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日本 :NEC開發(fā)成功1億門單元基LSI

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作者: 時(shí)間:2005-09-01 來源:EDN電子設(shè)計(jì)技術(shù) 收藏
日本 :NEC開發(fā)成功1億門單元基LSI
 開發(fā)成功CB-90系列單元基LSI。最小特征尺寸是0.09μm,采用柵長0.06μm的CMOS方法和銅金屬連線技術(shù)制造。準(zhǔn)備制造的三種單元基LSI是:高速型CB-90H、高集成度型CB-90M和低功耗型CB-90L。它們的內(nèi)部工作頻率分別為500MHz~1GHz。最高頻率為500MHz、最低為150MHz。
  高集成度型CB-90M的邏輯門數(shù)最多達(dá)到1億門。高速型CB-90H的門延遲時(shí)間為10.2ps(2個(gè)輸入NAND門,扇出數(shù)為2)。低功耗型CB-90L的功耗為2.7nw(每1MHz工作的門,電源電壓1.0V)。與最小特征尺寸為0.130μm、柵長0.095μm的現(xiàn)行一代單元基LSI(CB-130系列)相比,門數(shù)增加約1.9倍,延遲時(shí)間縮短約2/3,功耗減少約40%。CB-90系列單元基LSI2003年3月開始接受訂貨,批量生產(chǎn)預(yù)定從第三季度開始。
  LSI設(shè)計(jì)環(huán)境準(zhǔn)備采用C語言的設(shè)計(jì)環(huán)境,支持系統(tǒng)設(shè)計(jì)到GDSII格式。
  C語言設(shè)計(jì)環(huán)境與RTL為基礎(chǔ)的設(shè)計(jì)方法相比,可使設(shè)計(jì)時(shí)間縮短大約一半。RTL為基礎(chǔ)的設(shè)計(jì)方法從規(guī)格設(shè)計(jì)、硬件設(shè)計(jì)、軟件設(shè)計(jì)、系統(tǒng)驗(yàn)證到系統(tǒng)評(píng)估,需時(shí)大約14個(gè)月,而以C語言為基礎(chǔ)的設(shè)計(jì),可縮短到大約7個(gè)月。再者,應(yīng)用C語言的設(shè)計(jì)環(huán)境,也可用于CB-130系列等的現(xiàn)行一代產(chǎn)品。
  CB-90系列作為制造方法的設(shè)計(jì)基準(zhǔn),采用日本國內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)方法共同開發(fā)企業(yè)ASPLA(尖端SoC基礎(chǔ)技術(shù)開發(fā))的基準(zhǔn)。據(jù)說,將來要使之能夠納入依據(jù)ASPLA的、用其他的ASIC Bender的宏單元。


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