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高效晶體硅電池技術(shù)-表面鈍化

  • 早期采用TiO2膜或MgF2/ZnS混合膜以增加對(duì)入射光的吸收,但該方法均需先單獨(dú)采用熱氧化方法生長一層10~20umSiO2使硅片表面非晶化、且對(duì)多晶效果不理想。SixNy膜層不僅減緩漿料中玻璃體對(duì)
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石墨烯小規(guī)模起步 高成本依然是阻力

  •   市場需求催生創(chuàng)新動(dòng)力,八零后的許子寒直接退學(xué)創(chuàng)業(yè)石墨烯,或許正緣于此。
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低壓驅(qū)動(dòng)的RF MEMS開關(guān)模擬設(shè)計(jì)

Alchimer 與 CEA-Leti 簽署協(xié)作合約

  •   以評(píng)估高深寬比TSV 應(yīng)用的金屬化制程   濕式納米薄膜沉積工藝能夠以低持有成本提供20:1深寬比TSV   3D 整合正朝著中段鉆孔(via middle approach)的做法發(fā)展,即在前端工藝之后,但卻在堆疊之前形成TSV。一些應(yīng)用正處于研發(fā)階段,導(dǎo)致TSV技術(shù)的限制和不同規(guī)格。 Alchimer 的技術(shù)顯示出突破現(xiàn)有障礙,實(shí)現(xiàn)高深寬比TSV 的潛力。此次協(xié)作將評(píng)估其技術(shù)的潛力及其大批量生產(chǎn)的適用性。   Alchimer 的執(zhí)行長Bruno Morel 表示:「目前的技術(shù),例如PECV
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應(yīng)用材料推PECVD實(shí)現(xiàn)高分辨率顯示

  •   應(yīng)用材料公司宣布推出全新等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)薄膜技術(shù),用于制造適用于下一代平板電腦和電視的更高性能高分辨率顯示。這些源自應(yīng)用材料公司業(yè)界領(lǐng)先的AKT-PECVD系統(tǒng)的先進(jìn)絕緣薄膜,使得基于金屬氧化物的晶體管的應(yīng)用成為可能,制造出尺寸更小、開關(guān)速度更快的像素,從而幫助客戶推出更受消費(fèi)者歡迎的高分辨率顯示屏。   應(yīng)用材料公司的全新PECVD設(shè)備沉積絕緣介電薄膜,為金屬氧化物晶體管提供了一個(gè)良好的層間界面,從而最大限度地減少了氫雜質(zhì),提高了晶體管的穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)了顯示屏的優(yōu)化性能。這些高
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北方微電子三種高端設(shè)備亮相SEMICON

  •   為了應(yīng)對(duì)市場變化,北方微電子在集成電路設(shè)備研發(fā)的基礎(chǔ)上加大了太陽能電池領(lǐng)域高端設(shè)備的研發(fā)投入,開發(fā)出集成電路12英寸65納米硅刻蝕機(jī)、晶硅太陽能電池PECVD設(shè)備和薄膜太陽能電池PVD設(shè)備,三種高端設(shè)備將在本次展會(huì)上同時(shí)亮相。
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光伏電池設(shè)備趨向大尺寸和自動(dòng)化

  • 光伏發(fā)電將成為未來電網(wǎng)的支柱和方向。隨著我國《可再生能源法》的頒布實(shí)施,以及近兩年我國光伏產(chǎn)業(yè)規(guī)模的迅速擴(kuò)大,生產(chǎn)設(shè)備銷量也大幅增長。2006年國產(chǎn)光伏電池設(shè)備銷售額達(dá)到6億元,比2005年增長76.6%。預(yù)計(jì)2007年國產(chǎn)光伏電池設(shè)備銷售額將超過7億元。 各類國產(chǎn)設(shè)備與國際差距不一 PECVD產(chǎn)能及工藝水平已接近世界先進(jìn)水平,得到越來越多國內(nèi)用戶的使用,但設(shè)備自動(dòng)化程度(自動(dòng)裝卸片)與國外尚有差距。 全自動(dòng)絲網(wǎng)印刷機(jī)在核心技術(shù)上無法取得突破,整體水平和國外差距較大,國內(nèi)生產(chǎn)線幾乎全部采用了價(jià)
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hf-pecvd介紹

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