中芯國際和新思科技共同開發(fā)出了基于0.13微米工藝的設(shè)計參考流程2.0

    世界領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)計軟件供應(yīng)商新思科技有限公司今天宣布其已經(jīng)和中國大陸最大的芯片代工廠中芯國際 (NYSE: SMI; SEHK: 0981.HK) 共同開發(fā)出了基于 0.13微米工藝的設(shè)計參考流程2.0。中芯國際和新思科技緊密合作，完成了從 RTL 到 GDSII 的設(shè)計流程。該流程基于新思科技的 Galaxy(TM) 設(shè)計平臺和中芯國際先進的0.13 微米工藝，不僅解決了在0.13微米工藝設(shè)計中遇到的深亞微米設(shè)計挑戰(zhàn)，并且縮短了產(chǎn)品上市時間和良率達成時間。 
 
    中芯國際和新思科技參考流程2.0的新增功能中包含了 JupiterXT(TM) 設(shè)計布局解決方案。特別是，該方案的電源網(wǎng)絡(luò)綜合 (PNS) 與電源網(wǎng)絡(luò)分析 (PNA) 能力使得在布局階段就可進行電源規(guī)劃設(shè)計。應(yīng)用了新思科技的 PrimeTime(R) SI，Astro-Xtalk(TM) 和 Astro-Rail(TM) 等工具，該參考流程還具有先進的信號完整性 (SI) 和集成電路可靠性 (IR/EM) 的分析能力。這些功能解決了電遷移 (EM) 所帶來的時序和可靠性問題，避免了通常易出現(xiàn)的電源柵格和電阻增加所導(dǎo)致的電壓下降 (IR-drop) 和對地反彈等問題。最后，該流程還引入了電壓下降的分析，使得用戶可分析其對于時序、性能、功能、抗干擾性能的影響，并能夠?qū)?nbsp;IC 的可靠性進行分析，從而找到不同問題的折中方案。 
 
    “中芯國際自2004年上半年開始為全球客戶提供0.13微米 CMOS 量產(chǎn)工藝。參考流程2.0更進一步提供給客戶完整的、驗證過的設(shè)計方案，包括了先進的布局、信號完整性失效和集成電路可靠性的分析，對0.13 微米工藝的設(shè)計具有重要意義?！?nbsp;中芯國際設(shè)計服務(wù)處副總裁歐陽雄（Paul Ouyang）介紹，”參考流程2.0的開發(fā)是建立在第一個版本的成功與合作的基礎(chǔ)上。我們期待在工藝持續(xù)發(fā)展的過程中和新思科技 持續(xù)保持愉快的合作關(guān)系?！?nbsp;
 
    “中芯國際和新思科技都是大唐微電子的關(guān)鍵技術(shù)合作伙伴。兩家公司合作開發(fā)的參考設(shè)計流程中新增功能可以被我們的工程師使用，幫助我們縮短設(shè)計時間并加速達到預(yù)期良率?！?nbsp;大唐微電子技術(shù)公司總經(jīng)理趙倫表示，“中芯國際提供的完整工藝組合，和來自新思科技驗證過的設(shè)計方案對于實現(xiàn)我們先進的設(shè)計需求至關(guān)重要?！?nbsp;
 
   “與中芯國際的緊密合作使我們能夠提供這個參考流程，來解決中國市場持續(xù)增長的先進深亞微米工藝需求?！毙滤伎萍嫉膽?zhàn)略市場開發(fā)副總裁 Rich Goldman 表示， “新思科技 會繼續(xù)與中芯國際合作，幫助他們的客戶應(yīng)用經(jīng)過驗證的設(shè)計流程，來縮短完成復(fù)雜的 IC 及系統(tǒng)設(shè)計的時間?！?/span>