面型晶體管(planar transistor)變得更小,其能源效率和成本就變得不那么有吸引力。

  幸運(yùn)的是,貌似領(lǐng)先的芯片代工廠——臺(tái)積電(TSMC)——已經(jīng)在部署 FinFETs的工藝上,取得了不錯(cuò)的進(jìn)展。

  今天,TSMC與披露了兩家公司已經(jīng)在去年年底進(jìn)行了一個(gè)相當(dāng)復(fù)雜的測(cè)試芯片,并且是基于臺(tái)積電的 FinFET工藝打造的!

  該芯片包括了雙核Cortex-A57和四核Cortex-A53 CPU核心——基于相似的big.LITTLE不對(duì)稱方案——主要面向消費(fèi)級(jí)SoC。這一發(fā)展也將助力和TSMC開(kāi)辟出SoC設(shè)計(jì)的新道路。

  的公告稱,TSMC的 FinFET工藝,有著激動(dòng)人心的好處:“在相同的總能耗下,芯片設(shè)計(jì)的速度可以快上>40%,或者比28nm制程節(jié)省>55%的總能耗”。

  這一公告與英特爾的“22nm三柵極制程比之32nm工藝的優(yōu)勢(shì)”如出一轍。臺(tái)積電預(yù)計(jì),在2014年的時(shí)候,采用其16nm FinFET工藝的客戶將有望超過(guò)20家。



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