可加工5納米芯片，尼康宣布開發(fā)新一代ArF浸入式光刻機(jī)，面向尖端半導(dǎo)體制造

NSR-S636E 具有增強(qiáng)型在線對準(zhǔn)站(iAS)，它是集成在涂布機(jī)/顯影器單元和光刻掃描儀之間的芯片預(yù)測量模塊。S636E和 iAS 利用復(fù)雜的多點(diǎn)對準(zhǔn)測量和高級校正功能，使設(shè)備制造商能夠?qū)崿F(xiàn)3D 設(shè)備結(jié)構(gòu)所需的嚴(yán)格疊加精度，同時(shí)最大限度地提高浸入式光刻機(jī)的生產(chǎn)力。NSR-S636E非常適合尖端半導(dǎo)體制造，包括邏輯和存儲(chǔ)設(shè)備、CMOS圖像傳感器應(yīng)用等。關(guān)于NSR-S636E的更多參數(shù)還沒有公布，但是從其上一代S635E宣稱的已經(jīng)可以生產(chǎn)5nm芯片來看，S636E應(yīng)該至少是可以更加高效的生產(chǎn)5納米芯片了，這個(gè)對于我國買不到ASML EUV光刻機(jī)來說，不失為一個(gè)很好的選擇。