可加工5納米芯片，尼康宣布開發(fā)新一代ArF浸入式光刻機，面向尖端半導體制造

NSR-S636E 具有增強型在線對準站(iAS)，它是集成在涂布機/顯影器單元和光刻掃描儀之間的芯片預測量模塊。S636E和 iAS 利用復雜的多點對準測量和高級校正功能，使設(shè)備制造商能夠?qū)崿F(xiàn)3D 設(shè)備結(jié)構(gòu)所需的嚴格疊加精度，同時最大限度地提高浸入式光刻機的生產(chǎn)力。NSR-S636E非常適合尖端半導體制造，包括邏輯和存儲設(shè)備、CMOS圖像傳感器應用等。關(guān)于NSR-S636E的更多參數(shù)還沒有公布，但是從其上一代S635E宣稱的已經(jīng)可以生產(chǎn)5nm芯片來看，S636E應該至少是可以更加高效的生產(chǎn)5納米芯片了，這個對于我國買不到ASML EUV光刻機來說，不失為一個很好的選擇。