Entegris 擴(kuò)展 VaporSorb? 過濾器系列，幫助提高半導(dǎo)體制程的良率

　　Entegris, Inc.，一家為先進(jìn)制造環(huán)境提供良率提升材料和相關(guān)解決方案的領(lǐng)先企業(yè)，日前發(fā)布了 VaporSorb™ 系列氣體分子污染 (AMC) 過濾器的新產(chǎn)品。此款新型的“多合一”單過濾器可在半導(dǎo)體制造的化學(xué)機(jī)械研磨 (CMP) 工藝中去除關(guān)鍵 AMC。領(lǐng)先的過濾器品牌 VaporSorb 在半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵步驟中主要用于潔凈室環(huán)境和生產(chǎn)機(jī)臺(tái)，是面向 CMP 生產(chǎn)機(jī)臺(tái)的首款過濾器，可抵御弱酸以及其他污染物。

　　此款新型過濾器專為 CMP 機(jī)臺(tái)設(shè)計(jì)，可為單過濾器中所有關(guān)鍵 AMC 提供均衡壽命，從而避免多片過濾器處理的復(fù)雜性。此外，此款過濾器保留了 VaporSorb 品牌業(yè)界領(lǐng)先的使用壽命優(yōu)勢(shì)，從而能夠降低機(jī)臺(tái)宕機(jī)時(shí)間和使用成本。

　　Entegris AMC 過濾解決方案產(chǎn)品營(yíng)銷經(jīng)理 Marc Venet 表示，“正如在光刻工藝中那樣，CMP 工藝中的良率問題可通過提供全面的 AMC 保護(hù)得以解決。這意味著能夠抵御弱酸，以及強(qiáng)酸和其他污染物。借助 VaporSorb CMP 產(chǎn)品，我們可以提供一體化解決方案徹底解決 CMP 工藝中 AMC 引發(fā)的腐蝕缺陷。”

　　弱酸包括乙酸和甲酸(醋酸鹽;CH3COO- 和甲酸鹽;HCOO-)以及亞硝酸(亞硝酸鹽;NO2-)等。強(qiáng)酸包括 HNO3、SO2、H2SO4 以及 HCl 等。這些污染物會(huì)導(dǎo)致 CMP 工藝缺陷和良率問題。

　　7 月，公司發(fā)布了業(yè)界首款“四合一”過濾器，即面向光刻機(jī)臺(tái)的 VaporSorb TRK，用于捕獲氣體有機(jī)物、堿基類、強(qiáng)酸和弱酸。VaporSorb 過濾器采用 Entegris特有的混合材料，可捕獲氣體分子污染物，專為提供特定于應(yīng)用和工廠的過濾器解決方案而量身定制。

　　欲了解有關(guān) VaporSorb CMP 過濾器的詳細(xì)信息，請(qǐng)?jiān)L問 www.entegris.com。