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全集成、部分集成和分立開(kāi)關(guān)電源方案比較分析

作者: 時(shí)間:2009-12-20 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

  
  2. 分立器件方案
  
  圖2為一種典型分立實(shí)現(xiàn)方案。分立高壓晶體管最初由直流總線通過(guò)R1偏置并由ZR1箝位,當(dāng)晶體管柵極電壓達(dá)到導(dǎo)通閥值時(shí),Q1打開(kāi)。當(dāng)通過(guò)檢流電阻的漏電流達(dá)到預(yù)定值時(shí),被關(guān)斷的控制晶體管Q2被偏置電壓打開(kāi),將Q1關(guān)斷。Q1關(guān)斷后,儲(chǔ)存在變壓器中的能量即傳遞到次級(jí)線圈及偏置線圈,并通過(guò)C3與 R6構(gòu)成的RC網(wǎng)絡(luò)給Q1柵極加一個(gè)正偏壓,RC網(wǎng)絡(luò)的時(shí)間常數(shù)決定關(guān)斷時(shí)間。反饋信號(hào)通過(guò)光耦取得并加于Q2的基極,以對(duì)基極電流進(jìn)行調(diào)整。基極電流調(diào)整導(dǎo)致對(duì)導(dǎo)通時(shí)間間隔的調(diào)整,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)輸出電壓的調(diào)整。
  
  由于通用分立器件的生產(chǎn)批量很大,故與專用電路(ASIC)解決方案相比,分立解決方案的系統(tǒng)成本是所有架構(gòu)中最低的,但這種方法也有一定的局限性。首先,開(kāi)關(guān)頻率不恒定,由于關(guān)斷間隔相對(duì)恒定,故占空比改變將引起頻率改變;其次,開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換速度緩慢,因?yàn)樗鼪](méi)有ASIC解決方案中所采用的低阻抗柵極驅(qū)動(dòng)器。故在同一頻率、電壓及電流上,Q1的開(kāi)關(guān)損耗遠(yuǎn)高于ASIC解決方案的開(kāi)關(guān)損耗。
  
  3. 部分方案

圖3:部分IC加分立器件實(shí)現(xiàn)方案。

基于上面對(duì)這兩種架構(gòu)的討論,以下介紹一種部分集成式架構(gòu)。圖3所示的這種架構(gòu)旨在提供適中的系統(tǒng)成本,同時(shí)保留大部分ASIC架構(gòu)的性能優(yōu)勢(shì)。該架構(gòu)的系統(tǒng)成本之所以較低,是因?yàn)椴捎昧送ㄓ梅至⒏邏壕w管,以及低壓工藝控制器IC。

  a. 源極開(kāi)關(guān)控制
  
  作為對(duì)用于開(kāi)關(guān)高壓MOSFET的傳統(tǒng)柵-源驅(qū)動(dòng)的一種替代,可在IC輸出中采用一種源極開(kāi)關(guān)結(jié)構(gòu)。在這種源極開(kāi)關(guān)結(jié)構(gòu)中,控制器是通過(guò)源極來(lái)驅(qū)動(dòng)外部MOSFET,而不是傳統(tǒng)PWM方法中驅(qū)動(dòng)?xùn)艠O。如圖4所示,外部MOSFET Q1的柵極通過(guò)ZR1被箝位在一個(gè)恒定電壓上,該電壓足夠高,以使晶體管充分導(dǎo)通,其典型值為14V。而電容C1(遠(yuǎn)大于柵極輸入電容)則用來(lái)在每一開(kāi)關(guān)周期暫時(shí)儲(chǔ)存柵極電荷。Q2的開(kāi)關(guān)極性與Q1同步,當(dāng)Q2打開(kāi)時(shí),Q1的源極被拉至接近于0V,而C1中所儲(chǔ)存的電荷則被傳遞到柵極,從而將Q1打開(kāi)。當(dāng)Q2關(guān)斷時(shí),Q1的漏電流繼續(xù)流向Q2。Q2漏極電壓的升高迫使Q1的柵極電容對(duì)充電電容放電。當(dāng)Q2的漏極電壓高于其柵極電壓減去Q1的柵極閥值電壓時(shí),Q1關(guān)斷。
  
  采用源極開(kāi)關(guān)控制具有許多優(yōu)勢(shì)。首先,由于驅(qū)動(dòng)及檢流共用一個(gè)引腳,故能減少一個(gè)引腳,從而簡(jiǎn)化IC封裝;其次,由于IC的柵極驅(qū)動(dòng)器只需驅(qū)動(dòng)具有較低柵極閥值電壓的開(kāi)漏極FET,故能采用低電壓,而無(wú)需使用充電泵電路,典型的PWM IC要求最小10V的電壓,而建議的IC則只需6V,由于電壓較低,因此可以采用亞微米工藝來(lái)提高裸片面積使用效率;第三,開(kāi)關(guān)及啟動(dòng)電流源只需使用一個(gè)外部高壓MOSFET,而柵極控制方法則需要用另外的高壓器件來(lái)提供啟動(dòng)偏置電源。



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