首頁　 資訊　 商機 　 下載　 拆解 　 高校　 招聘 　 雜志　 會展　 EETV　 百科 　 問答　 電路圖　 工程師手冊 　 Datasheet　 100例 　 活動中心　 E周刊閱讀 　 樣片申請
EEPW首頁 >> 主題列表 >> euv光刻

美國官方報告：深度解析EUV光刻的現(xiàn)狀、需求和發(fā)展

  • 2022 年，半導體市場規(guī)模約為 0.6 萬億美元，商業(yè)分析師預計到 2030 年將翻一番 1.0 萬億美元至 1.3 萬億美元。半導體制造業(yè)的大幅增長可以在光刻工藝中體現(xiàn)出。光刻是一種圖案化過程，將平面設計轉移到晶圓基板的表面，創(chuàng)造復雜的結構，如晶體管和線互連。這是通過通過復雜的多步過程選擇性地將光敏聚合物或光刻膠暴露于特定波長的光下來完成的。最近，光刻技術的進步在生產(chǎn)最先進的半導體方面創(chuàng)造了競爭優(yōu)勢，使人工智能（AI）、5G 電信和超級計算等最先進的技術成為可能。因此，先進的半導體技術會影響國家安全和
  • 關鍵字： EUV光刻  

光學光刻和EUV光刻中的掩膜與晶圓形貌效應

  • 半導體制造中微型化的進展使得光刻掩膜和晶圓上的幾何圖形不斷增加。準確模擬這些圖形產(chǎn)生的衍射要求運用精 ...
  • 關鍵字： 光學光刻  EUV光刻  掩膜  晶圓形貌  
共2條 1/1 1

euv光刻介紹

您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條euv光刻!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對euv光刻的理解，并與今后在此搜索euv光刻的朋友們分享。    創(chuàng)建詞條

熱門主題

樹莓派    linux   
關于我們 - 廣告服務 - 企業(yè)會員服務 - 網(wǎng)站地圖 - 聯(lián)系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052    京公網(wǎng)安備11010802012473