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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 掩模版

掩模版制造考驗中國潔凈室設計建造水平

  • 　　目前，我國潔凈廠房的整體發(fā)展速度遠遠低于歐美國家，特別是設計、建造技術還存在很大的差距。電子行業(yè)潔凈廠房的建設雖然已經(jīng)發(fā)展到了一個全新的時代，但目前仍不得不面臨技術水平要求相對粗放，設計、施工周期相對緊迫的現(xiàn)狀。這使得精品工程少，能夠做精品工程的企業(yè)更少，許多企業(yè)都在追求利益最大化，工程質量參差不齊。因此，越是規(guī)范的企業(yè)所承受的壓力越大。 　　在電子行業(yè)，規(guī)范、精細化的要求將滲透到企業(yè)的每一個環(huán)節(jié)，同時對潔凈廠房的建設要求也會越來越高。凈化企業(yè)很難僅僅依靠價格優(yōu)勢、施工速度占領市場，而是要靠新技術和
  • 關鍵字： 電子信息  掩模版  TFT-LCD  

掩模版：產業(yè)鏈合作圖共贏 打破壟斷盼扶持

  • 　　作為轉移微細圖形的工具，掩模版是TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器)制造過程中必不可少的材料，對TFT產業(yè)至關重要。由于當前掩模版市場主要被國外企業(yè)所壟斷，我國要發(fā)展TFT產業(yè)，掩模版的國產化顯得尤為重要。 　　掩模版是產業(yè)鏈重要環(huán)節(jié) 　　和集成電路的生產一樣，TFT-LCD在制造過程中也需要利用光刻工藝把沉積在基板上的薄膜(金屬、介質或透明導電玻璃等)制作成一定的圖形，這種圖形轉移的母版就是掩模版。對于一種產品而言，其生產過程中有多少次光刻就需要多少張不同圖形的掩模版。 　　TFT-LCD與
  • 關鍵字： Micronic  TFT-LCD  掩模版  

提升產業(yè)鏈競爭力 中國掩模版邁向高世代

  • 　　發(fā)展TFT-LCD掩模版產品，不僅能帶動多項相關產業(yè)的發(fā)展，形成較為完整的產業(yè)鏈，而且可打破國外壟斷局面，提高國產化配套能力，全面提升整機產品的品質和性能，大幅度降低整機制造成本，對推進我國液晶顯示產業(yè)技術發(fā)展及終端應用產品的技術進步具有積極意義。 　　中國企業(yè)已掌握核心技術 　　TFT-LCD用掩模版也稱光罩或MASK，是TFT-LCD制造過程中的圖形轉移工具或母版，它用于下游面板行業(yè)批量復制生產，主要應用于TFT-LCD黃光段陣列及彩色濾光片的曝光工藝。 　　清溢光電通過自主技術創(chuàng)新和體制創(chuàng)
  • 關鍵字： TFT-LCD  MASK  掩模版    
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掩模版介紹

　　photomask 　　在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。 [ 查看詳細 ]

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